• 전력전자학회논문지
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• 제3권4호
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• pp.346-352
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• 1998

본 논문에서는 새로운 신경 회로망 유도 전동기 속도 추정 방법을 제안하고, 추정된 속도를 이용하여 속도 센서리스 벡터 제어를 구현한다. 제안된 신경 회로망 속도 추정 방법은 정상 상태뿐 아니라 과도 상태에서도 정확한 속도를 추정한다. 또한 off-line에 의해 사전 학습을 필요로 하지 않고, 유도 전동기의 구동과 동시에 on-line 학습을 통하여 속도를 실시간으로 추정함으로써 구현이 용이하다. 디지털 시뮬레이션과 2.2kW 유도 전동기 시스템을 이용한 실험을 통하여 제안된 알고리즘의 효용성과 성능을 입증한다.

• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 2001년도 하계종합학술대회 논문집(5)
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• pp.13-16
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• 2001

본 논문에서는 인간의 생체 임피던스를 이용하여 인간의 팔 운동을 추정하고자 한다. 생체 신호를 이용하여 인간의 운동을 추정하기 위해서는 먼저 생체 신호와 인간의 운동 사이의 정량적인 관계를 구해야 하며 특히, 다자유도 운동의 추정에는 생체 신호간의 간섭등을 고려하여야 한다. 본 논문에서는 먼저 일자유도 운동실험을 통해 생체 임피던스와 인간 팔 관절의 회전각 사이의 선형성을 고찰한다. 그리고, 다자유도 측정시에 발생하는 근육간의 결합성과 방향성의 문제에 대해 주파수 분할 측정법을 도입하여 팔의 다자유도 운동을 추정하였다. 마지막으로, 실제의 로봇을 제어하는데 응용하였다.

• 전기기술인
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• 제194권10호
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• pp.27-31
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• 1998

송배전선로 또는 전기철도 등의 전압에 의한 정전유도작용이나 전류에 의한 전자유도작용으로 인근 통신시설에 미치는 영향이 지나쳐 통신시설의 절연파괴나 운용방해를 유발하고 인체에 직, 간접으로 위험을 초래하는 것을 유도장해라 한다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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• pp.550-551
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• 2005

고밀도 유도결합 플라즈마 장치의 $O_2$ 방전에 대한 공간 평균 시뮬레이터를 제작하였다. 제작된 시뮬레이터는 $O_2$ 플라즈마 방전에서 발생되는 전자, 양이온, 음이온 및 중성종, 활성종들에 대해 공간 평균된 유체 방정식을 기반으로 하고 있으며, 고밀도 유도결합 플라즈마 장치에서 전자가열 모델은 anomalous skin effect 를 고려한 파워 흡수 모델을 적용하여 전자가 흡수하는 고주파 파워량을 결정하였다. 완성된 시뮬레이터에서 RF- 파워, gas-inlet, pumping-speed등의 조정 변수를 비롯한 여러 가지 장치 변수들의 변화에 대한 하전입자, 중성종, 활성종들의 밀도 변화 및 전자 온도 의존성을 계산하였다.

• 전자공학회논문지
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• 제52권4호
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• pp.30-36
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• 2015

전력선 시설 중 가공 배전선에 의하여 인근 통신선에 전자유도를 발생시키는 전류를 계산하는 방식을 수립하였다. 가공 배전선의 중성선은 50 m 마다 접지되어 있어서 부하 전류의 귀로 성분이 대지로 누설되기 때문에 주변의 통신선에 전자유도 장해를 발생시키게 된다. 현재 국가 기술기준에서 정하고 있는 방법에 의하면 귀로 전류가 흐르는 중성선을 하나의 차폐 도체로 간주하여 기유도전류를 산정하므로 통신선의 병행 위치에 따른 대지 귀로 전류의 누적적 변화 특성이 반영되지 못하여 계산된 유도전압의 실측값에 대한 오차가 커지지만 실제로 유도를 발생시키는 원인이 되는 대지 귀로 전류를 계산하는 방식을 적용하면 1000 %가 넘는 기존 계산 편차를 100 % 이내로 현격히 줄여주는 효과를 나타내었다.

• 전자통신동향분석
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• 제22권6호
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• pp.104-115
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• 2007

전력선에 의한 통신서비스의 유도장애 문제 해결을 위하여 전기통신설비의 기술기준에 관한 규칙에서 정한 유도전압 제한치를 기준으로 전파연구소고시에 의한 유도전압 예측계산을 수행하여 상기 기준 전압을 초과시 대책을 시행하도록 하고 있다. 그런데 최근 2006년 2월 ITU K.68의 발행으로 유도전압 설계의 근간이 변화됨으로써 이에 맞는 관계 법령 정비 차원에서 제외국 현장 조사와 국내 현실 유도 측정을 수행하여 적정한 수치 도입을 위한 개정연구 활동이 수행되었으며 이에 따라 통화 서비스 품질에 직접 영향을 미치는 잡음유도전압을 기존 1mV에서 0.5mV로 전환하여 국제규격기준에 부합하고 통화품질 향상에 기여하도록 개정 추진되었다.

• 전자통신동향분석
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• 제18권2호통권80호
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• pp.45-52
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• 2003

전력선에 의한 통신선에 대한 유도장애 대책을 위하여 장애를 일으킬 수 있는 유도전압 제한치 초과 여부를 예측하여야 하는 바 전력선과 통신선이 유도 관계에 놓이게 되는 인접 상태는 두 가지 거리 요소에 의하여 결정된다. 즉 이격거리와 병행거리에 의하여 기본 유도 예측 규격이 결정되는 것으로서 본 논문에서는 실질적인 상기 두 가지 요소의 유도 발생 근접 범위를 예측 계산 사례를 통하여 그 범위 규격을 설정하도록 유도기관과 피유도기관 양자의 계산 자료를 활용 국내 기술기준 고시상에 반영되도록 연구분석한내용을 소개한다.

• 전력전자학회:학술대회논문집
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• 전력전자학회 2014년도 전력전자학술대회 논문집
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• pp.104-105
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• 2014

본 논문에서는 가전제품과 같은 저전력 응용분야에 효과적으로 적용이 가능한 2상 유도전동기 벡터제어 인버터를 제안한다. 현재까지 이 분야에서는 가격이 저렴하지만 속도제어가 용이하지 않은 단상 유도전동기를 사용해왔다. 2상 유도전동기 벡터제어는 3상 유도전동기 벡터제어에 버금가는 우수한 제어 성능을 가지고 있으면서도 좌표변환이 불필요하여 제어기의 부담을 줄일 수 있고, 전체 시스템을 저가격으로 구현할 수 있으므로 이러한 저전력 응용분야에서 단상 유도전동기에 대한 훌륭한 대안이 될 수 있다. 본 논문에서는 360[W]급의 소용량 2상 유도전동기를 위한 3레그형 2상 벡터제어 인버터를 설계하였고, 실험을 통하여 시스템의 유효성을 검증한다.

• 자연과학논문집
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• 제12권1호
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• pp.41-48
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• 2002

원자와 빛과의 상호작용으로 인해 원자에 결맞음이 유도될 수 있는데, 이 결맞음은 새로운 현상을 보여 줄 수 있다. 그 중 전자기 유도 흡수는 결합광의 영향으로 조사광의 흡수가 증가하는 현상인데, 다중-V 타입 원자계에서 관측될 수 있다. 본 논문에서는 주파수가 다른 조사광이 결합광과 같은 천이선에 인가되는 경우 전자기 유도 흡수현상을 이론적으로 연구하기 위한 방법을 제시하였다. 조사광과 원자의 상호작용을 시간의존 해밀토니안으로 표시하였으며, 밀도 행렬요소의 변화는 밀도행렬방정식을 풀어서 조사하였고, 행렬 요소 변화의 진폭으로부터 전자기 유도 흡수를 계산하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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• pp.177-177
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• 2012

진공을 기초로 한 다양한 반도체 식각 공정에서 RF bias가 결합된 유도 결합 플라즈마 소스는 널리 사용되고 있다. 하지만, 대부분의 연구는 RF bias에 의한 자기 바이어스 효과에만 한정되어 있으며, 공정 결과와 소자 품질에 결정적인 역할을 하는 플라즈마 변수들(전자 온도, 플라즈마 밀도)과 RF bias의 상관관계에 대한 연구는 거의 없는 실정이다. 본 연구에서는 RF bias가 플라즈마 변수에 미치는 영향과 비충돌 전자 가열 메커니즘의 실험적 증거에 관한 연구를 진행하였다. 플라즈마 밀도는 RF bias에 의하여 감소 또는 증가하였으며, 이러한 결과는 Fluid global model에 의한 계산과 잘 일치하는 결과를 보였다. 전자 온도는 RF bias에 의하여 증가하였으며, 적은 RF bias 전력에서는 플라즈마 전위에 갇혀있는 낮은 에너지 그룹의 전자들의 가열이 주가 되었으나, 큰 RF bias 전력에서는 높은 에너지 그룹의 전자들의 가열이 주가 됨을 관찰하였다. 이는 높은 에너지 그룹의 전자 가열 메커니즘이 anomalous skin effect에서 collisionless sheath heating으로 전이되는 것을 나타내며, bounce resonance heating이 RF bias의 전자가열에 중요한 역할을 함을 보여주는 실험적 근거이다. 플라즈마 밀도의 공간 분포는 RF bias의 인가에 의하여 더욱 균일함을 보였으며, 이는 (electro-static and electro-magnetic) edge effect에 의한 영향으로 해석될 수 있다. 이러한 RF bias와 플라즈마 변수들의 상관관계 및 전자 가열 메커니즘에 대한 연구는 방전 특성의 물리적 이해뿐만 아니라, 반도체 식각 공정에서 소자 품질 및 공정 개선을 위한 최적의 방전 조건 도출과 외부 변수 제어에 큰 도움을 주리라 예상된다.