나노임프린트 공정으로 제작된 동일한 형태의 패턴 구조를 변형하거나, 표면의 특성을 조절하는 것은 임프린트 공정의 응용성을 높일 수 있는 유용한 기술이다. 본 연구진은 플라즈마와 열처리를 통하여 임프린트 나노패턴의 크기를 변형하는 연구[1]와 나노구조의 형태에 따른 표면특성의 변화 연구[2]를 수행한 바 있는데, 본 연구에서는 나노임프린트 패턴의 구조 및 표면특성을 단일 칩 내에서 연속적으로 변화하도록 제작하는 방법에 관해 고찰하였다. 나노임프린트 공정으로 제작한 패턴을 반응성이 연속적으로 변화하도록 고안된 산소 플라즈마 장치에서 식각하여 구조를 연속적으로 변형하고, 전자현미경(SEM)과 원자힘현미경(AFM), 집속이온빔(FIB) 등을 통해 표면과 단면을 확인하였으며, 구조변형 이후의 후처리에 따른 접촉각 등의 변화를 관찰하여 임프린트 나노구조 패턴 표면의 화학적 특성을 조절하는 방법을 탐구하였다. 본 연구 결과는 단일한 모 패턴으로부터 다양한 크기의 패턴을 제작하고 화학적 특성을 조절하는 것이 가능함을 보이는 것으로서, 향후 이러한 연속적 변화를 갖는 미세구조를 이용하여 혼합 물질의 분리 및 바이오 물질의 검출 등에 응용할 수 있을 것으로 기대된다.
디자인 패턴은 소프트웨어 설계 시 반복적으로 발생하는 문제를 해결하기 위한 방법을 기술한다. 특히, 객체지향 기술을 기반으로 하는 컴포넌트 설계 시 디자인 패턴을 활용함으로써 특정 설계 문제에 대한 해결책을 재사용할 수 있다. 좋은 객체 지향 설계는 재사용성, 확장성 및 유지보수성을 제공하는 것이며, 디자인 패턴은 좋은 설계에 필요한 구성 요소들의 관계 구조를 제시한다. 본 논문은 객체지향 기반의 컴포넌트 프레임워크 설계 시 프레임워크의 확장성과 구현 컴포넌트의 재사용성을 늘리기 위한 방안으로 디자인 패턴의 활용법을 제시한다. 특히, 알고리즘 재사용의 구조를 제시하는 전략 패턴과 처리 절차 재사용의 구조를 제시하는 템플릿 메서드 패턴의 구조를 비교하고, 분산 통신 컴포넌트 설계 시 전략 패턴의 적용 사례를 보여준다.
본 논문은 패턴 지향 설계를 함에 있어 필요한 구조적 디자인 패턴의 가시적 조립을 목적으로 하며, 재사용 가능한 패턴들을 명세 및 조립하는 방안을 제안함으로써 애플리케이션 설계의 복잡성을 감소시키고자 한다. 본 논문은 패턴 지향 설계를 함에 있어 필요한 구조적 디자인 패턴의 가시적 조립을 목적으로 한다. 디자인 패턴 컴포넌트의 명세에서 패턴 인터페이스들 사이의 관계를 명시적으로 정의하며 패턴의 내부와 인터페이스 사이의 관계를 기술한다 디자인 패턴 컴포넌트의 조런은 패턴 타입과 인스턴스 네임으로 구성되며, 두 패턴 사이의 관계는 종속으로 지시되고 저장소로부터 패턴을 선택하여 종속을 정의하고 방향을 정해주게 된다.
소프트웨어 재사용의 문제는 두 가지 측면에서 검토해 볼 수 있는 데, 하나는 이미 개발이 완료된 소프트웨어 컴포넌트를 조합하여 재사용하는 방법이고, 다른 한 가지는 소프트웨어들이 공통적으로 갖는 구조적인 패턴을 정의해서 재사용 하는 방법이다. 물론 이 두 가지가 소프트 웨어의 구조설계에 중요한 방법이긴 하지만, 이 두 방식의 차이점은 소프트웨어 컴포넌트는 프로그램 컨텐츠가 채워진 빌딩블록들을 재사용 하여 소프트웨어를 쉽게 구성하는 것인 반면, 소프트웨어 구조패턴은 빌딩블록의 내용보다는 빌딩블록의 틀, 즉 빌딩블록간의 연결을 통한 구조화에 더 관심이 있는 것이라고 하겠다. 논문은 후자의 경우와 같이 소프트웨어 응용에서 많이 발견되는 구조적인 소프트웨어 패턴을 분석하고 체계적으로 정의하여, 이 패턴들이 소프트웨어 구조 설계 시 유용하게 활용될 수 있도록 하는 데 목적을 두고 있다. 특히, 이제까지 소프트웨어의 구조적인 패턴을 설명하는 데 중요한 모델이 되어 왔던 소프트웨어 구조 스타일을 분석하고 정형화하여 다양한 응용의 소프트웨어 구조설계에 활용될 패턴형 컴포넌트를 정의하고자 한다.
본 논문에서는 설계 하중에 지배되는 구조물에 있어서, 입력 파라미터들의 불확실성을 표준편차와 패턴의 변동, 두 차원에서 접근, 처리할 수 있는 방안을 제시하기 위해서 구조물에 입력으로 작용하는 하중 패턴의 결정과 구조물의 형상의 진화를 동시에 고려할 수 있는 Co-Evolutionary Structural Design framework라 명명한 새로운 구조 설계 방식을 개발하였다. 공학자의 직관과 경험 의존적인 하중을 대상으로 최적화된 구조물은, 성능에 완벽한 안전을 보장해 줄 수 없으며, 이에 관한 문제를 해결하기 위해서 주어진 상황 속에서 다양한 하중이 작용하더라도 안전할 수 있는 구조물의 설계 방식에 관해서 설명한다. 본 프레임워크는 연성을 가지는 두 Disciplinary Modules, 즉 구조 형상설계와 하중설계로 이루어지며 하중에 관한 DB로 연결되어 순차적인 MDO 설계과정을 거치게 된다. 두 Discipline은 설계과정을 거치면서 상호 견제의 틀 속에서 진화하며 기존 방식과 달리 극한 하중 패턴을 스스로 찾아서 설계 반영하는 특징을 가진다. 본 접근 방식의 유용성을 평가하기 위해서 10-bar truss 구조물과 Jacket-Type 구조물로 테스트해 보았다.
구조광을 이용하는 깊이 정보 획득 방법에서 코드화된 패턴의 색상 정보는 촬영된 영상으로부터 패턴을 해석하여 패턴의 위상 변화량으로부터 물체의 깊이 정보를 찾기 위함으로 구조광 패턴들이 대상에 정확하게 투영되는 것이 중요하다. 그러나 프로젝터의 특성에 따라 패턴의 RGB 채널들이 종종 좌표에서 어긋나는 현상이 발생하게 된다. 본 논문에서는 프로젝터의 특성에 따른 컬러 구조광의 캘리브레이션을 위한 방법을 제안한다. 제안하는 방법은 시변화 가시구조광 시스템의 캘리브레이션 과정 중에서 투사된 영상으로부터 RGB 패턴 채널을 추출하고, 추출된 패턴으로부터 각 RGB 채널에 대한 히스토그램을 통하여 패턴 채널이 어느 방향으로 번져 나갔는지를 파악하여 원 패턴에 대한 재정렬을 수행한다. 본 논문의 실험결과에 따르면, 기존의 방법에 비해 간단한 방법으로 가시구조광 패턴에 대한 캘리브레션을 수행할 수 있음을 보여준다.
컬러 구조광을 이용한 깊이 정보 획득 시스템에서 구조광의 패턴의 색상 정보를 정확하게 추출하는 것이 중요하다. 본 논문에서는 시변화 가시구조광 시스템을 위한 색상 패턴을 해석하는 방법에 대해서 제안한다. 제안하는 방법은 시변화 가시구조광의 패턴이 투사된 영상으로부터 투사된 색상 정보를 추출하고, 추출된 색상 정보로부터 색상 패턴의 ID를 추출한다. 추출된 정보는 물체에 대한 깊이 정보로 계산될 수 있다. 패턴 ID를 빠르고 정확하게 추출하기 위해 최초의 원 패턴 정보를 기반으로 하여 Look-up 테이블을 구성하고, 이 테이블 정보를 이용하여 초기 패턴 ID 정보를 추출한다. 이후 추출된 패턴 ID에 대해서 신뢰도를 바탕으로 비어있는 정보를 채워준다. 본 논문의 실험에서는 제안하는 방법이 기존의 방법에 비해 정확하면서도 빠르게 색상 패턴 정보를 찾을 수 있음을 보여준다.
기존의 광학리소그래피방법으로는 나노크기의 패턴을 형성하는데에 있어서 많은 제약이 있으며, 사실상 수십나노크기의 패턴을 형성하는데에는 전자빔리소그래피등 새로운 패턴형성 방법이 요구되고 있다. 블록 공중합체를 이용한 나노 패턴은 서로 다른 화학적 구조를 가지는 고분자들이 공유결합으로 연결되어 있는 분자구조를 이용하여, 하나의 분자 내에 서로 다른 블록들이 상분리를 일으키려는 것과 동시에 이들의 공유결합으로 인해 그 정도가 제한되는 것을 이용하여 라멜라, 실린더, 구 등의 주기적으로 배열된 형태의 구조물을 형성하는 패터닝 기술이다. 블록 공중합체를 이용한 나노크기의 패턴 형성은 열역학적으로 안정적인 구조이며, 대면적으로 구현 할 수 있어서 차세대 소자제작을 위한 제작기술로 많은 관심을 가지고 있다. 하지만 블록공중합체를 이용한 나노패턴 기술은 선행적으로 나노구조체를 결함이 없고, 원하는 형태로 제작 할 수 있는 공정의 확립이 필요하다. 따라서 본 연구에서는, 이러한 블록 공중합체을 이용한 나노패턴을 제조하는 공정에서, 폴리스틸렌과 실리콘 산화물 박막과의 표면반응을 막기 위한 Self-Assembly Monolayers (SAMs) 처리 공정이 패턴 형성에 미치는 영향을 알아보기 위하여 MPTS의 농도 및 처리시간을 변화시켰다. 나노패턴을 분석, 확인하기 위하여 Atomic Force Microscopic (AFM)과 Field Emission Scanning Electron Microscope (FESEM)을 이용하였다.
반도체 재료의 결정구조를 분석하기 위하여 사용되는 전자현미경의 전자선 회절패턴 형성에 대하여 연구하였다. 결정질 재료의 회절현상을 논의하기 위해 역격자이론에 대하여 간단히 살펴보고 X선과 전자선 회절패턴의 차이점 등을 고찰하였다. 파동역학에 기초한 회절물리학의 운동학 이론(kinematic theory)을 기본으로 하여 실리콘 결정에 대한 구조인자(structure factor) 및 형태인자(shape factor)를 계산하고 회절패턴으로부터 면지수를 결정하는 과정을 논의하였다. Basic program을 구성하여 전자현미경의 입력 data로부터 해당 회절패턴을 형성하도록 하였으며 이 결과는 실제의 패턴과 일치하였다. 이 program은 추후 전자현미경의 컴퓨터 시뮬레이션을 위하여 중요하게 이용될 수 있을 것으로 판단되었다.
객체지향 프레임워크는 다수의 응용 소프트웨어 개발에 반복적으로 재사용되므로 철저한 시험이 요구될 뿐만 아니라 재사용시 확장된 프레임워크에 대해서도 추가적인 시험이 필요하다. 본 논문에서는 재사용시 다양한 형태의 객체 구조들로 개조, 확장될 수 있는 프레임워크의 가변부위에 대해 구조적 테스트 패턴들을 프레임워크의 합성 패턴들로부터 조직적으로 추출하는 방법을 기술한다. 여기서 제안된 방법은 가변부위 클래스 구조의 테스트 모델을 정형 명세화하고, 이로부터 시험에 필요한 구조적 테스트 패턴을 추출하는 방법을 제공한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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