• Title/Summary/Keyword: 플라즈마 디스플레이

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A Study on the DC Power Supply for Plasma Sputtering Process (플라즈마 스퍼터링 공정용 DC 전원장치에 관한 연구)

  • Kwon, Min-Jun;Lee, Woo-Cheol
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2019.07a
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    • pp.165-167
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    • 2019
  • 플라즈마 스퍼터링 공정은 반도체, 디스플레이 등 다양한 분야에서 사용되어지고 있는 박막 코팅 공정이다. 플라즈마 스퍼터링 공정의 특성상 안정된 플라즈마를 공급하기 위하여 펄스 전원장치를 요구 하게 된다. 본 논문은 플라즈마 스퍼터링 공정용 DC 전원장치를 통해 안정된 플라즈마를 공급하고 증착 효율을 높이기 위한 연구를 진행한다.

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아노다이징 진공부품 특성 정량화 연구

  • Yun, Ju-Yeong;Song, Je-Beom;Sim, Seop;Park, Myeong-Su;Sin, Jae-Su;Sin, Yong-Hyeon;Gang, Sang-U;Kim, Jin-Tae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.101-101
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    • 2011
  • 최근 반도체 및 디스플레이 사업의 급속한 발전으로 인해 반도체 공정은 초미세선폭화, 대면적화 되면서 오염입자를 제어하는 것이 이슈가 되고 있다. 반도체 및 디스플레이의 제조공정 중 챔버 내 진공부품은 진공상태에서 플라즈마에 의해 물리적인 데미지와 화학적으로 매우 활성이 높은 라디칼(Radical)반응에 의한 부식이 진행된다. 이러한 공정영향에 의해 챔버 내 부품들은 부식이 되고 공정 중에 오염입자가 발생하게 되어 반도체 및 디스플레이의 수율저하에 큰 영향을 미치고 부품교체 비용 또한 많이 들고 있다. 본 연구에서는 진공부품의 내전압측정방법을 이용하여 진공부품의 피막특성을 평가하는 연구방법으로서 내전압 지그(Zig)를 표준화하여 제작하였고, 재현성있는 데이터로 피막특성을 정량적으로 측정하는 방법을 연구 하였다. 식각공정 중에 발생하는 부식특성에 관해서는 화학부식와 플라즈마부식 열충격 등 각각 독립적으로 부식환경에 노출시켰으며, 진공부품의 손상 전 후의 내전압 특성변화를 이용하였다. 또한, CCP (Capacitativly Coupled Plasma)형의 RF magnetic sputter을 설계 제작하였고 진공부품에 고밀도 플라즈마를 발생시켜 플라즈마데미지에 의해 발생한 오염입자를 실시간으로 monitoring하여, 정량적으로 측정된 내전압특성결과를 비교 검증하였다.

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산업용 플라즈마 장비의 웨이브릿 감시

  • Kim, Su-Yeon;Kim, Byeong-Hwan;Son, Jong-Won;Han, Jeong-Hun;Seo, Seung-Hun
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.10a
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    • pp.86-89
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    • 2006
  • 본 연구에서는 웨이브릿 기법을 응용한 플라즈마 장비를 감시하는 기법을 보고한다. 소자제조업체에서 가동중인 플라즈마 증착장비에서 센서정보를 수집하였으며, 이를 이산치 웨이브릿을 이용하여 변환 시킨 후, 민감도 측정을 위해 고안된 메트릭 (Metric)을 적용하였다. 총 18개의 센서정보에 대하여 민감도를 계산하였으며, 민감도는 $21{\sim}300%$ 범위에서 증진하였다. 특이 센서패턴을 제외하고는 Raw 데이터에 비해 75% 이상의 민감도를 향상시켰으며, 이는 본 기법이 플라즈마 센서정보의 고장에 대한 민감도를 증진하는데 효과적임을 보여 준다.

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CUSUM 제어 차트를 이용한 플라즈마 장비 임피이던스 정합망 센서정보의 실시간 감시

  • Kim, U-Seok;Kim, Byeong-Hwan
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.10a
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    • pp.90-95
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    • 2006
  • 본 연구에서는 반도체 플라즈마 장비 감시를 위한 CUSUM 제어 차트 설계기법에 관해 연구하였다. CUSUM 제어차트에 관여하는 설계변수의 다양한 조합에 대하여 플라즈마 장비의 감시 성능을 평가하였다. 평가를 위해 RF 정합망 감시시스템을 이용하여 플라즈마 임피이던스 정합에 관여하는 정합변수에 대한 실시간 데이터를 수집하였으며, 여기에는 임피이던스와 상위치에 대한 전기적 정보, 그리고 반사전력에 대한 정보가 포함된다. 평가결과, 설계변수의 조합에 대하여 감시 성능이 크게 달랐지만, 각 센서 정보의 감시 성능을 증진시키는 설계변수의 조합이 있었음을 확인하였으며, 이는 각 종 다양한 센서정보 별 CUSUM 제어 차트의 설계가 필요함을 의미한다.

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대면적 플라즈마 공정을 위한 ferrite module을 이용한 U-type 내장형 선형 유도결합 플라즈마 소스에 관한 연구

  • Hong, Seung-Pyo;Im, Jong-Hyeok;Gwon, Gwang-Ho;Kim, Gyeong-Nam;Yeom, Geun-Yeong
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.96-96
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    • 2009
  • ferrite module을 설치한 내장형 선형 유도결합 플라즈마 소스를 이용하여 차세대 디스플레이 산업에서의 적용 가능성에 대하여 연구하였다. ferrite module을 적용함으로써 플라즈마 밀도 및 균일도의 향상을 관찰하였으며, 공정 중에 플라즈마의 안정성을 증가시킬 수 있었다.

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Noise Reduction Design of Plasma Display Panel (플라즈마 디스플레이의 저소음 설계)

  • Park, Dae-Kyong;Kweon, Hae-Sub;Jang, Dong-Seob
    • Proceedings of the Korean Society for Noise and Vibration Engineering Conference
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    • 2002.11a
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    • pp.369.2-369
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    • 2002
  • For the evaluation of the plasma display panel (PDP)'s noise, vibration and sound characteristics of fanless PDP are measured and investigated. PDP is a type of two-electrode vacuum tube which operatres on the same principle as a household fluorescent light. An inert gas such as argon or neon is injected between two glass plates on which transparent electrodes have been formed, and the glass is illuminated by generating discharge. (omitted)

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