• Title/Summary/Keyword: 준안정준위 밀도

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Laser absorption spectroscopy of ternary gas mixture of He-Ne-Xe in External Electrode Fluorescent Lamp (EEFL) (레이저 흡수 분광법을 이용한 He-Ne-Xe 상종가스의 외부전곡 램프의 $1s_4$ 공명준위와 $1s_5$ 준안정준위의 제논 원자 밀도에 대한 연구)

  • Jeong, S.H.;Oh, P.Y.;Lee, J.H.;Cho, G.S.;Choi, E.H.
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.15 no.6
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    • pp.576-580
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    • 2006
  • Mercury-free lamp, external electrode fluorescent lamp (EEFL) which includes the xenon gas, is now going on the research for the replacement of mercury lamp. The densities of excited xenon atom in the $1s_4$ resonance state and the $1s_5$ metastable state are investigated in the EEFL by a laser absorption spectroscopy under various gas pressures. We have measured the absorption signals for both $1s_4$ resonance and the $1s_5$ metastable state in the EEFL by varying the discharge currents for a given pressure. This basic absorption characteristic is very important for improvement of the VUV luminous efficiency of the EEFL as well as plasma display panel.

광방사 세기비를 이용한 공정 플라즈마의 변수 진단

  • Lee, Yeong-Gwang;O, Se-Jin;Lee, Jae-Won;Hwang, Hye-Ju;Lee, Hui-Jin;Kim, Yu-Sin;Jeong, Jin-Uk
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.149-149
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    • 2011
  • 아르곤 기체의 방사세기 또는 그 세기 비는 플라즈마 공정 진단에서 일반적으로 사용된다. 본 실험에서는 100 mTorr 압력 조건하의 유도결합 플라즈마(13.56 MHz)에서 E-H 모드 전이 영역, rf 바이어스(12.5 MHz) 전력 인가 및 N2 혼합 시 단순화한 충돌-방사 모델에 기초한 광방사 세기비 방법을 적용하여 플라즈마 변수를 진단하였다. 개발 프로그램 기반의 분광기를 사용하여 아르곤 기체의 특정 파장(750.4, 751.5 그리고 811.5 nm)들을 관측하였고, 동일한 조건하에서 정전 탐침법으을 이용하여 전자 에너지 분포함수의 변화도 측정 하였다. 맥스웰 전자 에너지 분포를 가정하는 일반적인 경우와 비교하여 볼 때 실제적인 전자 에너지 분포함수의 측정은 전자의 가열 메커니즘에 대한 상세한 정보를 제공함과 동시에 플라즈마 재흡수에 대한 보정을 가능하게 해준다. 광방사 세기비법에 의해 측정된 결과에 의하면, 750.4 nm/751.5 nm는 높은 에너지(>13.08 eV)의 전자들의 유효 전자온도에 대한 정보를 나타내는 반면 811.5 nm/750.4 nm는 아르곤 준안정 준위 밀도(1s5)에 대한 정보를 제공하게 된다. 수행된 실험 조건하에서, 측정된 준안정 준위 밀도는 E-H 모드 전이 영역에서 최대값을 나타내었고 바이어스 전압 및 N2 기체 혼합 비율이 증가함에 따라 감소하는 결과를 얻었다. 유효 전자온도의 경우 광방사 세기비법과 정전 탐침법 모두 같은 결과를 보여 주었는데, E-H 모드 전이 영역에서는 전자온도는 거의 일정하였고 바이어스 전압 및 N2 기체 혼합 비율이 증가함에 따라 전자온도는 증가하였다. 이러한 실험 결과는 방전 모드 전이, 바이어스 인가 그리고 혼합 기체 사용하는 공정 플라즈마를 이해하는데 있어 이들 변수의 진단이 중요한 요소임을 보여준다.

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Observation of spontaneous oscillation of optogalvanic signal in a hollow cathode discharge (Hollow cathode discharge에서 자발적 진동의 광검류 신호 측정)

  • 이준회
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.12 no.1
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    • pp.51-54
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    • 2003
  • The spontaneous oscillations in the optogalvanic signals are observed in negative glow region of Ar hollow cathode discharge. The spontaneous oscillations in the optogalvanic signals are observed at low discharge currents less than about 3 mA. Based on the simultaneous measurements of both the density variation of metastable atoms and emission intensities of the 1s-2p transitions, one of the possible mechanisms for the spontaneous oscillation is considered to be related to the stepwise ionization of the metastable atoms due to collisions with slow electrons in the discharge.

Spatiotemporal Behavior of Excited Xenon Atom Density in Accordance with Xenon Mole Fraction to Neon and Helium in Alternating Current Plasma Display Panels by Laser Absorption Spectroscopy

  • Kim, Yong-Hee;Hong, Young-June;Oh, Phil-Yong;Cho, Guang-Sup;Choi, Eun-Ha
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.415-415
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    • 2010
  • 면방전 구조의 AC-PDP는 페닝 혼합 기체 중에서 Xe 플라스마에서 발생되는 VUV (Vacuum Ultra Violet) 에 의해 들뜬 형광체로부터 가시광이 발생된다. Xe 여기종은 828 nm의 공명준위를 거쳐 147 nm의 진공자외선을 방출하며 823 nm의 준안정준위에서 분자선을 거쳐 173 nm의 진공 자외선을 낸다. 이러한 Xe 여기종의 밀도를 측정하기 위해서는 828 nm와 823 nm의 레이저를 외부에서 인위적으로 조사하여 측정하면 IR (Infrared)의 흡수전과 흡수후의 빛의 세기로 Xe 여기종의 밀도 및 분포를 계산할 수 있다. 본 실험에서는 823 nm에 초점을 두었으며 LAS (Laser Absorption Spectroscopy) 기법을 통하여 He-Ne-Xe(15%, 20 %, 30%) 400Torr의 3종 기체의 Xe 함량에 따른 시공간의 Xe($1s_5$) 여기종 밀도 분포와 방전효율을 관측하였다. 최근 3전극 면방전형 AC-PDP 효율 향상을 위해 3종 기체의 Xe함량비의 방전기체에 대한 연구가 수행되고 있다. 이러한 기초 데이터는 혼합기체 조건에 따른 면방전 구조의 3전극 AC-PDP의 발광 효율을 개선하는 데 유용한 자료로 활용될 것이다.

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아르곤4P준위 광방출 분석법(OES)을 이용한 플라즈마의 전자온도 및 준안정 밀도 측정

  • Lee, Yeong-Gwang;Lee, Min-Hyeong;Jeong, Jin-Uk
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.104-108
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    • 2007
  • This paper reviews a simple model and spectroscopic method for extracting plasma electron temperature and argon metastable number density. The model is based on the availability of experimental relative emission intensities of only four argon lines that originate from 4p argon level. In this method, Maxwell-Boltzman distribution for EEDF is assumed and the calculation relies on the accuracy of the cross section. Therefore OES have to be compared with Langmuir probe to establish their practical validity.

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Measurement of Optogalvanic Signal in Hollow Cathode Discharge Tube (Hollow cathode discharge tube에서의 광검류 신호 측정)

  • 이준회;정기주
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.11 no.2
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    • pp.119-126
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    • 2002
  • The optogalvanic signals were measured using hollow cathode discharge tube with argon as buffer gas at change of discharge currents. A change of ionization rate due to electron collision causes an increase or decrease of the electric conductivity, This change in electric conductivity generates the optogalvanic signal. We conclude that optogalvanic signal has close relation with change of the lowest metastable atoms density at low current.

Influence of Sustain Electrode Gap on Excited Xenon Atom in the Metastable State by Laser Absorption Spectroscopy in AC PDP (AC PDP에서 레이저 흡수법을 이용한 유지전극의 위치에 따른 제논 여기종 원자의 밀도 측정)

  • Lee, J.H.;Lim, J.E.;Lee, H.J.;Son, C.G.;Jeong, S.H.;Lee, S.B.;Yoo, N.L.;Han, Y.G.;Oh, P.Y.;Moon, M.W.;Ko, B.D.;Jeoung, J.M.;Moon, H.S.;Park, K.D.;Ahn, J.C.;Hong, J.W.;Cho, G.S.;Choi, E.H.
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2005.05a
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    • pp.131-134
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    • 2005
  • PDP 방전 셀의 최적화 및 진공자외선 발광효율을 향상시키기 위한 목적으로 AC - PDP 미소방전에서 제논 여기종 원자의 밀도를 측정하는 레이저 흡수법을 개발하였다. 본 연구에서는 PDP 셀의 기체 압력을 350Torr, 제논 함량 10%로 고정하고, 전극 위에서의 여러 위치에서 준안정 준위 제논의 밀도를 흡수법으로 측정하였다. 실험 결과 제논 여기종의 밀도의 최대값은 전극의 위치(가장자리에서 안쪽으로의 거리)가 $50{\mu}m$, $120{\mu},\;150{\mu}m$ 일 때 $3.5{\times}10^{12}cm^{-3}$, $2.8{\times}10^{12}cm^{-3}$, $2.2{\times}10^{12}cm^{-3}$로 나타났다.

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