• 제목/요약/키워드: 평활도

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질화처리에 의한 기판 평면 평활도의 변화가 GaN 성장에 미치는 영향 (Effect of Substrate Surface Roughness Modified by Nitridation on GaN Growth)

  • 정재식;변동진;김병화;이재인;유지범;금동화
    • 한국재료학회지
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    • 제7권11호
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    • pp.986-990
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    • 1997
  • LED와 LD의 수명과 효율은 결정에 존재하는 결함의 밀도에 반비례하며, 이러한 결함의 밀도는 적당한 기판을 사용하거나, 기판의 표면을 적절하게 제어함으로써 줄일 수 있다. GaN성장시 원자 단위의 매끄러운 표면은 완충충 성장이나 질화처리를 함으로써 얻어질 수 있다. 이렇게 얻어진 원자 단위의 매끄러운 표면에 의해 기판과 박막상이의 계면 자유에너지가 감소하기 때문에 2D성장이 촉진된다. 사파이어(AI$_{2}$O$_{3}$(0001))기판을 사용한 GaN 왕충충성장과 진화처리에 대한 최적조건은 AFM(Atomic Force Microscope)측정 결과에 의해 결정되었다. AFM에 의해 얻어진 표면 평활도의 개념은 사파이어 기판을 사용한 GaN박막성장의 최적조건을 결정하는 데 있어서 높은 신뢰도를 가질 수 있다.

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구역 별 히스토그램을 이용한 개선된 히스토그램 처리 기법 (Improved Histogram Processing Techniques Using Zone-Specific Histogram)

  • 김도원;위승우;정제창
    • 한국방송∙미디어공학회:학술대회논문집
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    • 한국방송∙미디어공학회 2019년도 추계학술대회
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    • pp.46-49
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    • 2019
  • 본 논문에서는 구역을 나눔으로써 상황에 따라 강조하고 싶은 부분을 부각시키는 방법을 활용하여 히스토그램을 처리하는 기법을 제안한다. 기존의 히스토그램 스케일링과 평활화 방법은 간단한 알고리듬으로 사용이 편하지만 쓸 수 없는 상황이 존재한다. 먼저 히스토그램 스케일링에서는 사진이 갖고 있는 명암 최댓값과 최솟값을 늘리는 방법이지만, 범위를 늘릴 수 없는 경우에는 이 방법이 제한된다. 히스토그램 평활화는 사진이 갖고 있는 명암의 히스토그램 누적분포함수 (CDF)가 일정한 기울기를 갖게 변환하는 방법이다. 이 방법에서는 밝기 변화가 거의 없었던 부분에서 품질이 낮아지는 단점이 있다. 제안하는 알고리듬은 영상에서 강조하고 싶은 부분을 설정한 뒤, 구역을 나눔으로써 기존의 히스토그램 스케일링과 히스토그램 평활화의 단점을 개선했다. 제안한 알고리듬을 평가하기 위해서 주관적인 지표로 20명을 대상으로 설문을 진행하였다. 블라인드 테스트로 원본과, 기존의 히스토그램 처리 기법을 이용한 영상, 제안된 히스토그램 처리 기법을 이용한 영상을 비교하였다. 실험 결과를 통해 제안된 알고리듬이 기존의 알고리듬보다 영상의 화질을 개선했음을 확인했다.

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가변계수 측정오차 회귀모형 (Varying coefficient model with errors in variables)

  • 손인석;심주용
    • Journal of the Korean Data and Information Science Society
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    • 제28권5호
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    • pp.971-980
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    • 2017
  • 가변계수 회귀모형은 회귀계수의 동적변화를 모형화함으로써 종속변수와 입력변수의 관계에 대한 쉬운 해석이 가능하고 회귀계수의 변동성도 추정할 수 있는 장점을 지니고 있으므로, 여러 과학 분야에서 많은 주목을 받고 있다. 본 논문에서 입력변수와 출력변수의 오차를 효과적으로 고려한 가변계수 오차모형을 제안한다. 가변계수가 평활변수의 알려지지 않은 형태의 비선형함수이므로 이를 추정하기 위하여 커널 방법을 사용한다. 제안된 모형의 성능에 영향을 미치는 초모수의 최적값을 구하기 위하여 일반화 교차타당성 방법 또한 제안한다. 제안된 방법은 모의자료와 실제자료를 이용한 수치적 연구를 통하여 평가된다.

Al 6061 합금에서 마찰인자 및 상온 유동응력에 미치는 변형율 속도 영향 (Effect of the strain rate on friction factor and flow stress at Al 6061 alloy)

  • 박종수;윤존도;김국주;이정환
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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    • pp.95-95
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    • 2003
  • 특정한 마찰 또는 윤활조건 하에서 변형율 속도가 마찰인자에 미치는 영향을 관찰하기 위하여, 약 1$\times$$10^{-3}$/sec, 1$\times$$10^{-2}$/sec, 1$\times$$10^{-1}$/sec에 해당되는 3종류의 변형율 속도에서 평활금형, 흑연계윤활제 및 2황화 몰리브덴계 윤활제에 대한 마찰인자를 상온에서 각각 측정하였다. 측정방법으로서는 외경, 내경 및 높이 비가 6 : 3 : 2인 Al 6061 연주재 ring시편을 공칭변형율 65%까지 약 10% 씩 단속적으로 압축한 후 재윤활 하여주는 단속적 상온 압축시험 방법을 적용하였다. 측정결과, 변형율 속도가 증가함에 따라 윤활제를 사용하지 않은 평활금형에서의 마찰인자는 0.25에서 0.31로 증가, 흑연계 윤활제 적용시에는 0.23에서 0.15로 감소하는 경향을 각각 나타내었고, 2황화 몰리브덴계 윤활제 적용시에는 각각의 변형속도에서 측정된 인자는 0.09-0.10 범위 내로써 마찰인자에 미치는 변형율속도 영향이 아주 미미함을 보여주었다. 본 연구 결과에서는 이 측정결과로부터 각각의 변형속도에서 Al 6061 연주재의 원통형 압축시편으로부터 구한 압축측정응력으로부터 상온유동응력을 구하여 상호 비교하고자 하였다.

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복합재료의 수리후 피로거동 고찰 (Study of Fatigue Behavior of Repaired Composites)

  • 최재원;황운봉;박현철;한경섭
    • Composites Research
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    • 제12권3호
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    • pp.26-35
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    • 1999
  • 복합재료내의 결함을 원공노치로 가정하고 노치의 크기에 따른 정하중 및 피로실험을 수행하였다. 원공이 존재하는 복합재료에 대하여 다양한 수리기법을 적용하여 정하중 실험을 수행하였다. 수리기법중에 precured double patched 방식과 cure-in-place 방식의 수리는 가장 우수한 결과를 보여 평활재의 약 60∼80%의 강도복구효과를 보였다. 우수한 결과기법을 나타낸 수리기법중에 보다 실제적인 방식이라고 사료되는 cure-in-place 방식으로 수리된 재료에 대하여 피로실험을 수행하였다. 수리된 재료는 정하중 및 피로의 경우에 있어서 향상된 결과를 보였으며 피로시 평활재의 거동을 나타낸다. 참고계수를 도입하여 회귀분석된 피로수명예측식(MFLPE's)은 수리된 시편에 비해 타 예측식에 비해 더 좋은 결과를 나타낸다.

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단조 서포트벡터기계를 이용한 카플란-마이어 생존함수의 평활 (Smoothing Kaplan-Meier estimate using monotone support vector regression)

  • 황창하;심주용
    • Journal of the Korean Data and Information Science Society
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    • 제23권6호
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    • pp.1045-1054
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    • 2012
  • 서포트벡터 기계는 분류 및 비선형 함수추정에서 유용하게 사용되고 있는 통계적 기법이다. 본 논문에서는 두 개의 입력변수와 회귀함수의 단조 관계를 이용하여 단조 서포트벡터기계를 제안하고, Kaplan-Meier의 방법에 의해서 생존함수의 추정값이 주어진 경우 제안된 방법을 이용하여 생존 함수를 평활하는 방법 또한 제안한다. 모의실험에서는 실제 생존함수를 이용하여 Kaplan-Meier의 방법에 의한 생존함수의 추정값과의 성능을 비교함으로써 제안된 방법의 우수성을 보이기로 한다.

선형 근사 평활 발전 비용함수를 이용한 경제급전 문제의 최적화 (Optimization of Economic Load Dispatch Problem Using Linearly Approximated Smooth Fuel Cost Function)

  • 이상운
    • 한국인터넷방송통신학회논문지
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    • 제14권3호
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    • pp.191-198
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    • 2014
  • 본 논문은 복잡한 비평활 발전비용함수를 가진 경제급전의 최적화 문제를 풀기 위해 단순히 선형 근사함수를 이용하는 방법을 제안하였다. 제안된 알고리즘은 비평활 발전비용 함수를 선형으로 근사시키고, 요구량이 현재의 발전량을 초과하는 경우 발전단가가 비싼 발전기의 가동을 중지시키고, 발전단가가 보다 큰 발전기의 발전량을 감소시켜 요구량과 발전량의 균형을 맞추는 개념을 도입하였다. 경제급전 문제의 시험사례로 빈번히 활용되고 있는 데이터에 대해 제안된 알고리즘을 적용한 결과 기존의 휴리스틱 알고리즘의 최적화 해를 획기적으로 감소시킬 수 있었으며, 현재 실무적으로 적용되고 있는 2차 평활함수 근사법과 유사한 결과를 얻었다.

이중적 정칙화 연산자를 사용한 영상복원 (The Image Restoration using Dual Adaptive Regularization Operators)

  • 김승묵;전우상;이태홍
    • 한국통신학회논문지
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    • 제25권1B호
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    • pp.141-147
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    • 2000
  • 선형적인 움직임에 의하여 흐려지고 가산잡음으로 훼손된 영상을 복원할 경우, 잡음을 평활화하면 동시에 윤곽도 같이 평활화 되며, 윤곽을 복원하면 잡음도 동시에 강조되는 이중성을 지닌다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 논문에서는 평면에선는{{{{ {I-H}^{ } }} }}연산잔가 효과적이고 윤곽에서는 Laplacian 연산자가 효과가 있는 점을 이용하여 훼손된 영상의 평면영역에서는{{{{ {I-H}^{ } }} }}정칙화 연산자를 윤곽영역에서는 Laplacian 정칙화 연산자를 적응적으로 적용하는 알고리듬을 제안한다. 본 논문에서 제시한 복원방법을 실험결과를 통해 기존의 방법과 비교해보면 평면에서의 잡음의 평활화가 개선되고 윤곽에서의 리플잡음이 줄었음을 알 수 있다. 또한 이것은 우리의 시각이 가지는 평면에서의 잡음의 가시도에 따른 시각적인 효과가 개선되었음을 알 수 있었으며, 기존의 방법에 비해 더욱 우수한 ISNR을 얻을 수 있었다.

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Multi Layer Coating에서의 품질 영향인자에 대한 고찰

  • 김영권;곽상효;이경현;정종국
    • 한국펄프종이공학회:학술대회논문집
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    • 한국펄프종이공학회 2001년도 춘계학술발표논문집
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    • pp.78-78
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    • 2001
  • 현재 Lab Coating은 실험의 정확성 및 재현성을 위해 기존의 Hand Coating에서 탈피하여 Mayor Coater나 CLC(Cylindrical Laboratory Coated) 등을 사용하여 주로 진행된다. Lab Coater로는 현재 가장 진보된 장비라고 할 수 있는 CLC의 경우 속도와 metering 방식 등에서 현장과 유사한 조건을 재현할 수 있다. 그러나 CLC를 사용하여 Multi Layer C Coating을 실시할 경우 원하는 도공량을 얻기 위해서는 상당한 시간과 노력이 필요하며 특히 Triple Coating의 경 우는 더 힘 든 과정 을 거 쳐 야 한다. 그래서 본 연구에서는 도공량 변화 및 Color Formulation 변경에 의한 물성변화를 측정 하여 Triple Coating에서 두 인자가 각각의 품질에 미치는 영향을 비교 분석하여 어느 정도 도공량 변화가 Color Formulation 변화에 상응하는 영향을 주는지를 파악하고자 하였다.코팅은 CLC 6000을 이용하여 실시하였으며, rod와 blade를 사용한 Triple coating을 5가 지 경우의 Color Formulation에 대하여 실시하였다. 변화시켜 코팅한 후 도공량에 따른 백지물성 관계를 분석한 결과 백색도, 평활도, 거칠음도, 투 기도,2도 trap, Set-Off, Dr${\gamma}$ pick은 총도공량과 강한 상관관계를 보였고, 광택도와 K&N은 총도공량보다는 Top 코팅량과 강한 상관 관계를 보였다. 동일한 코팅칼라를 이용하여 인쇄물성을 고찰하였다. 도공량과 물성의 그러나 동일한 코팅칼라를 사용하여 얻어진 일련의 상관성은 Color Formulation이 변경 되었을 경우 전혀 발견할 수 없었다. 즉 Triple Coating에서 코팅칼라 변경이 품질에 미치는 영향은 도공량 변화에 비해 절대적이어서 몇십%의 현을 억제하지는 못한다는 결론을 도출할 수 있었다.

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실리콘 기판상의 ZnO 박막의 성장 및 구조적 특성 (Growth and structural characterization of ZnO thin film on silicon substrate by MOCVD method)

  • 김광식;이정호;김현우
    • 한국진공학회지
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    • 제11권2호
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    • pp.97-102
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    • 2002
  • 유기금속화학기상증착방법 (metal-organic chemical vapor deposition : MOCVD)을 이용하여 실리콘 (100) 기판위엔 ZnO막을 증착하였다. 공정온도 ($250^{\circ}C$~$400^{\circ}C$)와 Ar과 $O_2$가스의 유량 비 변화에 따른 ZnO막의 특성변화를 조사하였다. 막의 결정성은 공정온도가 증가함에 따라 향상되었으며 $400^{\circ}C$에서 $0.4^{\circ}$의 반치폭(full width at half maximum : FWHM)을 얻었다. 공정온도 변화에 따른 표면 평활도(surface smoothness)변화는 결정성과 반대의 경향성을 보였다.