Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.05b
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pp.103-106
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2002
The applicability of models based on fractal morphology to characterize $(Ba\;Sr)TiO_{3}$ thin film surfaces was investigated. The fractal morphology of coated barium strontium titan oxide thin film surfaces was described using fractal dimension from scanning electro microscopy image. The $(Ba\;Sr)TiO_{3}$ coating were deposited on silicon wafers using $(Ba\;Sr)TiO_{3}$ solution and spin coater. BST solution was composited by mol ratio, and then spin-coated from 3 times to 5 times coating on $Pt/SiO_{2}/Si$ substrate. Qualitative thin film analysis was performed with scanning electro microscopy (SEM), and surfaces parameters such as average grain diameter, roughness exponent and fractal dimension were determined.
Kim, In-Sung;Min, Bok-Ki;Jeong, Soon-Jong;Song, Jae-Sung;Jeon, So-Hyun
Proceedings of the KIEE Conference
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2006.10a
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pp.7-9
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2006
$(BaSr)TiO_3$ thick films were prepared by tape casting method using $BaTiO_3$ and $SrTiO_3$ powder slurry in order to investigate dielectric properties and low temperature sintering. Sintering density was $5.7\;g/cm^3$ and the BST sample exhibited the maximum dielectric constant, tunability at temperatures near phase transition point. The dielectric constant was increased and curie temperature was shifted to higher temperature with increasing of annealing temperature.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2004.11a
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pp.400-403
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2004
The dielectric properties of $BaTiO_3/SrTiO_3$ multilayered thick films with printing times were investigated. $BaTiO_3/SrTiO_3$ thick films were deposited by Screen-printing method on alumina substrates. The obtained films were sintered at $1400^{\circ}C$ with bottom electrode(Pt) for 2hours. The structural and the dielectric properties were investigated for various printing times. The BST phase appeared in all of the $BaTiO_3/SrTiO_3$ mutilayered thick films. The $BaTiO_3/SrTiO_3$ multilayered thick film thickness, obtained by one printings, was $50{\mu}m$. The dielectric constant and dielectric loss of the $BaTiO_3/SrTiO_3$ multilayered thick film, obtained by five printings, were about 266, 0.8% at 1Mhz, respectively.
Kim, Yoon-Hoe;Jung, Keun;Yoon, Seok-Jin;Park, Kyung-Bong;Choi, Ji-Won
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.326-326
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2010
The dielectric properties of continuous composition spreaded (CCS) $BaTiO_3-SrTiO_3$ (BST) thin filmsgrown at room temperature and annealed at different temperature ($350^{\circ}C$ and $550^{\circ}C$) were investigated. Moreover, electrical properties (leakage current and breakdown voltage) of CCS BST thin films were also investigated. The aluminum top-electrode, sized by $200{\times}200\;{\mu}m2$ and apart from each other by $300\;{\mu}m$, were deposited on the CCS BST thin films by the DC sputtering system. The dielectric properties of the CCS BST thin films were significantly influenced depending on the distance from $BaTiO_3$ and $SrTiO_3$ targets which was attributed to the $BaTiO_3-SrTiO_3$ composition ratio. The maps of dielectric constants and loss tangents were plotted via $1500\;{\mu}m$ - step measuring. The specific points showing the dielectric constant (k: ~300) and loss tangent (tand: ~0.008) at 1 MHz were found.
In this paper, Effect of $BaSrTiO_3/Li_2CO_3$ on low temperature sintering and dielectric property of thick films has been investigated for variable capacitor on high frequency. The thick films were fabricated by the tape casting and then the structural and dielectric properties as a function of an addition composition ratio and sintering temperature were studied. For the thick film sintered at $1050^{\circ}C$, it was densified to 96% of $BaSrTiO_3$ theoretical density by the addition of 10 $wt{\cdot}%$$BaSrTiO_3/Li_2CO_3$. Dielectric constant increased and Curie temperature lowered with the increased of $BaSrTiO_3/Li_2CO_3$ content, which probably can be explained by the substitution of $Ba^{3+},Li^{1+}$ on $RaTiO_3$ lattice. The tunability and dielectric loss of the $BaSrTiO_3/Li_2CO_3$ thick film, sintered at $1350^{\circ}C$, were about 26% and 0.234 at $10{\sim}15MHz$, respectively.
BaO, SrCI2.6H2O 그리고 Ti(OPri)4를 출발 원료로 사용하여 균일한 BaxSr1-xTiO3(BST) 솔을 합성하였고, BST 박막을 회전 코팅 법으로 Si 및 Pt/Ti/SiO2/Si 기판위에 제조하였다. 적외선 및 NMR 스펙트럼 분석으로 킬레이션 조제로 사용한 acetylacetone(AcAc)이 엔올 형태로 Ti-알콕사이드와 결합하여 솔 안정화에 기여함을 확인하였다. Xedrogel에 대한 DT/TGA 및 적외선 스펙트럼 결과로부터 페로브스카이트 상생성이 $600^{\circ}C$ 이상에서 이루어짐을 관찰하였다. $700^{\circ}C$에서 열처리한 박마은 -300(10 KHz)의 상대유전율을 나타내었고, 결정립의 저항 및 입계의 병렬 RC 성분으로 등가회로를 구성할 수 있었다.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.11a
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pp.234-234
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2008
Chemically homogeneous $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ (BST) sols were synthesized using barium acetate, strontium acetate, and titanium isoproxide as starting materials. BST thin films of thickness 340 nm were deposited on Pt/$TiO_2/SiO_2$/Si and alumina substrates using spin coating method. The technique used for the processing of these films was Ultraviolet (UV) sol-gel photoannealing, using phto-sensitivity precursor solutions and UV-assisted rapid thermal processing(UV-RTP). The crystallization behaviour of the BST sols and thin films was studied by differential thermal analysis (DTA) and X-ray diffraction (XRD). Variation of permittivity and dielectric loss were measured in LCR-meter, model HP 4394A.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.286-286
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2007
Li이 첨가된 0.7(Ba,Sr)$TiO_3$-0.3MgO 후막 interdigital 커패시터를 연구하였다. Li이 첨가된 0.7(Ba,Sr)$TiO_3$-0.3MgO의 후막을 $Al_2O_3$ 기판 위에 형성하기 위하여 스크린 프린팅 방법을 이용하였다. $BaSrTiO_3$의 세라믹 물질은 높은 유전율(1MHz에서 500이상)과 낮은 유전 손실(1MHz에서 0.01)값을 가지고 있는 반면, $1350^{\circ}C$의 높은 온도에서 소결되는 단점이 있다. 따라서 본 연구에서는 $BaSrTiO_3$ 세라믹 물질의 유전특성을 향상시키고 $1350^{\circ}C$의 높은 소결온도를 낮추기 위해서, MgO(30wt%)와 Li(3wt%)을 $BaSrTiO_3$에 첨가하였다. 그리고 10um의 후막을 $Al_2O_3$ 기판 위에 스크린 프린팅 방법을 통해 형성한 후, 50um finger gap의 interdigital 커패시터를 Ag 전극을 이용하여 제작하였다. 샘플을 제작하기 전에, Frequency와 유전율의 상관관계를 알아보기 위해 3D simulator를 통해 시뮬레이션 하였고, 주파수와 온도별 유전 특성, 구조와 전암-전류에 대한 특성을 본 연구의 결과를 통해 토의 할 것이다.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2004.07b
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pp.565-568
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2004
An alkoxide-based sol-gel method was used to fabricate $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ thin films doped by Bi from 5 to 20 mol% on a Pt/Ti/SiO2/Si substrate. The structural and dielectric properties of BST thin films were investigated as a function of Bi dopant concentration. The dielectric properties of the Bi doped BST films were strongly dependent on the Bi contents. The dielectric constant and dielectric loss of the films decreased with increasing Bi content. However, the leakage current density of the 10 mol% Bi doped $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ thin film showed the lowest value of 5.13 10-7 at 5 V. The figure of merit (FOM) reached a maximum value of 32.42 at a 10 mol% Bi doped $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ thin films. The dielectric constant, loss factor, and tunability of the 10 mol% Bi doped $BBa_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ thin films were 333,0.0095, and 31.1%, respectively.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1999.05a
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pp.122-125
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1999
(Ba$_{0.6}$Sr$_{0.4}$)TiO$_3$(BST) thin films were fabricated with different deposition temperature and oxygen pressure by Pulsed Laser Deposition(PLD). Energy Dispersive Spectroscopy(EDS) proved that BST thin films prepared by PLD have almost the same stoichiometric composition as the BST target materials. This BST thin films were fully crystallized at $650^{\circ}C$, 300mTorr oxygen pressure and showed a maximum dielectric constant value of $\varepsilon$$_{t}$=684 and dielectric loss was 0.01 at 75$0^{\circ}C$, 300mTorr oxygen pressure.ssure.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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