Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.346.1-346.1
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2016
본 연구에서는 열처리(Thermal Dewetting Process)와 빗각 증착(Oblique angle deposition)을 이용하여 비주기 서브파장 구조물을 마이크로 렌즈 형태의 유리 기판 상부에 제작하였다. 먼저 $2{\times}2cm2$ 크기의 유리 기판에 기존 리소그래피 공정으로 원기둥 형태의 감광액을 형성한다. 이후 Hot-plate로 $180^{\circ}C$에서 90초간 열을 가해 지름이 $20{\mu}m$인 반구형태로 변형시킨 뒤 반응성이온식각 공정을 진행하여 마이크로 렌즈를 제작한다. 렌즈의 표면에 나방 눈 구조를 형성하기 위해 전자빔 증착으로 15nm의 은 박막을 쌓은 뒤 $500^{\circ}C$에서 1분간 열처리 공정을 진행하였다. 열이 가해졌을 때 은 박막은 표면자유에너지를 최소화하기 위해 나노 크기의 덩어리진 입자 형태로 변화한다. 여기서 형성되는 나노입자의 크기가 렌즈 표면 중심에서 가장자리로 갈수록 작아진다는 것을 주사전자현미경을 통해 확인하였다. 증착 각도가 증가할수록 열처리 공정 후의 은 나노입자의 크기가 점점 작아진다는 것을 검증하기 위해 은 박막의 증착 각도를 $0^{\circ}$, $35^{\circ}$, $55^{\circ}$, $70^{\circ}$로 증착 후 열처리 공정을 진행하여 확인하였다. 비스듬하게 증착되어 형성된 박막은 다공형태로 낮은 밀도를 가지는데 이는 박막 두께 감소를 일으킨다. 따라서 증착 각도가 증가할수록 열처리 공정 후의 은 나노입자의 크기는 점점 작아진다. 이후 은 나노입자를 마스크로 하여 다시 반응성이온식각 공정을 진행하였으며 식각 후 나머지 은 나노입자들은 HNO3용액에서 1분간 처리하여 제거하였다. 제작된 구조물의 평균 직경과 크기는 각각 ~220nm 및 ~250nm인 것으로 확인하였다. 위와 같은 공정을 통해 다양한 크기를 가진 비주기 서브파장 구조물을 제작할 수 있다. 구조물의 주기가 파장 길이보다 짧을 경우 분산이 최소화되며 넓은 파장 대역에서 무반사 효과를 얻을 수 있다. 이 공정은 마스크를 통한 리소그래피의 한계를 극복할 수 있으며 여러 곡면형 표면에 적용가능한 장점이 있다. 또한 프리즘, 렌즈, 광섬유와 같은 광소자의 광투과율을 향상시키는데 이용될 수 있다.
In this work, we analyzed the viscoelastic characteristics of electrochemically polymerized polypyrrole(PPy) thin film in various electrolyte solutions, $Na_2SO_4,\;Na_2CO_3$ and SDS + $NaClO_4$, using QCA. The characteristics of redox reaction of electrochemically polymerized PPy thin film for 180 sec in each electrolyte, was investigated in 0.1 M $NaClO_4$ electrolyte solution by cyclic voltammetry method. We used one side of quartz crystal electrode as a working electrode and measured the resonant frequency, resonant resistance and current as analytical parameters. As the results, we suggest that electrochemically polymerized PPy thin film in various electrolyte solutions shows tendency changing from elastic characteristics to viscoelastic one in the order of $ClO_4{^{-}}\;+\;DS^-,\;SO_4{^{-2}}$ and $CO_3{^{-2}}$.
This study was carried out to examine the effects of cutting dates and rooting promoters on rooting of the Rhododendron mucronulatum Turcz. The rooting percentage in greenwood cutting was high in June and decreased after July 3, when reproductive growth began. The best rooting percentage(92.5%) occurred when cutting was completed on June 12. There was no difference in rooting potentials between the greenwood straight cutting and the greenwood heel cutting. Cuttings of R. mucronulatum for. albiflora showed high rooting percentage(85%) similar to the cuttings of R. mucronulatum. Dipping cuttings in NAA $2,000mg{\cdot}L^{-1}$ solution for 15 sec increased the rooting percentage up to 97.5%, and also promoted root growth.
본 연구는 치수강 상아질 부위 및 상아질 접착제 종류에 따른 결합 강도를 측정하고 이들 사이의 상관관계를 구명하고자 시행되었다 45개의 대구치를 포매 후, 대조군에서는 교합면 법랑질 제거 후 #600 SiC paper까지 순차연마하여 상아질을 노출시켰고, 실험군에서는 치수강 개방 후 1시간동안 NaOCl에 보관 후 axial wall과 pulpal floor를 노출시켰다. 노출된 상아질 면에 상아질 접착제를 적용한 후 Z-100을 충전한 다음 40초간 광중합하였다. 사용된 상아질 접착제는 Scotchbond Multi-Purpose와 Single Bond, Clearfil SE Bond였다. $37^{\circ}C$ 증류수에 24시간 보관 후, 저속 diamond saw를 이용하여 0.7mm 두께로 수직절단하고 고속 diamond point(#104)로 단면적 $1{mm}^2$가 되도록 시편을 제작하고, Universal testing machine에서 미세인장 결합강도를 측정하였다. 1. 모든 상아질 접착제의 미세인장강도는 대조군, axial wall군, pulpal floor군 순으로 감소하는 경향을 보였다. 2. 대조군에서 SM과 BB는 SE에 비해 유의성 있게 높은 결합강도를 나타내었다(p<0.05). 3. SM과 SB는 대조군에 비해 axial wall군과 pulpal floor군에서 유의성있게 낮은 결합강도를 보였으나, SE에서는 pulpal floor군만이 유의성 있게 낮은 결합강도를 보였다(p<0.05). 4. Axial wall군과 pulpal floor군에서는 상아질 접착제의 종류에 따른 유의차를 보이지 않았다. 5. 전자현미경 소견에서는 대조군에 비해 axial wall군과 pulpal floor군이 더 부드러운 접착 계면을 나타내었다. 혼성층의 두께는 결합강도의 감소와는 관련이 없었다.
Kim, Jeong-Ryong;Jo, Yeong-Jin;Park, Ji-Su;Seo, Gyeong-Bae
Journal of Korean Society of Transportation
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제24권1호
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pp.53-58
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2006
The purpose of this study was to test the safety of the heel rest which was made for reducing the automobile driver's muscle fatigue with automatic transmission. Sixty subjects participated in the test, including ten males and ten females in 30s, 40s, 50s, respectively. Simulator consisted of automobile cockpit, accelerator and brake pedal sensor, heel rest. and driving displays. 30 seconds were given to subjects to be accustomed to the simulator environment. They also had one pre-trial to use the brake pedal according to the experimental scenario. They were told to step on the brake pedal immediately as soon as the red light was on the display The reaction time representing the foot travel time between accelerator and brake pedal was measured with/without the heel rest. In results, there was no significant difference in reaction time between conditions with/without heel rest. The result indicated that the heel rest used in this study would be a safe accessory for drivers who need to reduce the fatigue of the muscle or joint during driving.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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제14권2호
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pp.793-803
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2013
This study was performed to determine the usefulness of scanpath similarity analysis as one of new web usability testing. The 5 websites of public institutions were used and 15 students participated. First of all, eye movements were tracked and visual appeal ratings were measured as participants freely viewed each website for 3 seconds. Subsequently in continuously tracking the eye movements we asked the participants to perform 17 missions. Finally, in interview the participants rated on satisfaction, awareness, and mission difficulty. Results of this study showed that scanpath similarity had a significant relationship with both the visual appeal ratings(first impression) and the satisfaction. In other words, higher the visual appeal ratings were related to higher scanpath similarity. This result showed that measurement such as scanpath similarity of eye movements could become an objective index for usability testing instead of subjective evaluation such as the satisfaction. We discussed possibility that the usability testing by using the scanpath similarity with both fixation and duration on eye movements will find more appropriately inference on observers' experiences in websites.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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제7권3호
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pp.332-337
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2006
We prepared 100 nm-thick CoNi composite silicide on a 70 nm-thick polysilicon substrate. Composite silicide laye.s were formed by rapid thermal annealing(RTA) at the temperatures of $700^{\circ}C,\;900^{\circ}C,\;1000^{\circ}C$ for 40 seconds. A Focused ion beam (FIB) was used to make nano-patterns with the operation range of 30 kV and $1{\sim}100$ pA. We investigated the change of thickness, line width, and the slope angle of the silicide patterns by FIB. More easily made with the FIB process than with the conventional polycide process. We successfully fabricated sub-100nm etched patterns with FIB condition of 30kv-30pA. Our result implies that we may integrate nano patterns with our newly proposed CoNi composite silicides.
Cu seed layers deposited by magnetron sputtering onto tantalum nitride barrier films were treated with ECR plasma and then the copper films were electroplated and rapid thermal annealed in an argon or nitrogen atmosphere at various temperatures ranging from 200 to $500^{\circ}C$. Changes in the microstructure and physical properties of the copper films electroplated on the hydrogen ECR plasma cleaned copper seed layers were investigated using X-ray diffraction (XRD), electron back-scattered diffraction (EBSD), and atomic force microscopy (AFM) analyses. It was found that the copper film undergoes complete recrystallization during annealing at a temperature higher than $400^{\circ}C$. The resistivity of the Cu film tends to decrease and the degree of (111) preferred orientation tends to increase as the annealing temperature increases. Theoptimum annealing condition for obtaining the film with the lowest resistivity, the smoothest surface and the highest degree of the (111) preferred orientation is rapid thermal annealing in a nitrogen atmosphere at $400^{\circ}C$ for 120 s. The resistivity and the surface roughness of the electroplated copper film annealed under this condition are 1.98 $\mu$O-cm and 17.77 nm, respectively.
We have investigated the surface characteristics of n-GaAs (100) treated with Ar plasma (40 W, 5~120 sec) by photoreflectance (PR) measurement. With increasing Ar plasma treatment time, the intensity of $E_0$ peak observed to the minimum at 5 sec. The surface electric field ($E_0$), net carrier concentration ($N_P-N_A$), and surface state density ($Q_{SS}$ are $1.05{\times}10^5V/cm$ and $1.31{\tiems}10^{17}cm^{-3}$ and $1.64{\times}10^{-7}C/m^2$, respectively. These values were about 57.1, 81.4 and 56.9% smaller than those of bulk n-GaAs. On the other hand, the concentration of compensation centers ($N_A$) was maximum with value of $5.75{\times}10^{17}cm^{-3}$ at 5 sec. And penetration depth of defects generated after treated with Ar plasma was about 450 $\AA$ from surface.
Jo, Il-Uk;Byeon, Hye-Ryeong;Ryu, Mi-Lee;Song, Jin-Dong
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.414-414
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2013
InGaAlAs/InP은 $1.3{\sim}1.55{\mu}m$ 레이저 다이오드 응용을 위한 InGaAsP/InP를 대체하기 위한 물질로 많은 관심을 받아왔다. 디지털 합금 InGaAlAs 다중양자우물(multiple quantum wells: MQWs) 시료는 MBE (molecular beam epitaxy) 장비를 이용하여 n-InP 기판 위에 성장하였다. 양자우물과 장벽은 각각 (InGaAs)0.8(InAlAs)0.2와 (InGaAs)0.4(InAlAs)0.6 SPSs (short-period superlattices)로 $510^{\circ}C$에서 성장하였다. 발광특성을 향상시키기 위하여 질소분위기에서 $700^{\circ}C$$750^{\circ}C$ 또는 $800^{\circ}C$에서 30초간 열처리(rapid thermal annealing: RTA)하였다. RTA 온도에 따른 디지털 합금 InGaAlAs MQWs의 발광특성을 분석하기 위해 PL (photoluminescence)과 TRPL(time-resolved PL)을 이용하였다. RTA 온도에 따른 InGaAlAs MQWs 시료의 발광 메카니즘 및 운반자 동력학을 연구하기 위하여 발광파장 및 온도에 따른 TRPL을 측정하였다. 저온(10 K)에서 PL 피크는 RTA 온도를 $700^{\circ}C$에서 $750^{\circ}C$로 증가하였을 때 1,242 nm에서 1,245 nm로 장파장 영역으로 이동하였다가 $800^{\circ}C$에서 열처리하였을 때 단파장 영역으로 이동하여 1,239 nm에서 나타났다. 또한 PL 세기는 RTA 온도를 증가함에 따라 증가함을 보이다가 RTA 온도를 $800^{\circ}C$로 증가하였을 때 PL 세기는 감소하였다. 발광소자 개발을 위한 InAlGaAs MQWs 시료의 최적의 열처리 조건을 이러한 PL과 TRPL 결과로부터 결정할 수 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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