• 한국자기학회지
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• 제5권5호
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• pp.461-464
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• 1995

We have investigated the effects of sputtering Ar gas pressure on magnetic anisotropy of Co/Pt multilayers, where sputtering Ar gas pressure was varied from 2 to 20 mTorr. The surface and volume anisotropies were found to be strongly dependent on sputtering Ar gas pressure. In particular, the surface anisotropy exhibited more than fourfold enhancement as Ar pressure was decreased from 20 to 5 mTorr. We have found that the surface anisotropy was closely correlated with the low-angle x-ray diffraction intensity. We believe that these results are mainly ascribed to the variation of microstructure in the Co/Pt multilayer thin films with sputtering Ar gas pressure.

• KEPCO Journal on Electric Power and Energy
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• 제1권1호
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• pp.135-140
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• 2015

유도 결합 플라즈마를 활용하여 $Ar/CO_2$ 혼합가스에서 이산화탄소를 분해하는 연구이다. 고밀도 플라즈마를 발생시키기 위해 Ar 가스를 첨가하였고 이산화탄소 분해율을 측정하기 위해 광학적 광량 측정법을 사용 하였다. 유도 결합 플라즈마를 방전시키고 인가 전력, 압력, 혼합가스 비율을 변경하가며 단일 랭뮤어 프로브를 이용해 플라즈마 변수를 얻고 방출 분광기로 얻은 빛의 스펙트럼을 이용하여 분해율을 측정하였다. 측정된 플라즈마 변수로부터 $CO_2$ 유도 결합 플라즈마의 소스 특성을 확인했고 $CO_2$ 분해 메커니즘은 플라즈마 변수에 직접적인 영향을 받기 때문에 그 상관관계를 분석하였다.

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제12권3호
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• pp.19-22
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• 2013

The purpose of this study is to develop a system that can monitor the amounts of energy consumption during CVD and etching process for semiconductor manufacturing. Specifically, this system is designed to measure the $CO_2$ emission amounts quantitatively by measuring the flow rate of gas used and amount of power consumed during the processes. The processes of CVD equipment can be classified generally into processing step and cleaning step and all the two steps were monitored. In CVD and etcher equipments, various gases including Ar and $O_2$ are used, but Ar, $O_2$ and He were monitored with the use of the LCI data of Korea Environmental Industry & Technology Institute and carbon emission coefficients of EcoInvent. As a result, it was found that the carbon emission amounts of CVD equipment for Ar, $O_2$ and He were $0.030kgCO_2/min$, $4.580{\times}10^{-3}kgCO_2/min$ and $6.817{\times}10^{-4}kgCO_2/min$, respectively and those of etcher equipment for Ar and $O_2$ are $5.111{\times}10^{-3}kgCO_2/min$ and $7.172kgCO_2/min$, respectively.

• 한국식품과학회지
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• 제50권3호
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• pp.316-323
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• 2018

본 연구에서는 온도별 포장기체에 따른 곶감의 저장 중 이화학적, 미생물학적 변화를 분석하여, 품질특성을 비교 하였다. 상주 둥시 품종의 곶감을 온도별 (-10, $10^{\circ}C$)로 60일간 저장하였으며, 이화학적 변화는 색도, 텍스처, 수분을 분석하였고, 미생물학적 변화는 효모와 곰팡이 수를 측정하였으며, 마지막으로 관능검사를 통해 품질 특성을 조사하였다. 내부색도는 $10^{\circ}C$에서, 질소구와 Ar구가 유사하게, $-10^{\circ}C$에서 Ar구가 확연하게 무처리구와 이산화탄소에 비해 변화가 적었으며, 그에 따라 계산된 색차값은 이산화탄소 구에서 가장 높았고 지속적으로 증가하였다. 텍스처는 $10^{\circ}C$에서는 저장 40일차까지 Ar구가 가장 변화가 적었으며, 전반적으로 모든 온도에서 텍스처의 변화는 질소에서 가장 적었다. 수분함량은 Ar는 유지되거나 증가하는 모습을 보였다. 곰팡이와 효모 수는 $-10^{\circ}C$에서 Ar구가 유의적으로 다른 구에 비해 집락 수가 감소하였다. 마지막으로 관능검사 결과, 40일차까지 $10^{\circ}C$에서는 색, 향, 전반적 기호도 항목에서 대조구 다음으로 이산화탄소가 낮은 점수를 받았으며, Ar구는 색, 겉모양, 향, 전반적 기호도 항목에서 유의적으로 높은 점수를 나타냈다. $-10^{\circ}C$에서는 전체기간 동안 Ar가 겉모양을 제외하고 가장 높은 값을 보였다. 따라서 본 연구를 통해, 곶감을 포장함에 있어 기체 치환포장은 유통과 저장 과정에서 곶감의 품질을 향상시킬 수 있는 중요한 인자임을 확인 할 수 있었으며, 그 중에서 이산화탄소 기체 포장은 부적절 한 것으로 보인다. 또한 질소와 아르곤 기체 치환포장이 고부가가치의 고품질 곶감 생산에 효과가 있을 것으로 사료된다.

• 멤브레인
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• 제13권2호
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• pp.73-80
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• 2003

폴리메틸펜텐 막(polymethylpentene membrane, PMP)을 Ar, NH_3$ 플라즈마로 표면 처리하고, 처리 전후의 투과 도와 선택도의 변화를 관찰하였다. Ar 플라즈마로 처리하였을 때 O/C의 비율이 증가하며 친수성기 (OH, COOH, C=O)의 도입이 확인되었고 $NH_3$ 플라즈마로 처리하였을 때 아민, 아미노기가 도입되었다. 플라즈마 처리된 폴리메틸펜텐막에서 $CO_2$의 투과도와 $N_2$,에 대한 선택도 (Actual Separation Factor)의 최적조건은 Ar 플라즈마 처리 (30 W-6 min)의 경우 각각 182 Barrer ［$10^{-10}\;cm^3(STP)cm/cm^2$.s.cmHg］와 6.17이며, $NH_3$, 플라즈마 처리 (30 W-8 min)의 경우 각각 144 Barrer [$10^{-10}/cm^2(STP)cm/cm^2$.s.cmHg] 와 6.13을 얻었다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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• pp.169-169
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• 2011

STT-MRAM (수직자화 자기메모리)는 자화반전 현상을 원리로 구동하는 비휘발성 메모리로 기존의 메모리 장치에 비해 빠른 접근 속도와 높은 저장 밀도를 가지며 영구적인 기록이 가능하다. 이러한 장점들에 더해 적은 소모 전력을 지니므로 기존의 SRAM등의 한계를 극복할 대안으로 각광받고 있으며 차세대 메모리 군의 선두주자로 가장 적합한 후보중 하나이다. STT-MRAM의 건식 식각 방식에 있어 가장 큰 이슈는 소자 구동에 핵심적인 역할을 하는 MTJ(Magnetic Tunnel Junction)의 식각이다. MTJ는 free layer, tunnel barrier, pinned layer 3개의 층으로 구성되어 있으며 양 끝 layer에는 강자성체인 CoFeB가 사용되고 tunnel barrier에는 절연층인 MgO가 사용되고 있다. 이러한 물질들은 기존의 반도체 소자에서는 사용되지 않았던 물질들로 기존 공정에서 사용되던 Cl2 based plasma etching에서는 측벽에 비화발성 반응물과 잔류 Cl2에 의해 부식이 발생하는 문제점이 드러나고 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위한 새로운 대안으로 CO/NH3/Ar나 CH4/Ar 같은 새로운 가스 조합을 사용하는 연구가 진행되고 있다. 이러한 연구에 의해 기존의 Cl2 plasma를 이용한 식각에서 나타나는 문제점은 해결이 되었으나 또 다른 문제점들이 보고되고 있다. 본 연구에서는 stack MRAM sample을 사용하여 기존의 사용되는 Cl2/Ar plasma와 대안 gas인 CO/NH3, CH4/Ar plasma에서의 식각을 진행하였으며 실험 조건(gas 비율 변화, Bias power 변화, 식각 시간)에 따른 식각 속도의 변화나 식각 후의 profile에 대하여 관찰하였다. 이에 따라 식각후에 어떠한 차이점이 있는 지를 알아보았으며 CO/NH3나 CH4/Ar plasma에서 식각시 나타나는 문제점에 대하여도 조명해 보았다.

• Toxicological Research
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• 제18권3호
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• pp.233-240
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• 2002

In view of the effect of $\beta_2$-Adrenergic receptors ($\beta_2$-AR) as a risk factor for essential hypertension, we investigated the Fnu4HI and MnlI RFLPs of $\beta_2$ -AR gene in the Korean patients with essential hypertension and normal controls. There were no significant differences in the allele and genotype of these polymorphisms between normotensive and essential hypertensive subjects. In ethnic comparison, the allele frequencies of these three sites contained Nde I RFLP reported the association with essential hypertension in Korean population previously, were very different from those of other ethnic populations studied. The significant linkage disequilibrium was detected only in hypertensive group between Nde I and Fnu4HI sites. The Fnu4HI RFLP was also significantly associated with plasma triglyceride (TG) level. Therefore, our results suggest that the significant association between Fnu4HI variation in the human $\beta_2$-AR gene and plasma TG level may reflect the potential role of human $\beta_2$-AR gene as one of the genetic components for cardiovascular risk.

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제43권1호
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• pp.76-79
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• 2005

Magnetic random access memory(MRAM) 소자재료로 사용되고 있는 NiFe, NiFeCo, Ta 등의 박막을 $Cl_2/Ar$ 유도 결합 플라즈마를 이용하여 식각하였다. NiFe와 NiFeCo의 식각 속도는 특정 ICP 공급 전력에서 최대값을 나타냈지만, Ta의 식각 속도는 ICP 공급 전력이 증가함에 따라 증가하였다. RF 하부전극 전력이 증가하면서 자성박막의 식각 속도는 증가하였지만, 공정압력과 $Cl_2$의 농도가 증가함에 따라 점진적으로 감소하였다. 식각 후에 염소에 의한 표면 부식을 방지하기 위해 이온수로 5분간 세척하였다. 식각 프로파일은 $Cl_2$ 농도가 50%일 경우에 식각 단면에 식각 잔유물들이 존재하지 않는 부드러운 단면을 얻을 수 있었다.

• 한국방사성폐기물학회:학술대회논문집
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• 한국방사성폐기물학회 2003년도 가을 학술논문집
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• pp.90-95
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• 2003

환형기체(Annulus Gas) 계통의 화학적 관리는 계통 재질의 건전성 확보와, 계통내 냉각재 또는 감속재 중수 유입 여부 감지 및 방사선량 저감화 등을 통하여 설비의 안전성과 신뢰성을 유지하는데 목적이 있다. 환형기체 계통의 화학 관리절차서 중 CO_2$ 규격 관리는 계통 재질의 건전성 확보와 방사선량 증가에 직결되기 때문에 고순도의 품질 보증이 요구되고 있다. CO_2$의 순도가 기준 값에 미달될 경우는 계통내에 직접적인 영향을 줄뿐 아니라 주변 환경으로의 오염 가능성도 상존하기 때문에 불순물의 정량관리는 매우 중요하다. 따라서 중수로 환형기체 계통에 공급되는 CO_2$ 중의 C, N_2$ 및 Ar등의 농도분석을 통하여 계통내에서 생성 될 수 있는 방사능 inventory를 평가하였으며 CO_2$의 불순물 관리 최적화와 중수로에서 생성되는 기체 방사성 폐기물 관리에 유용한 정보로 사용 될 수 있을 것이다.

• 한국해양학회지:바다
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• 제26권4호
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• pp.327-342
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• 2021

연안은 전 지구 관점에서 대기 이산화탄소를 흡수하는 것으로 평가된다. 그동안 동해의 탄소 순환에 관한 연구들이 울릉분지에 집중되어 있어서 동해 연안이 탄소 순환에 기여하는 역할에 대한 이해는 제한적이다. 본 연구에서는 표층의 생물학적 과포화도(𝚫O₂/Ar)와 이산화탄소 분압(fCO₂)의 변화를 관측하여 울릉분지와 연안의 생물 펌프 세기 및 탄소 흡수력을 비교하였다. 연안은 저온 저염한 환경으로 고온 고염한 울릉분지와 대비되었다. 삼척과 포항 연안에서는 울릉분지에 비해 높은 생물량과 𝚫O₂/Ar, 낮은 fCO₂ 분포를 보여 연안에서 더 많은 일차 생산이 일어나 용존 CO₂ 흡수를 촉진한 것으로 나타났다. 삼척과 포항 연안에서 𝚫O₂/Ar을 기반으로 추정된 순군집생산(net community production)은 각각 19 ± 6과 60 ± 9 mmol O₂ m^-2d^-1로 울릉분지의 8 ± 4 mmol O₂ m^-2d^-1에 비하여 약 2-7배 가량 활발하게 생물 펌프가 작동하고 있었다. 삼척과 포항 연안의 CO₂ 교환율은 각각 -17.1 ± 8.9와 -25.8 ± 13.2 mmol C m^-2d^-1로, 울릉분지의 -4.7 ± 2.5 mmol C m^-2d^-1보다 약 4배에서 5배 가량 높았다. 삼척과 포항 연안에서는 울릉분지에 비하여 질소포화도가 최대 3% 낮게 나타나 일차생산자에 의한 질소 고정이 일어났을 가능성을 제시하였다.