• 제목/요약/키워드: Bipolar anodizing

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H-브리지를 이용한 양극성 금속표면 양극산화장치 개발에 관한 연구 (A study on development of bipolar metal surface anodizing equipment using H-bridge)

  • 양근호
    • 한국전자통신학회논문지
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    • 제6권3호
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    • pp.355-362
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    • 2011
  • 본 논문에서는 특정 용액 내에서 전기분해 원리를 이용하여 금속 표면을 산화시켜 절연피막을 형성하는 장치를 개발한다. 기존에는 주로 양극에만 펄스 형태로 전압을 인가하는 단극성(unipolar) 방식이지만 본 논문에서는 H-브리지를 이용하여 양극에 양(+)전압과 음(-)전압을 번갈아 가면서 공급을 하는 양극성(bipolar) 장치를 제작하여 실험하였다. 공급전류 가변은 PWM 변조를 이용하였으며, (+)와 (-)의 극성변화는 H-브리지를 이용하여 양극성 펄스전압을 공급할 수 있도록 하였다. 그 결과로써 단극성보다 균일한 기공을 갖는 피막이 형성되었다.

티타늄 금속 표면 양극산화장치 개발 (Development of Titanium Metal Surface Anodizing Equipment)

  • 양근호;민병운
    • 한국전자통신학회논문지
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    • 제8권9호
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    • pp.1307-1312
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    • 2013
  • 본 논문에서는 알칼리성 또는 산성을 띠는 특정 용액 내에서 전기분해 원리를 이용하여 금속 표면을 산화시켜 절연피막을 형성하는 장치를 개발한다. 기존에는 주로 양극에만 펄스 형태로 전압을 인가하는 단극성(unipolar) 방식이지만 본 논문에서는 H-브리지를 이용하여 양극에 양(+)전압과 음(-)전압을 번갈아 가면서 전압을 공급하는 양극성(bipolar) 장치를 제작하였으며, 금속 시편의 특성에 맞는 다양한 전기적인 조건을 가지고 산화피막을 형성할 수 있는 장치를 개발하였다. 공급전류 가변은 PWM 변조를 이용하였으며, (+)와 (-)의 극성변화는 H-브리지를 이용하여 양극성 펄스전압을 공급할 수 있도록 하였다. 그 결과로써 단극성보다 균일한 기공을 갖는 피막이 형성되었다.

전해도금에 의한 Ni-C 복합층의 내식성 및 표면 전기저항 (Corrosion and Surface Resistance of Ni-C Composite by Electrodeposition)

  • 박제식;이성형;정구진;이철경
    • 한국재료학회지
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    • 제21권5호
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    • pp.288-294
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    • 2011
  • Simultaneous Ni and C codeposition by electrolysis was investigated with the aim of obtaining better corrosion resistivity and surface conductivity of a metallic bipolar plate for application in fuel cells and redox flow batteries. The carbon content in the Ni-C composite plate fell in a range of 9.2~26.2 at.% as the amount of carbon in the Ni Watt bath and the roughness of the composite were increased. The Ni-C composite with more than 21.6 at.% C content did not show uniformly dispersed carbon. It also displayed micro-sized defects such as cracks and crevices, which result in pitting or crevice corrosion. The corrosion resistance of the Ni-C composite in sulfuric acid is similar with that of pure Ni. Electrochemical test results such as passivation were not satisfactory; however, the Ni-C composite still displayed less than $10^{-4}$ $A/cm^2$ passivation current density. Passivation by an anodizing technique could yield better corrosion resistance in the Ni-C composite, approaching that of pure Ni plating. Surface resistivity of pure Ni after passivation was increased by about 8% compared to pure Ni. On the other hand, the surface resistivity of the Ni-C composite with 13 at.% C content was increased by only 1%. It can be confirmed that the metal plate electrodeposited Ni-C composite can be applied as a bipolar plate for fuel cells and redox flow batteries.

폴리이미드형 8인치 정전기척의 제조 (Fabrication of 8 inch Polyimide-type Electrostatic Chuck)

  • 조남인;박순규;설용태
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제1권1호
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    • pp.9-13
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    • 2002
  • A polyimide-type electrostatic chuck (ESC) was fabricated for the application of holding 8-inch silicon wafers in the oxide etching equipment. For the fabrication of the unipolar ESC, core technologies such as coating of polyimide films and anodizing treatment of aluminum surface were developed. The polyimide films were prepared on top of thin coated copper substrates for the good electrical contacts, and the helium gas cooling technique was used for the temperature uniformity of the silicon wafers. The ESC was essentially working with an unipolar operation, which was easier to fabricate and operate compared to a bipolar operation. The chucking force of the ESC has been measured to be about 580 gf when the applied voltage was 1.5 kV, which was considered to be enough force to hold wafers during the dry etching processing. The employment of the ESC in etcher system could make 8% enhancement of the wafer processing yield.

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