• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2004년도 춘계학술대회 논문요약집
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• pp.223-223
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• 2004

반도체 및 TFT LCD 제조 공정에서 핵심 공정인 Photo 공정은 PR(Photo Resist, 감광액) Coating -) Exposure(노광) -. Develop(현상)으로 이루어져 있다. 이중 Exposure 공정에 사용되는 장치가 노광장비이다. 노광장비는 Mask Aligner 라고도 불리는데, 그만큼 정렬기술이 노광장비에서는 중요하다. 반도체 및 TFT LCD 는 여러 충의 회로를 쌓아감으로써 층과 층간의 전기적 작용으로 생성되는 Tr.(Transistor) 또는 Diode 등의 수동소자를 집적하는 기술로 제조되는 것으로, 층과 층간의 전기적 작용이 설계한 바와 같이 이루어지기 위해선, 층과 층 사이의 정렬이 정확히 이루어져야 한다.(중략)

• 방송과미디어
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• 제18권3호
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• pp.27-39
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• 2013

디스플레이 칩 상에 홀로그램을 표시할 때는 칩 자체의 화소 배열 구조에 의해 주어지는 회절 현상에 의해 표시되는 홀로그램의 재생상이 위치될 상 공간과 이 재생상을 볼 수 있는 시역이 정의된다. 그리고 상기 회절 현상뿐만 아니라 홀로그램 자체의 간섭무늬 패턴 구조에 의한 회절에 의해 생성된 회절 패턴이 상 공간 내에서 재생상과 중첩되어 나타나므로 이들은 잡음으로 주어진다. 이들 회절 패턴들은 칩 자체의 화소 구조 및 간섭무늬의 특성에 의해 주어지므로, 이들 칩이나 평판 표시패널의 고유한 것이어서 제거가 아주 어렵다. 그러므로 이들 칩들을 홀로그램 표시장치로 지속적인 사용을 위해서는 이들 문제의 해결이 필요하다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문집
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• pp.1290-1294
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• 2004

Exposure System is used for printing a prescribed pattern on a printed board, a liquid crystal substrate or the like. In this paper we are trying to develop projection Optics Exposure System for manufacturing Color Filter of LCD Display. This paper explain the Projection Optics Design and Illumination Optics Design of Color Filter Exposure system.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2003년도 제14회 정기총회 및 03년 동계학술발표회
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• pp.276-277
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• 2003

전체 반도체 소자 제조 공정의 40 ％를 차지하고 있는 리소그래피 기술은 기억 소자뿐만 아니라 마이크로 프로세서, ASIC 등의 실리콘 소자와 군사 및 통신에 많이 사용되고 있는 화합물 반도체를 만드는 데도 쓰이고 있고, 요즈음은 DRAM 의 리소그래피 기술들을 LCD 등의 평판 표시 장치, 디스크 헤드, 프린터 헤드 및 MEMS(Micro-Electro-Mechanical System), 나노 바이오 칩 등의 제작에 응용하여 쓰고 있다. 리소그래피 기술은 생산 원가 면에서 제일 큰 비중을 차지하고 있을 뿐만 아니라 집적소자의 초고집적화 및 초미세화를 선도하는 기술이다. (중략)

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2009년도 추계학술대회 초록집
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• pp.129-130
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• 2009

다이아몬드상 탄소 (Diamond-like Carbon; DLC) 박막은 광학재료의 보호 및 무반사 코팅, 저마찰 오버코팅 및 평판 표시소자의 전계방출 Tip 코팅 등 다양한 분야에 응용이 기대되고 있는 재료이다. 이온빔 방식의 DLC 박막 제조 장치를 이용하여 다양한 조건에서 DLC 박막을 제조하고 그 특성을 평가하였다.

• 센서학회지
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• 제9권2호
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• pp.120-126
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• 2000

본 논문은 평판형 센서, 아날로그 증폭기, 이득 조성 가능한 A/D 변환기 및 표시장치로 구성되는 휴대용 전장 측정기에 대하여 기술하였다. 극저주파 대역의 시변전장 검출을 위한 센서의 원리를 설명하고, 원통형 가드전극계와 평행평판 전극계의 교정장치를 제안하였다. 교정실험 결과로부터 전장측정기의 주파수 대역과 감도는 각각 $17[Hz]{\sim}7[kHz]$, 4.45[mV/V/m]이었다. 또한 측정 가능한 최대 전장의 세기는 10[kV/m]이며, 측정 결과는 액정화면에 숫자로 표시된다. 본 전장측정기는 전력선, 컴퓨터 및 헤어드라이기나 히터와 같은 가전기기 등에서 방사되는 전장의 세기 측정에 광범위하게 적용될 것이다.

• 한국의학물리학회지:의학물리
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• 제18권2호
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• pp.98-106
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• 2007

2005년 6월 연세의료원 세브란스병원에서는 진단목적으로 20대의 5 mesa 화소 Totoku ME511L 평판 LCD 표시장치를 추가하여 PACS를 확장하였다. 20대의 Totoku ME511L 표시장치를 대상으로 반사, 휘도 반응, 휘도 공간 의존, 분해능, 잡음, 베일링 그레어, 그리고 색도 항목에 대하여 AAPM TG 18보고서에 기준하여 정량적인(또는 시각적인) 인수검사를 실시하였다. 측정에 사용된 장치는 색도를 측정할 수 있는 만원경식 휘도계, 조도계, 반사 측정에 필요한 빛 선원, 빛 차단 장치, 그리고 TG18 테스트 패턴들이었다. 선택된 8대의 표시장치에 대한 평균 확산 반사계수($R_d$)는 $0.019{\pm}0.02sr^{-1}$이었다. 휘도 반응 검사에서, 휘도비(LR), 최대 휘도 변이($L_{max}$), 그리고 최대 대조도 반응 변이는 각각 $550{\pm}100,\;2.0{\pm}1.9%$, 그리고 $5.8{\pm}1.8%$이었다. 휘도 균일도 검사에서, 최대 휘도 변이는 TG18-UNL10 테스트 패턴의 10% 휘도에 대하여 $14.3{\pm}5.5%$이었다. 분해능 측정은 휘도 측정법으로 수행하였으며 중심에서 퍼센트 휘도(${\Dalta}L$)는 $0.94{\pm}0.64%$이었다. 시각적인 방법의 잡음측정의 모든 경우에서, 중앙 및 주위 4사분면에서 가장 작은 것을 제외하고 15개의 모든 정사각형의 표적을 인식할 수 있었다. 글레어 비(GR)은 $12,346{\pm}1,995$이었다. 최대 색도 균일도 지표(D)는 $0.0025{\pm}0.0008$이었다. 또한 국내 실정에 적합한 진단용 표시장치의 정도관리 가이드라인 연구 결과를 제시하였다. 모든 인수검사 결과는 AAPM TG18 보고서 기준에 포함되어 진단 목적으로 사용하기에 적합하였다. 결론으로 인수검사는 표시장치가 진단에 사용하기에 적합한 성능임을 알려줄 뿐만 아니라 정도관리의 가이드라인, 최적 판독 환경, 그리고 표시장치의 교체시기를 결정하여주는 중요한 역할을 할 수 있다.

• 전자공학회논문지B
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• 제30B권10호
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• pp.27-34
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• 1993

In this paper, a driver system is designed and implemented to achieve 4-level gray scale CH TFEL(Thin Film ElectroLuminescent) flat panel display. To implement the driver system, commercial EL driver IC chips are used to apply high voltage pulses to the EL panel and a high voltage switching circuit is designed for the EL driver IC. A new method of reducing storage delay time of transistor is proposed to obtain a reliable switching circuit. The controller for EL driver and switching circuit is also designed. The designed driving scheme applicable to EL display with 4-level gray scale is based on the linear characteristics of brightness vs. frequency of AC TFEL. By experiment, it has been shown that the brightness of AC TEFL display with the implemented driving system is controlled by the level of gray scale.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2003년도 춘계학술발표강연 및 논문개요집
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• pp.95-95
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• 2003

최근, 대면적 평판표시소자 제작을 위한 전기발광 (EL; electroluminescence)소자용 소재로서 GaN 분말을 적용하고자 하는 연구가 진행되고 있다. 이와 같이 GaN 분말을 EL 소재로 사용하기 위해서는 원하는 파장의 빛을 발광할 수 있도록 특정의 불순물을 첨가하여야 할 필요가 있다. Mg이 첨가된 GaN 분말의 합성과 특성에 대한 연구가 있었으며, 희토류 원소가 첨가된 GaN 분말의 특성이 보고된바 있다. 본 논문에서는 GaOOH 분말을 출발물질로 채택하여 Zn가 첨가된 GaN 분말을 합성하고 광학적인 특성을 조사하였다. Zn가 첨가된 GaN 분말을 합성하기 위하여, 우선 CaOOH 분말 1g과 일정량의 ZnO 또는 Zn(NO$_3$)$_3$를 함께 섞어 유발에서 습식 혼합한 후 건조시켰다. Ga에 대한 Zn의 몰 비는 0.1부터 30 까지 변화시켰다. 반응온도는 900~110$0^{\circ}C$의 범위에서 변화시켰고, 반응시간은 1~4시간 범위에서 변화시켰으며, NH$_3$의 유량은 400 sccm으로 하였다. X선 회절분석장치를 사용하여 결정구조를 확인하였고, Zn의 첨가에 따른 광학적 특성은 10 K의 온도에서 광루미네센스(PL; photoluminescence)를 측정하여 평가하였다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2009년도 제40회 하계학술대회
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• pp.2057_2058
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• 2009

반도체 및 평판표시장치(Flat Panel Display) 공정에서 필수적으로 사용되는 박막 두께 측정기를 개발하였다. 측정방식은 FPP법의 dual configuration 측정원리를 적용하였으며 측정범위는 수 nm ~수십 ${\mu}m$이다. 순수한 금속 박막에 대하여 측정이 가능하며 박막 시료의 표면에 probe를 접촉시키면 두께가 자동 측정 되므로 박막 시료의 측정위치에 관계없이 누구나 쉽고 정확하게 사용할 수 있다. 저항 측정기능에서 재현성과 반복성 및 직선성은 0.1 % 이하의 불확도 범위에서 우수한 특성을 나타냈다.