유도모터의 벡터제어를 위해서는 회전자 자속에 대한 정확한 추정이 필요하다. 일반적으로 전압모델을 이용한 자속 추정기 구성하면 고속 구간에서 파라미터 오차에 대해 강인한 특성을 갖는다고 알려져 있다. 그러나 약계자 운전에서 부하가 증가할 경우 자속 추정에서 누설 자속에 의한 영향력이 커지게 되며, 심한 경우 누설 계속 오차로 인한 약계자 운전 불능을 야기시킨다. 따라서 본 논문은 유도모터의 누설계수 오차에 의한 벡터제어 성능 영향을 약계자 영역에 집중해서 분석하였다.
전기철도에 공급되는 부하전류에 의하여 주변의 통신선에 발생되는 유도전압의 크기는 부하전류를 전달하는 전차선으로부터의 이격 거리에 따라 변화될 뿐만 아니라 전력 공급 급전소로부터의 거리와도 영향 관계를 가져서 급전소에 근접된 위치에서는 상대적으로 매우 높은 유도전압이 발생된다는 것을 급전소와 급전소 간에 단위 병행 거리마다의 연속된 유도전압을 측정함으로써 실증하였다. 이는 ITU-T의 전력선 전자유도 평가 지침서에서 제시된 기본 전차선 공급 전류에 대한 통신선의 위치 관계에 따른 계산 시뮬레이션 결과와도 부합된 사실이다. 그러므로 전기철도로부터 통신선에 유도되는 전압을 계산하거나 실측 평가할 때 병행 거리, 이격 거리와 더불어 급전소로부터의 위치 관계에 따른 적정 요율 변화에 대한 고려가 요구된다.
전력선 전자유도 전압에 대한 어떤 시설물의 차폐계수를 산정하려면 그 시설물이 있는 장소에서의 유도전압과 없는 장소에서의 유도전압을 비교한다. 장소의 차이에 기인한 파리미터들을 동일한 환경에서의 것으로 정규화시켜 주어야 한다. 파라미터별로 정규화를 하는 요소별 보정 방식이 기본이지만 함수 관계의 미지성으로 어떠한 파라미터의 보정율 산정이 곤란하다면 유도전압 계산의 결과 값은 모든 파라미터의 영향이 이미 반영되어 있는 것이므로 계산된 유도전압의 기준값을 두고 보정하고자 하는 환경의 유도전압 계산값과의 비를 산정하면 전체 파라미터에 대한 보정이 내포적으로 이루어지는 통합보정 방식을 사용할 수 있다.
유도가열은 전자기 유도 현상을 이용하여 금속체를 직접 가열하는 방식이며 높은 변환 효율로 전기에너지를 열에너지로 변환할 있다. 이로 인해 금속의 단조, 용해, 표면경화, 풀림 등 여러 응용분야를 통해 철강 및 기계 산업에 기여하고 있다. 단조용 유도가열기 전원장치는 높은 전력용량을 사용하여 주로 SCR을 이용한 위상제어 정류기를 적용한다. 하지만 입력단의 저 역률 및 전류의 THD가 높은 단점을 가진다. 따라서 본 논문에서는 이러한 단점을 보안하기 위해 단조용 유도가열 작업에 맞는 인터리브드 방식의 벅 컨버터와 전류원 인버터를 사용한 고효율 유도가열 전원장치를 제안한다.
일반적인 경영활동에서 고객만족은 긍정적인 고객반응에 영향을 미친다. 본 논문에서 제안하는 고객반응유도시스템(CRES)은 기존의 고객응대 개념을 확장한 것이다. CRES의 적용은 전자상거래(B2C) 환경에서 고객과 판매자간의 실시간적인 연결을 가능케 하고 이를 기반으로 긍정적인 고객반응을 유도할 수 있다. 본 논문에서는 CRES를 적용한 새로운 EC 시스템과 기존의 일반적인 EC 시스템을 비교하여 그 결과를 제시한다.
본 논문은 전자기 유도 방식을 이용한 유선 태블릿의 화표 측정 방법에 대해 소개하고자 한다. 많은 태블릿이 전자기 유도 방식을 이용하여 좌표를 측정한다. 태블릿에서 펜의 위치를 추적하는 것은 태블릿의 성능과도 직결되는 문제이므로 매우 중요한 요소이다. 본 논문에서는 본 연구에서 개발한 유선 태블릿 장치에서 획득한 전자기 유도 신호로부터 전자펜의 위치를 실시간으로 측정하는 좌표 측정 알고리즘에 대해 소개하고자 한다.
신경망을 이용하여 반구형 유도결합형 플라즈마 장비에 대한 전자밀도의 예측모델을 개발하였다. 신경망으로는 Radial Basis function Network를 이용하였고, 신경망의 예측성능은 유전자 알고리즘을 이용하여 최적화하였다. 체계적인 모델링을 위해 $2^4$ 전 인자 (Full Factorial) 실험계획법을 이용하였다. 개발된 모델을 이용하여 공정변수에 따른 전자밀도의 영향을 고찰하였다. 전자밀도는 팁 위치(즉 챔버 높이)에 가장 많은 영향을 받았으며, 소스전력과 압력의 변화에 따른 전자밀도의 변화는 작았다. 팁 위치는 소스전력 변화에 영향을 받지 않았지만, 압력변화는 팁 위치에 따라 복잡하게 전자밀도에 영향을 미쳤다.
휴즈 항공사는 1050년대에 최초로 공대공 유도 미사일인 팰콘(Falcon)을 개발한이래 30여년 이상 첨단 전자기술분야에 참여하고 있다. 오늘날 휴즈사는 전자분야에서 미국내 가장 큰 방산업체이다. 휴즈사는 현재 유도 미사일, 항공전자, 통신위성, 전자광학, 항공기 레이다, 항공방위 지휘통제 시스템, 산업전자, 모의장비 및 훈련등 광범위한 기술분야에 참여하고 있다. 원래 세계군사장비에 탑재되는 항공전자장비 개발업체로 알려진 휴즈사는 신기술을 민수분야와 산업분야에 적용하였으며, 이에따라 우주시스템, 통신 서비스, 모의장비, 기타 첨단 전자 장비 및 민수용 장비 개발업체로 발전하였다. 지난 몇년동안 휴즈사는 미 국방부 매출액 10위권의 업체로 성장하였다.
접지임피던스의 측정에서는 교류의 전자유도결합을 최소화시키기 위해 보조전극을 직각으로 설치하며, 측정공간이 제한되는 경우 대안적 방법이 적용되고 있다 이때 접지임피던스의 측정에서는 교류 상호결합과 도전유도에 의한 측정오차를 검토할 필요가 있다. 본 논문에서는 수직 또는 수평으로 매설된 접지극의 접지임피던스를 측정할 때 전류와 전위보조전극의 위치에 따른 측정의 정확도에 관한 것으로 전자유도결합에 의한 측정오차를 평가하였다. 결과적으로 교류 전자유도의 영향을 수직 접지극보다 수평접지극의 경우 크게 나타났으며, 교류 전자유도결합에 의한 측정오차는 전류와 전위보조선이 평행하게 배치되는 경우 가장 크게 나타났으며, 결국 61.8[%]법은 접지임피던스측정에는 부적합하다. 이론적으로 전류와 전위보조전극을 90[^{\circ}]$로 배치하면 전자유도결합은 나타나지 않는다. 측정공간의 제한으로 전류와 전위보조전극을 90[^{\circ}]$로 배치할 수 없는 경우 전자유도에 의한 오차를 저감시키기 위해서는 보조전극을 예각보다는 둔각으로 배치하는 것이 바람직하다.
축전 결합 차폐막(Faraday shield)이 없는 평판형 유도 결합 플라즈마 장치에서 방전 모드 전이 중출력 결합 변화동안 전자 가열에 대한 연구가 행하여졌다. 전자 에너지 분포 함수(EEDF)의 전개가 RF 보상탐침을 사용, 교류 충첩 방법으로 측정된다. RF 출력에 따른 전자 밀도, 유효 전자 온도 및 특히, 플라즈마 전위의 동향이 제시된다. bi-Maxwellian EEDF를 가진 플라즈마에서 플라즈마 전위가 고 에너지 전자 그룹에 의해 결정됨을 보이고, 플라즈마 전위와 EEDF 상호 관계가 논의된다. 실험 결과로부터 RF출력에 따른 플라즈마 전위의 변화가 전자 가열에 있어 축전 출력 결합의 상대적인 기여의 변화를 반영함을 알 수 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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