• 제목/요약/키워드: CVD-IBS

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PHOTOCATALYTIC DEGRADATION OF 2-CHLOROPHENOL USING TiO₂THIN FILMS PREPARED BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND ION BEAM SPUTTERING METHOD

  • Jung, Oh-Jin;Kim, Sam-Hyeok;Jo, Ji-Eun;Hwang, Chul-Ho
    • Environmental Engineering Research
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    • 제7권4호
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    • pp.227-237
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    • 2002
  • Chemical vapor deposition (CVD), ion beam sputtering (IBS) and sol-gel method were used to prepare TiO$_2$ thin films for degradation of hazardous organic compounds exemplified by 2-chlorophenol (2-CP). The influence of supporting materials and coating methods on the photocatalytic activity of the TiO$_2$ thin films were also studied. TiO$_2$ thin films were coated onto various supporting materials including steel cloth (SS), copper cloth, quartz glass tube (QGT), and silica gel (SG). Results indicate that SS (37 μm)- TiO$_2$ thin film prepared by IBS method improves the photodegradation of 2-CP. Among all supporting materials studied, SS(37 μm) is found to be the best support.

Plasma CVD에 의해 제조된 Iron Silicide 박막의 광학적 특성 (Optical Characteristics of Iron Silicide Films Prepared by Plasma CVD)

  • 김경수;윤용수;정일현
    • 공업화학
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    • 제10권3호
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    • pp.343-348
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    • 1999
  • 저온 공정이 가능한 rf-plasma를 이용한 화학증착법으로 기판의 온도, 출력, $SiH_4$와 천음 함유한 유기화합불 진구체의 희석비 등을 변수로 각 실험 조건에 따라 iron silicide를 제조하였다. 일반적으로 iron silicide 막은 다단계 공정의 Ion Beam Synthesis (IBS)법으로 성장시키고 있으나, 플라즈마를 사용함으로써 단일공정에 의해 $Fe_aSi_bC_cH_d$로 결합된 iron silicide 및 ${\beta}$-상이 형성될 수 있음을 확인하였다. 철 전구체와 실란 (silane)의 희석비에 따라 막 내에 존재하는 탄소와 수소양의 차이로 인해 서로 다른 막의 특성을 나타내었다. 기관의 온도에 따른 광학에너지갭 ($E_b^{opt}$)은 박 표면에 존재하는 수소가 탈착되면서 제공할 수 있는 활성점이 한정되어 있기 때문에 큰 변화가 없었다. 240 watt 이하의 출력에서는 광학에너지갭이 감소하였고, 240 watt 이상의 높은 출력에서는 식각에 의해 미결합수가 증가하여 광학에너지갭은 높게 나타났다.

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