• 제목/요약/키워드: Al-Si 합금

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전자교반식 수평연속주조법에 의한 반응고 Al 합금의 제조에 관한 연구 (A Study on the Fabrication of Semi-solid Al Alloys by EMS Horizontal Continuous Casting Process)

  • 박기범;송영배;김영환;김경헌;김인배
    • 한국재료학회지
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    • 제10권2호
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    • pp.117-123
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    • 2000
  • 본 연구에서는 반응고 Al합금을 얻기 위해서 3상 2극의 전자교반장치를 이용하였으며, 주입온도와 주입전압을 변화시켜 Al합금의 초정입자크기, aspect ratio, 표준편차, 경도 및 공정 Si 입자의 크기 및 형상 변화를 조사하였다. 같은 주입온도에서는 주입전압이 증가함에 따라 aspect ratio, 표준편차 및 초정입자의 크기는 감소되었다. 전자교반식 수평연속주조방법에 의한 Al 합금의 최적제조 조건은 주입전압 220V, 주입온도 68$0^{\circ}C$이었으며, 이 조건에서 초정입자의 크기는 54$\mu\textrm{m}$이었고, aspect ratio는 1.56이었으며 그 표준편차는 0.4이었다. 그리고 공정 Si의 크기는 0.5$\mu\textrm{m}$이었으며 제조된 Al합금의 경도는 72.1 Hv를 나타내었다. 본 연구를 위해 제작된 3상 2극 전자교반장치에 의해서 매우 낮은 aspect ratio 및 표준편자를 갖는 반응고 A356 Al합금을 제조할 수 있었다.

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$CF_{4}$ 기체를 이용한 $Ta_{0.5}Al_{0.5}$ 합금 박막의 플라즈마 식각 (Application of $CF_{4}$ plasma etching to $Ta_{0.5}Al_{0.5}$ alloy thin film)

  • 신승호;장재은;나경원;이우용;김성진;정용선;전형탁;오근호
    • 한국결정성장학회지
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    • 제9권1호
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    • pp.60-63
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    • 1999
  • Ta-Al 합금 박막의 건식식각에 대하여 조사하였다. $CF_{4}$ 기체를 이용한 반응성 이온 식각(Reactive Ion Etching, RIE)이 1:1 조성의 Ta-Al 합금 박막의 식각에 적용될 수 있음을 확인하였으며, 식각속도는 $67{\AA}/min$으로 측정되었다. 그리고 $CF_{4}$ 기체는 Ta-Al 합금 박막과 $SiO_{2}$ 층간에 선택성이 없다는 것이 확인되었으며, $SiO_{2}$ 층의 식각속도는 Ta-Al 박막의 경우보다 약 12배 빠른 $800{\AA}/min$으로 측정되었다. 그 외에 $CF_{4}$ 기체를 이용한 반응성 이온 식각에서는 Shiepley 1400-27 Photo Resist 보다 AZ 5214 Photo Resist가 더 안정적이라는 것이 조사되었다.

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V-Al 합금의 응고조직 및 기계적 성질에 관한 연구 (Studies on Solidification Microstructure and Mechanical Properties of Vanadium-Aluminum Alloys)

  • 남승의
    • 한국주조공학회지
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    • 제11권6호
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    • pp.491-497
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    • 1991
  • Vanadium은 비중이 6.09로써 비교적 무거운 금속에 속하나 Al을 30wt% 이내로 첨가하여 $Ni_3Al$ 및 TiAl와 유사한 비강도가 크며 내열성을 지니는 V-Al합금을 얻을 가능성을 지니고 있다. 본 연구에서는 V-Al합금에 Si, Y, Ti, B등 제3원소를 첨가함에 따르는 미세 응고조직의 거동과 기계적 성질을 조사하였다. 알곤 분위기에서 제조된 V-30%Al합금은 상온에서 고용체와 취성이 큰 금속간 화합물인 $VAl_3$등 2상으로 존재하므로 용체화 처리 과정이 요구되며 24시간 이상 장시간 열처리에 의하여 단일 고용상을 이룰 수 있었다. 규소의 첨가는 금속간 화합물의 형성과 아울러 합금의 경도를 크게 증가시키는 경향을 나타내며 B을 0.3%정도가지 첨가할 때 경도가 낮아지는 현상이 관찰되었다. �c칭된 V-30%Al 합금은 입계면을 따라 decohesive rupture 현상을 나타내며 입자간 파괴 현상도 일부 관찰되었다.

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알루미늄 Paste의 Glass frit 첨가에 따른 Al-Si alloy 층의 변화 (A study of Al-Si alloy layer with the glass frit in the aluminum paste)

  • 송주용;박성은;김성탁;김현호;강민구;탁성주;이병철;김동환
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2010년도 춘계학술대회 초록집
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    • pp.77.2-77.2
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    • 2010
  • 스크린 프린팅을 이용한 태양전지에서 전극소성 시 알루미늄 후면 전극이 실리콘으로 확산되어 후면전계(Back Surface Field)를 형성한다. 후면전계 형성시 알루미늄과 후면전계 사이에 알루미늄-실리콘 합금이 형성된다. 이 알루미늄-실리콘 합금은 알루미늄 후면전극의 전기전도도 및 휨현상, bead 형성 등에 영향을 끼친다. 본 논문은 알루미늄 페이스트에 첨가된 Glass frit이 알루미늄-실리콘 합금 형성에 끼치는 영향을 관찰하였다. 분산제, 유기바인더, 알루미늄을 섞어 1개의 페이스트를 만들었고, Glass frit을 1%, 2%, 3%, 4%, 5% 씩 첨가하여 총 6개의 알루미늄 페이스트를 만들었다. 절삭손상이 제거된 실리콘 기판의 후면에 알루미늄 페이스트를 스크린 프린팅하여 전극을 소성하였다. 주사전자 현미경(SEM)을 사용하여 시편의 단면사진으로부터 Glass frit 함량에 따른 알루미늄-실리콘 합금층의 변화를 관찰하였다. Glass frit이 첨가되지 않은 페이스트는 소성 후 알루미늄-실리콘 합금이 두껍게 형성되었으나, Glass frit이 첨가된 페이스트는 소성 후 알루미늄-실리콘 합금이 얇게 형성되는 결과를 얻었다. 또한 Glass frit을 첨가함에 따라 표면의 원형 모양의 무늬가 작아지면서 3%부터는 사라지는 것을 확인할 수 있었다.

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Al-Mg-Si계 합금의 인장 특성에 미치는 합금 원소의 영향 (The Effect of Alloying Elements on the Tensile Property of Al-Mg-Si Alloy)

  • 박정호;권용남;이영선;강신우;이병근;이정환
    • 한국소성가공학회:학술대회논문집
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    • 한국소성가공학회 2004년도 추계학술대회논문집
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    • pp.234-237
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    • 2004
  • As an automotive industry's demand for lighter materials gets bigger and bigger, a lot of new strength Al alloys have been developed recently. In the present study, Al 6xxx series alloys were designed to get the strength level of 350MPa with the elongation of $12\%$. For that purpose, three alloy systems were selected based on the thermodynamics calculation. The effect of both $Mg_{2}Si$ precipitate and excess Si amount on the newly designed alloys was investigated. Also, heat treatment procedure was studied to optimize the mechanical properties.

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