• 한국진공학회지
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• 제10권2호
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• pp.164-172
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• 2001

기계가공으로 제작되고 알칼리 화학세정을 거친 알루미늄합금(A5083) 진공용기에 대한 기체방출 특성을 조사하였다. 상온배기를 시작한 후 가열탈기체 처리를 하기 전 까지 배기곡선은 ~$t^{-1.15}$ 모양을 따랐다. 이 알루미늄 진공용기에 대한 배기곡선을 비교적 간단한 모델들을 사용하여 용기의 내표면에 흡착되어 있는 물의 1차 방출로 분석하였다. ~$10^{-5}-10^{-8}$Torr 압력구간에서 물분자는 ~17 - 22 kcal/mol사이의 탈리에너지 값을 가지는 몇 개의 흡착석에서 방출됨을 알 수 있었다. 한편 $100^{\circ}C$, 24 시간 가열 탈기체 처리후 알루미늄용기에 대한 기체방출률은 상온에서 ~1$\times$$10^{-13}$ Torr$\ell$/s $\textrm{cm}^2$로 측정되었다.

• 한국안전학회지
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• 제14권4호
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• pp.114-119
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• 1999

When NaOCl was generated and put into sea-water cooling machine in order to overcome the biological hindrances against sea-water cooling machine, it was converted into metallic ion, particularly Ca and Mg, as a hydrate in sea-water and is to stick to electrolyte as a side reaction. This phenomena make the distance between the electrolytes narrow to decrease the flow rate, which induces the local vortex flow which erodes the pole plate. Moreover, this increases the resistance of the electrolyte as well as voltage to decrease the electrolytic efficiency, which has curtailed a chlorine yield and caused a pole plate cut. We are able to overcome these problems by chemical cleaning and intend to extend the life-time of electrolyte and to increase output of the sea-water electrolysis facilities by studying optimal policy regarding chemical cleaning of electrolytic cell. Cleaning time of electrolytic facilities is determined when both increase in electrolytic efficiency and decrease in pole-plate voltage are 10%. At this time as operating current of electrolytic facilities is high, operating time is diminished. Whereas, parameter of end point determination according to cleaning is Mg ionic concentration in solution. When we use Cleaner as a 7wt% HCl, cleaning time is about 80min proper. We are able to maintain pole plate performance by protecting against pole plate cut by means of electrolytic by-product, improve operating rate of facilities, and cut down on maintenance expenditure after acidic cleaning.

• 한국물환경학회지
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• 제25권1호
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• pp.120-124
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• 2009

This study was performed to investigate the application of submerged membrane bioreactor (MBR) system for biological nutrient removal of municipal wastewater. MBR bioreactor consists of four reactors such as anaerobic, stabilization, anoxic and submerged membrane aerobic reactors with two internal recycles. The hydraulic retention time (HRT), sludge retention time (SRT) and flux were 6.2 hr, 34.1 days and $19.6L/m^2/hr$ (LMH), respectively. As a result of operation, the removal efficiency of $COD_{Cr}$, SS, TN and TP were 94.3%, 99.9%, 69.4%, and 74.6%, respectively. There was no significant effect of microbial activity after the maintenance cleaning using 200 mg/L of NaOCl. Membrane filtration for the treatment of municipal wastewater was performed for longer than 9 months without chemical recovery cleaning.

• 상하수도학회지
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• 제30권3호
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• pp.335-341
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• 2016

Various studies have forwarded an outstanding wastewater effluent treatment systems toward securing sustainable supply of water sources. In this paper, a broad overview of the performance of MF membrane as pretreatment option for wastewater reuse will be presented based on the literature survey and experiments conducted over the wastewater reuse pilot plant. The pilot plant was operated with a continuous data acquisition for about 300days under various chemical enhanced backwash (CEB) system with subsequent treated water quality analysis. Accordingly, assessment of the effluent revealed that the pretreated water is suitable enough to be used as an input for Reverse Osmosis (RO) unit and significant effect of CEB and concentration of NaOCl is also conceived from the analysis. Moreover, it's also observed that the application of various CEB condition over long operational hours induced a constant declination of overall performance of MF membrane.

• 한국안전학회지
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• 제14권1호
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• pp.86-92
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• 1999

This study was carried out to investigate the effect of chemical cleaning of corrosion product on cooling system made of copper as a basic material and using cooling water as pure water. We studied chemical cleaning condition that minimizes the influence on basic material by means of EDTA solution so as to eliminate the slurry in cooling system. In addition, the proper amount of NALCO-39L (Nitrite-Borate-BZT mixture) as a inhibitor was determined in order to protect the copper in cooling system against corrosion after chemical cleaning and the effect of corrosion resistance on the copper surface treated was excelent in comparison with surface untreated. As a result, we found that the main components of sludge in cooling system produced by corrosion of copper were $Cu_2O$, CuO, Cu, and Fe. The optimum condition of chemical cleaning was 400ppm EDTA solution at $60^{\circ}C$. Inhibitor concentration needed to treat the surface of pure copper was 15～20ppm per unit area and corrosion rate of copper treated with 500ppm inhibitor solution for 72 hrs at $60^{\circ}C$ was remarkably decreased as compared with that of pure copper.

• 청정기술
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• 제10권3호
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• pp.149-158
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• 2004

초임계 이산화탄소는 다양한 화학공정에 유용한 성질을 지니고 있어 친환경 용매로 사용되고 있으나 이산화탄소의 극성 물질과 비휘발성 물질에 대한 낮은 용해력은 실제 공정에 있어 목표로 하는 물질을 균일상태로 만들지 못하는 단점을 가지고 있다. 친이산화탄소기를 갖는 이산화탄소용 계면활성제의 설계는 이러한 이유로 인하여 큰 의미를 갖는다. 이산화탄소용 계면활성제는 염색, 섬유 세탁, 고분자 중합과 가공, 반도체 세정, 전기 도금 및 화학 반응의 청정화 요구에 크게 기여하고 있다.

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제16권3호
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• pp.41-46
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• 2017

This study aims to select suitable co-solvents and to obtain optimal process conditions in order to improve process efficiency and productivity through experimental results obtained under various experimental conditions for the etching and rinsing process using liquid carbon dioxide and supercritical carbon dioxide. Acetone was confirmed to be effective through basic experiments and used as the etching solution for MEMS-wafer etching in this study. In the case of using liquid carbon dioxide as the solvent and acetone as the etching solution, these two components were not mixed well and showed a phase separation. Liquid carbon dioxide in the lower layer interfered with contact between acetone and Mems-wafer during etching, and the results after rinsing and drying were not good. Based on the results obtained under various experimental conditions, the optimum process for treating MEMS-wafer using supercritical CO2 as the solvent, acetone as the etching solution, and methanol as the rinsing solution was set up, and MEMS-wafer without stiction can be obtained by continuous etching, rinsing and drying process. In addition, the amount of the etching solution (acetone) and the cleaning liquid (methanol) compared to the initial experimental values can be greatly reduced through optimization of process conditions.

• 공업화학
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• 제17권2호
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• pp.201-209
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• 2006

활성탄과 제올라이트 13X를 충진시킨 흡착탑에 흡착질인 벤젠을 포화 흡착시킨 후 여러 가지 탈착 방법에 대한 효율을 살펴보았다. 뜨거운 수증기에 의한 탈착, 세정 기체에 의한 탈착, 진공에 의한 탈착 등을 실험하였고, 그 결과 뜨거운 수증기에 의한 탈착이 가장 좋은 탈착 방법으로 판단되었다. 또한 뜨거운 수증기는 흡착탑 내의 온도를 상승시키면서 탈착을 야기시키고 수증기 탈착 과정 이후에는 건조 공정이 수반되어야만 효율이 높아짐을 알 수 있었다. 건조 공정이 수반되지 않을 경우는 수증기가 추후에 흡착을 방해하는 결과를 초래하였다. 진공에 의한 탈착은 효과가 매우 적은 것으로 나타났는데 이로부터 벤젠의 경우에 압력 변화에 의한 탈착 보다는 온도 변화에 의한 탈착이 더 효과적인 것으로 판단되었다. 세정 기체에 의한 탈착에서는 진공 탈착과 함께 이루어질 때 좋은 탈착 성능이 나타남을 알 수 있었다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.258-258
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• 2016

최근 디스플레이 산업의 발전에 따라 고성능 디스플레이가 요구되며, 디스플레이의 백플레인 (backplane) TFT (thin film transistor) 구동속도를 증가시키기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 트랜지스터의 구동속도를 증가시키기 위해 높은 이동도는 중요한 요소 중 하나이다. 그러나, 기존 백플레인 TFT에 주로 사용된 amorphous silicon (a-Si)은 대면적화가 용이하며 가격이 저렴하지만, 이동도가 낮다는 (< $1cm2/V{\cdot}s$) 단점이 있다. 따라서 전기적 특성이 우수한 산화물 반도체가 기존의 a-Si의 대체 물질로써 각광받고 있다. 산화물 반도체는 비정질 상태임에도 불구하고 a-Si에 비해 이동도 (> $10cm2/V{\cdot}s$)가 높고, 가시광 영역에서 투명하며 저온에서 공정이 가능하다는 장점이 있다. 하지만, 차세대 디스플레이 백플레인에서는 더 높은 이동도 (> $30cm2/V{\cdot}s$)를 가지는 TFT가 요구된다. 따라서, 본 연구에서는 차세대 디스플레이에서 요구되는 높은 이동도를 갖는 TFT를 제작하기 위하여, amorphous In-Ga-Zn-O (a-IGZO) 채널하부에 화학적으로 안정하고 전도성이 뛰어난 SnO2 채널을 얇게 형성하여 TFT를 제작하였다. 표준 RCA 세정을 통하여 p-type Si 기판을 세정한 후, 열산화 공정을 거쳐서 두께 100 nm의 SiO2 게이트 절연막을 형성하였다. 본 연구에서 제안된 적층된 채널을 형성하기 위하여 5 nm 두계의 SnO2 층을 RF 스퍼터를 이용하여 증착하였으며, 순차적으로 a-IGZO 층을 65 nm의 두께로 증착하였다. 그 후, 소스/드레인 영역은 e-beam evaporator를 이용하여 Ti와 Al을 각각 5 nm와 120 nm의 두께로 증착하였다. 후속 열처리는 퍼니스로 N2 분위기에서 $600^{\circ}C$의 온도로 30 분 동안 실시하였다. 제작된 소자에 대하여 TFT의 전달 및 출력 특성을 비교한 결과, SnO2 층을 형성한 TFT에서 더 뛰어난 전달 및 출력 특성을 나타내었으며 이동도는 $8.7cm2/V{\cdot}s$에서 $70cm2/V{\cdot}s$로 크게 향상되는 것을 확인하였다. 결과적으로, 채널층 하부에 SnO2 층을 형성하는 방법은 추후 높은 이동도를 요구하는 디스플레이 백플레인 TFT 제작에 적용이 가능할 것으로 기대된다.

• 공업화학
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• 제20권4호
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• pp.430-436
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• 2009

가솔린 자동차 배출가스에 장기간 노출되어 활성이 저하된 폐 삼원촉매를 대상으로 재제조를 수행하였다. 재제조된 삼원촉매, 자동차 배출가스에 노출되지 않은 신촉매와 폐 삼원촉매에 대해 촉매의 물성분석과 CO, THC 및 NOx에 대한 전환활성을 측정하여 비교 분석하였다. 폐 삼원촉매의 재제조는 증류수 및 산성용액을 이용하여 초음파 세정하는 것과 세정된 촉매에 촉매의 활성성분인 Pt, Pd 및 Rh를 재함침하는 방법으로 수행하였다. 폐 삼원촉매를 재제조하는 과정에서 촉매표면에 축적되었던 각종 불순성분들이 대부분 제거 되었으나 촉매활성 성분인 Pt나 Pd 또한 함께 제거되는 것으로 판단되었다. 촉매활성 성분을 함침하여 폐 삼원촉매를 재제조 할 경우 재제조된 촉매의 활성은 신촉매의 활성보다 같거나 우수한 것으로 나타났다.