• 제목/요약/키워드: Beryllium dopant

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Highly Efficient Simple-Structure Red Phosphorescent OLEDs with an Extremely Low Doping Technology

  • Jeon, Woo-Sik;Park, Tae-Jin;Kwon, Jang-Hyuk
    • Journal of Information Display
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    • 제10권2호
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    • pp.87-91
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    • 2009
  • Highly efficient red phosphorescent OLEDs (PHOLEDs) with a simple, organic, triple-layer structure was developed using the narrow-bandgap fluorescent host material bis(10-hydroxybenzo[h] quinolinato)beryllium complex (Bebq2) and the deep-red dopant tris(1-phenylisoquinoline)iridium (Ir(piq)3). The maximum current and power efficiency values of 12.71 cd/A and 16.02 lm/W, respectively, with an extremely low doping technology of 1%, are demonstrated herein. The results reveal a practical, cost-saving host dopant system for the fabrication of highly efficient PHOLEDs involving the simple structure presented herein, with a reduction of expensive Ir dopants.

p-GaSb:Be/GaAs 에피층의 Be 준위에 관한 연구 (A Study of Be Levels in p-GaSb:Be/GaAs Epitaxial Layers)

  • 노삼규;김준오;이상준
    • 한국진공학회지
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    • 제20권2호
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    • pp.135-140
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    • 2011
  • Be을 도핑한 p형 GaSb:Be 에피층의 광여기 발광(PL) 스펙트럼(20 K)의 도핑밀도에 따른 변화를 조사하여, Be 억셉터의 근원을 분석하였다. 도핑을 증가시키면 PL 피크가 고에너지로 변위하고 반치폭은 줄어드는 경향을 보이다가, 밀도가 ${\sim}10^{17}cm^{-3}$ 이상에서 피크 에너지는 오히려 저에너지로 변위하고 반치폭이 늘어나는 현상을 관측하였다. 3개 피크로 분리한 PL 스펙트럼의 적분 PL 강도 변화를 통하여, 도핑 증가에 따라 $Be[Be_{Ga}]$ 준위(0.794 eV)는 감소하는 반면 진성결함에 기인한 $A[Ga_{Sb}]$ 피크(0.778 eV)와 함께 Be과 A 사이에 위치하는 새로운 $Be^*$ 준위(0.787 eV)가 증가하기 때문으로 분석되었다. 이것은 Be을 도핑한 p-GaSb:Be 에피층에는 Be 얕은준위(${\Delta}E=16meV$)와 Be과 A 결함준위가 결합한 $Be^*[Ga_{Sb}-Be_{Ga}]$의 복합준위(${\Delta}E=23meV$)가 공존하기 때문으로 논의하였으며, ${\sim}10^{17}cm^{-3}$ 이상 도핑할 경우에는 Be 준위가 다소 감소할 수 있음을 보였다.