• 제목/요약/키워드: 콜로이달 실리카 피막

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황산구리 전해욕의 전착피막에 미치는 콜로이달실리카의 영향 (Effect of Colloidal Silica on Electredeposited Film from Copper sulfate Bath)

  • 이상백;김병일;윤정모;박정현
    • 한국재료학회지
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    • 제11권5호
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    • pp.413-418
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    • 2001
  • 황산구리 전해욕에 분산제인 콜리이달 실리카($SiO_2$현탁액)를 첨가시키는 분산도금의 방법을 이용하여 음극에 석출하는 전해 석출물의 결정구조, 표면형상, 결정방향 등의 변화를 검토하였고 내식성, 물리적 특성 또한 조사하였다. 콜로이달 실리카를 분산시킨 구리 전해욕의 석출피막의 특성에 대해서 조사한 결과, 다음과 같은 결론을 얻었다. 전해 석출피막의 결정입자가 미세화 되고, 균일하게 성장됨은 물론, 결정 수가 증가하였으며, 콜로이달 실리카의 분산 효과에 의해서 전해 석출피막의 경도가 대략 16%까지 상승하였다. 또한 콜로이달 실리카를 분산시킨 극리 전착층의 X-선 회절패턴이 (111)면, (200)면과 (311)면이 거의 소멸되어 우선 방위가 (111)에서 (110)면으로 변화되었다. 부식전위의 측면에서도 콜로이달 실리카의 흡착 효과에 의해서 구리 전착층의 전위가 귀하게 이동하는 효과를 얻을 수 있었다.

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구리 전착층에 미치는 콜로이달실리카 및 음극 Pre-Coating의 영향 (Effect of Colloidal Silica and Pre-Coating of Cathode on Copper Electrodeposited Film)

  • 이상백;윤정모;박형호;배인성;김병일
    • 한국재료학회지
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    • 제11권7호
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    • pp.569-574
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    • 2001
  • 황산구리 전해욕에 분산제인 콜로이달 실리카($SiO_2$현탁액)를 첨가시키는 분산도금의 방법과 Au pre-coating을 이용하여 음극에 석출하는 전해 석출물의 결정구조, 표면형상, 결정방향 등의 변화를 검토하였다. 실리카 분산 및 Au pre-coating에 의하여 전해 석출피막의 결정입자가 미세화 되고, 균일하게 성장됨은 물론, 결정 수가 증가하였다. 콜로이달 실리카의 분산 효과에 의해서 전해 석출피막의 경도가 대략 15%까지 상승하였다. 또한 콜로이달 실리카를 분산시킨 구리 전착층의 X-선 회절패턴이 (111)면, (200)면과 (311)면이 거의 소멸되어 우선 방위가 (111)에서 (110)면으로 변화되었다.

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다양한 화성처리 용액 조건에서 마그네슘-알루미늄 합금위에 형성된 박막의 특성 평가 (Characteristics Evaluation of Thin Films Formed on Mg-Al Alloy in Various Chemical Conversion Solution Conditions)

  • 장석기;김성종;김정일
    • Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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    • 제29권1호
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    • pp.98-106
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    • 2005
  • The chemical conversion film formed on magnesium alloy was investigated by using the colloidal silica with some parameters such as solution pH. temperature, solution conditions, and treatment time. Moreover. the solutions consisted of colloidal silica titanium sulfate, and cobalt ions were used for the colloidal silica film to having a good corrosion resistance and adhesion properties. It was thought that the film at 298K was made with combination of Si-O. The quantity of film formed at high temperature such as 333K and 353K is smaller than dissolved quantity during chemical conversion treatment. Adding $CoSO_4$ to the colloidal silica solution enhanced the adhesion force between the silica film and magnesium substrate, The optimum conditions for the chemical conversion treatment solution were PH 2.90 s treatment, and 298K.