• Title/Summary/Keyword: 주입금속

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The study on the Removal of Metallic Impurities with using UV/ozone and HF cleaning (금속불순물 제거를 위한 UV/ozone과 HF 세정연구)

  • Lee, Won-Jun;Jeon, Hyeong-Tak
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.6 no.11
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    • pp.1127-1135
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    • 1996
  • 반도체 소자가 고집적화 됨에 따라 단위공정의 수가 증가하게 되었고 동시에 실리콘 기판의 오염에 대한 문제가 증가하였다. 실리콘 기판의 주 오염물로는 유기물, 파티클, 금속분순물 등이 있으며 특히, Cu와 Fe과 같은 금속불순물은 이온주입 공정, reactive ion etching, photoresist ashing과 같은 실 공정 중에 1011-1013atoms/㎤정도로 오염이 되고 있다. 그러나 금속불순물 중 Cu와 같은 전기음성도가 실리콘 보다 큰 오염물질은 일반적인 습석세정방법으로는 제거하기 힘들다. 따라서 본 연구에서는 Cu와 Fe과 같은 금속불순물을 제거할 목적을 건식과 습식 세정방법을 혼합한 UV/ozone과 HF세정을 제안하여 실시하였다. CuCI2와 FeCI2 표준용액으로 실리콘 기판을 인위적 오염한 후 split 1(HF-only), split 2 (UV/ozone+HF), split 3 (UV/ozone + HF 2번 반복), split 4(UV/ozone-HF 3번 반복)를 실시하였고 TXRF(Total Reflection X-Ray Fluorescence)와 AFM(Atomic Force Microscope)으로 금속불순물 제거량과 표면거칠기를 각각 측정하였다. 또한 contact angle 측정으로 세정에 따른 표면상태도 측정하였다. TXRF 측정결과 split 4가 가장 적은 양의 금속불순물 잔류량을 보였으며 AFM 분석을 통한 표면거칠기도 가장 작은 RMS 값을 나타내었다. Contact angle 측정 결과 UV/ozone 처리는 친수성 표면을 형성하였고 HF처리는 소수성 표면을 형성하였다.

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Mo 기판에 성장된 a-Si:H의 결정화 연구

  • 임동건;김도영;정세민;이준신
    • Proceedings of the Korea Association of Crystal Growth Conference
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    • 1997.10a
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    • pp.145-146
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    • 1997
  • 수소화된 비정질 규소(a-Si:H)는 전자소자에서 광범위하게 사용되고 있다. 하지만 a-Si:H는 반송자 이동도가 느리고 불안정하기 때문에 그 특성개선이 요구되어진다. 본 논문은 금속기판 Mo위에 a-Si:H를 성장하고 후속 결정화 연구를 수행하였다. a-Si:H 박막은 DC 글로우 방전으로 Mo 기판위에 증착되었다. 실험에 사용되어진 열처리로는 질소분위기, 진공상태, 급속가열 및 엑시머레이저 열처리를 행하였다. 열처리 온도는 10$0^{\circ}C$에서 120$0^{\circ}C$까지 행하였다. 엑시머레이저의 에너지는 단위 펄스당 90에서 340mJ이였다. 결정화에 영향을 주는 요소로는 불순물 주입, 온도, 박막의 두께 및 열처리 시간등을 조사하였다. 불순물이 주입된 비정질규소는 진성규소보다 더 좋은 결정화를 보였다. 불순물 주입은 낮은 온도에서의 결정화에 도움을 주었다. 열처리 시간은 결정화에 큰 영향을 미치지 못하였다. 반면에 열처리 온도는 결정화에 큰 영향을 주었다.

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Performance of comparison of external-type UHF PD sensors for epoxy injection hole of barriers in GIS (GIS용 폐쇄형 스페이서의 에폭시 주입구용 UHF 부분방전 센서의 특성비교)

  • Hwang, Chul-Min;Koo, Ja-Yoon;Lee, Young-Sang;Park, Ki-Jun
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2004.11a
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    • pp.104-106
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    • 2004
  • GIS의 금속으로 차폐된 폐쇄형 스페이서(barrier)의 에폭시 주입구를 통해 방사되는 극초단파 부분방전 신호를 검출할 수 있는 외장형 UHF PD 센서를 제작하였다. 센서에 내장되는 패치안테나는 모노폴(monopole)과 다이폴(dipole) 형태로 설계하여 고주파 전자기장 해석 툴을 이용하여 각각의 특성을 계산하고 분석하였다. 제작된 센서는 362kV GIS의 차폐형 스페이서의 에폭시 주입구에 장착하고 각 센서의 PD 검출 감도와 주파수 특성을 측정하고 비교하였다.

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Stress Distributions at the Dissimilar Metal Weld of Safety Injection Nozzles According to Safe-end Length and SMW Thickness (안전단 길이 및 동종금속용접부 두께 변화에 따른 안전주입노즐 이종금속용접부의 응력분포)

  • Kim, Tae-Jin;Jeong, Woo-Chul;Huh, Nam-Su
    • Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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    • v.39 no.10
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    • pp.979-984
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    • 2015
  • In the present paper, we evaluate the effects of the safe-end length and thickness of the similar metal weld (SMW) of safety injection nozzles on stress distributions at the dissimilar metal weld (DMW). For this evaluation, we carry out detailed 2-D axisymmetric finite element analyses by considering four different values of the safe-end length and four different values of the thickness of SMW. Based on the results obtained, we found that the SMW thickness affects the axial stresses at the center of the DMW for the shorter safe-end length; on the other hand, it does not affect the hoop stresses. In terms of the safe-end length, the values of the axial and hoop stresses at the inner surface of the DMW center increase as the safe-end length increases. In particular, for the cases considered in the present study, the stress distributions at the DMW center can be categorized according to certain values of safe-end length.

The Effects of Processing Parameters of Plasma Characteristics by Induced Coupled Plasma Source (유도결합 플라즈마(ICP) source로 생성된 plasma 특성의 공정 변수 영향)

  • Lee, S.W.;Kim, H.;Lim, J.Y.;Ahn, Y.Y.;Whoang, I.W.;Kim, J.H.;Ji, J.Y.;Choi, J.Y.;Lee, Y.J.;Ha, S.H.
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2006.11a
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    • pp.328-329
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    • 2006
  • 반도체 소자의 소형화, 고질적화는 junction 깊이 감소와 도핑농도의 증가를 요구한다. 현재 상용화되는 도핑법은 이온빔 주입(Ion Beam Ion Implantation, IBII)인데, 이 방법은 낮은 가속에너지를 가하는 경우 이온빔의 정류가 금속이 감소해 주입 속도가 낮아져 대랑 생산이 어렵고 장비가 고가라는 단점이 있다. 하지만 플라즈마를 이용한 이온주입법 (Plasma Source Ion Implantation, PSII)은 공정 속도가 빠르고 제조비용이 매우 저렴해 새로운 이온주입법으로 주목받고 있다. PSII법에서 플라즈마 특성은 그 결과에 큰 영향을 미치므로 플라즈마 특성의 적절한 제어가 필수적으로 요구된다. 본 연구에서는 공정압력과 RF power를 변화시키며 플라즈마 밀도 측정했다. 그 결과 공정압력이 증가함에 따라서 플라즈마 밀도는 감소되었고 RF power 증가함에 따라서 플라즈마 밀도는 증가되었다.

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용융물 냉각 및 간극 형성 실험(LAVA)연구

  • 강경호;김종환;조영로;김상백;김희동
    • Proceedings of the Korean Nuclear Society Conference
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    • 1997.10a
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    • pp.669-674
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    • 1997
  • LAVA(Lower-plenum Arrested Vessel Attack) 실험은 중대사고시 고온의 노심 용융물이 냉각수가 존재하는 원자로 용기 하부 반구내로 재배치되는 경우 노심 용융물과 하부반구의 열적 거동 모사와 노심용융물과 하부 반구 사이의 구조 분석 및 고화 후의 용융물형상에 대한 관측을 통하여 노심용융물의 자연 냉각 현상을 규명하고자 하는 실험 연구이다. 원자로 용기 하부 반구를 1/8로 선형 축소한 반구형 반응 용기 내부로 $Al_2$O$_3$/Fe Thermite 용융물을 주입하여 용융물과 하부 반구 사이의 구조 및 하부 반구의 열적 거동을 분석하는 실험을 2회 수행하였다. 각각 20, 40kg의 $Al_2$O$_3$/Fe Thermite 용융물을 주입시 킨 LAVA_PRE, LAVA-1 실험 결과 용융물 주입에 따른 하부 반구의 파손은 발생하지 않았으며, 유사한 실험조건에서 수행된 일본 ALPHA실험에 비해서는 하부 반구의 최대 온도가 500 K 이상 높게 측정되었고 냉각율 또한 현저히 낮게 나타났다. 이는 $Al_2$O$_3$/Fe Thermit 용융물중 과열상태의 Fe성분이 하부 반구와 용접되었기 때문으로 판단되며 보다 정확한 하부 반구의 열적거동을 모사하기 위하여 반구 시편에 대한 재료, 조직 검사를 수행하고 있다. 추후의 실험에서는 하부 반구 내외부의 압력 부하에 따른 반응 양상 및 Fe 용융물(금속용융물) 성분을 제거하고 순수한 $Al_2$O$_3$용융물(산화용융물) 만을 주입하여 용융물 성분에 따른 하부 반구의 열적거동을 분선 할 예정이다.

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Measurement and Analysis of Structural Grounding Effect of Concrete Pole (콘크리트 전주 구조체의 접지효과 측정 및 분식)

  • Choi, Jong-Kee;Kim, Dong-Myoung;Lee, Hyung-Soo;Shim, Keun-Bo;Kim, Kyung-Chul
    • Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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    • v.23 no.1
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    • pp.36-40
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    • 2009
  • Concrete poles(CP) are popular supports for distribution lines. Various types of grounding electrode, such as copper-clad rods, have been used to maintain CP's ground resistance under the required value. The buried part of CP can also have structural grounding effect because of its iron reinforcing rods inside CPs. In this paper, we measured the total ground current injected into CP ground while measuring the ground current splitting to the metal electrode as well as the total injecting current. By this, it was able to measure the ground current splitting to CP structure. Based on the measured results, interrelationship between ground resistance of metal electrodes and current split factor to CP structure was analyzed.

Effect of Metals used in Orthopedic on Magnetic Resonance Imaging III (정형 보철용 금속이 자기공명영상에 미치는 영향 III)

  • Kim, Hyeong-Gyun;Choi, Seong-Dae
    • Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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    • v.11 no.6
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    • pp.42-47
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    • 2012
  • Followed by a paper on the Pig and Bone orthopedic prosthetic, this experiment using Phantom and Bone MRI imaging I, II of orthopedic prosthetic metal effect combines magnetic resonance imaging on metal signal-to-noise ratio(Signal to noise : SNR) and CNR(Contrast to noise: CNR), fat signal suppression(Fat-suppression) images was compared. Specimen trees to measure the reliability of the experimental reproducibility tests and statistical analysis using the SPSS statistical package was applied program SPSS(IBM SPSS Statistice 19) by * P = 0.000 < significance level $({\alpha})$ = 0.01 as a significant there was a correlation(** P < 0.01). SNR and CNR results did not directly proportional to the Titanium, Stainless, Clip CNR and fat signal suppression of the order of images of blood specimens was found to be close to the image. The impact of orthopedic prosthetic metals on magnetic resonance imaging in the diagnostic value of Titanium is relatively high and are meant more.

Pentacene 이용한 2차원 전이금속 칼코게나이드 물질(MoS2, WSe2)의 도핑 현상 연구

  • Jo, Hang-Il;Jo, Seo-Hyeon;Park, Jin-Hong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.202.2-202.2
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    • 2015
  • 현재 반도체 산업 전반에 걸쳐 사용되고 있는 실리콘등의 3차원 반도체 물질은 반도체 공정 기술의 발전에 따른 물질적인 한계에 부딪히고 있다. 이러한 물질적인 한계를 극복하기 위하여 Graphene과 같은 2차원 물질 중 전이금속 칼코게나이드 화합물(TMD)의 반도체 특성이 뛰어나 실리콘 등을 대체할 차세대 나노 반도체 물질로 활발한 연구가 이루어지고 있다. 특히 기존 반도체를 도핑시키기 위하여 사용되었던 이온 주입 공정은 TMD의 결정구조에 심각한 손상을 가하여 이를 대체할 새로운 도핑 방법에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다. 우리는 이번 연구에서 기존에 유기반도체 물질로 연구되었던 pentacene을 도핑층으로 활용하고 Raman 분광법 및 전기 측정 등을 통하여 TMD물질이 금속화 되지 않는 정도의 매우 낮은 p형 도핑 현상을 확인하였다. 또한 시간에 따른 측정을 통하여 pentacene의 p형 도핑현상이 필름 증착 직후에는 미약하지만 시간이 지나면서 점점 강해지는 것을 발견하였다.. 이는 도핑현상이 pentacene의 구조에 의해 주로 일어나는 것으로 시간이 지남에 따라 대기중의 수분에 의해 생성된 pentacene 산화물들이 도핑 현상을 증가 시키는 원인으로 보인다.

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