• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2009.11a
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• pp.156-156
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• 2009

전자기기의 Slim화에 따라 부품 일장용 Board 기판의 두께도 날로 감소해지고 있다. 이와는 정 반대로 기판의 층수는 더 늘어나고 있다. 이에 따라 기판의 구성요소인 절연재의 두께도 감소하고 있다. 전자기기는 각각의 Module이 저항을 가지는데 이를 matching하기 위해서 각 module이나 package가 가지는 저항값을 상호 비슷하게 맞춘다. 하지만, 기판의 절연재의 두께 감소는 이러한 저항값이 낮아지게 한다. 이렇게 낮아진 저항값을 높이기 위해서는 전도체의 폭을 줄여야 한다. 하지만, 이렇게 전도체의 폭을 줄이는 것은 기판 제작 비용의 상승 및 제작 물가에 이르게 할 수 있다. 이를 해결하기 위해서는 절연재의 유전율을 낮추는 것이 가장 효과적이다. 본 연구에서는 PCB 기판의 유전율을 낮추기 위해 Liquid Crystalline Polymer(LCP)에 PTFE powder를 넣어 기판 재료의 가능성을 조사하였다. 유전율은 PTFE의 첨가량이 증가함에 따라 감소하여 40wt% 첨가할 경우 유전율이 2.4 정도로 낮아졌다. 이에 반해 열팽창계수는 증가가 크지 않고 peel strength는 감소함을 알 수 있었다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2000.02a
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• pp.189-189
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• 2000

고분자 재료에 이온을 주입함으로서 경도, 내마모, 내피로성의 기계적인 특성과 내부식성 등의 화학적 특성이 향상되며, 표면 전기전도도와 광학밀도(optical density)가 변한다. 본 연구에서는 MPPO(Modified-Polyphenlene Oxide) 표면에 N2, Ar, Xe 이온을 에너지 50keV, 선량(dose)을 1$\times$1015에서 1$\times$1017ions/cm2로 증가시키면서 조사하였다. 이온 조사량의 증가에 따라 표면 저항이 2$\times$1015에서 6$\times$106($\Omega$/$\square$)으로 감소하여 표면 전기전도도가 향상되었다. Ar 이온은 1016ion/cm2이하의 조사량(dose)에서 N2보다 표면 저항을 더 많이 감소하는데 반해 1016ion/cm2 이상의 조사량에서는 Ar과 N2의 표면 저항이 비슷한 값을 나타냈다. Xe은 Ar과 N2이온에 비하여 전체적으로 표면저항이 많이 감소하여 전도도의 향상은 Xe, Ar, N2 순서로 질량이 큰 이온이 조사 효과가 큰 것으로 나타났다. 소재 표면은 SIMS 분석을 통하여 깊이에 따른 주입이온의 분포를 관찰하였으며, 표면 색상은 황색에서 갈색을 거쳐 암갈색으로 변화함으로서 가시광선에 대한 반사율(reflectance)이 감소하고 광학밀도(optical density)가 증가하여 광학적 특성이 변하였다. 이온 주입 후 에너지 전이에 의한 효과는 optical gap를 감소시켜 광학밀도(optical density)와 표면 전기 전도도를 증가시킨다. 이에 따라 본 논문에서는 이온주입에 의한 광학적, 전기적 특성간의 상관관계를 밝히고자 한다.

• Proceedings of the KIPE Conference
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• 2016.11a
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• pp.210-211
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• 2016

션트 저항을 이용하여 3상 인버터의 전류를 측정하는 방법은 가격 경쟁력이 우수하여 다양한 산업 분야에서 응용되고 있다. 본 논문에서는 시스템의 원가를 절감하기 위해 2개의 레그-션트 저항을 이용하여 3상 인버터의 상 전류를 측정하는 방법을 제안하고 측정이 가능한 영역에 대하여 분석한다. 2개의 레그-션트 저항을 이용할 경우 기존 3개의 레그-션트 저항을 이용했을 때보다 시스템의 가격이 감소할 뿐만 아니라 레그-션트 저항에서 발생하는 손실이 감소하여 전체 인버터의 효율이 증가한다는 장점이 있다.

• Membrane Journal
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• v.8 no.3
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• pp.130-137
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• 1998

Membrane fouling characteristics in the membrane-coupled activated sludge system were investigated. The influence of the floc size variation on the filtration resistance was analyzed using resistance-in-series model and mixed liquor was fractionated into three components to verify which component would give rise to a major contribution to the total resistance. The microbial floc size was rapidly reduced during the initial 4~6 hours of operation, and then decreased slightly but steadily, followed by leveling off at the size of 20 $\mu$m. The specific resistance of activated sludge increased with operation time, and measured values of specific resistance were matched well with the values estimated on the basis of the mean particle size in the mixed liquor. The contribution of soluble organics and cells to the total resistance was relativdy small compared with that of the supematant. Colloidal particles in the supematant showed much higher specific resistance than that of microbial floc, and played the most important role in the cake resistance.

• Solar Energy
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• v.17 no.4
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• pp.13-22
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• 1997

Drag reduction produced by the dilute solution of polymer under turbulent flow in a rotating disk apparatus(RDA) was investigated in this study for the purpose of potential application to the Ocean Thermal Energy Conversion(OTEC) system. Four different molecular weights of poly(ethylene oxide)(PEO) were used as drag reducing additives, and synthetic seawater was adopted as a solvent. Experiments were undertaken to observe the dependence of drag reduction on various factors such as polymer molecular weight, polymer concentration and the rotating speed of the disk. The concentration dependence on the drag reduction of this polymer system was shown to obey an empirical drag reduction equation of the Virk's universal correlation.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.9 no.2
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• pp.104-110
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• 1999

The effect of the composition and the heat treatment on the magnetic and magnetoresistance properties in AgCo alloy films and Fe/AgCo/Fe trilayers prepared by the co-evaporation method were studied. As the alloy film thickness decreases, especially below 50 nm thick, the magnetoresistance decreases and the saturation field increases significantly. The change of the Co content, heat treatment, and deposition of the Fe under/over-layer were effective to prevent the reduction of the and the increasing of the saturation field. For 40 at.%Co sandwiches, the minimum saturation field was obtained in the 20 nm alloy film with 30nm Fe under-over layer annealed at 300 $^{\circ}C$ for 10 min. Its saturation field and the MR ratio were 1.01 kOe 5.16% respectively.

• Proceedings of the Computational Structural Engineering Institute Conference
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• 2010.04a
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• pp.632-635
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• 2010

본 논문에서는 다중벽 탄소 나노튜브를 작동유체로 사용하는 전자장치 냉각용 소형 히트파이프의 열적성능을 실험적으로 확인 하였다. 실험의 결과들을 바탕으로 다중벽 탄소 나노튜브 나노유체를 작동유체로 사용하는 히트파이프의 열저항은 동일한 충진량을 가지는 물을 작동유체로 사용한 히트파이프와 비교하여 나노유체의 부피비가 0.5%일때, 최대 18.6% 감소한다. 다중벽 탄소 나노튜브 나노유체의 열저항은 동일한 입열량에서 나노유체의 부피비가 증가 할수록 감소하는 것을 알 수 있다. 이를 통하여 다중벽 탄소 나노튜브 나노유체 히트파이프의 열저항은 나노유체의 부피비에 변화에 따라서 변한다는 것을 확인 할 수 있으며, 추가적으로 증발부에서 유체의 기화로 인한 나노입자의 증착에 의하여 열전달 표면적의 증가 또한 열저항의 감소 원인으로 예측가능 하다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2008.10b
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• pp.129-130
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• 2008

교감 신경계의 활성정도를 판별할 수 있는 지표로 피부저항(Galvanic skin resistance: GSR)이 있다. 교감신경이 흥분하면 땀이 분비되어 손가락의 피부저항이 감소하게 된다[1]. 전자기장에 민감한 사람(electromagnetic hypersensitivity: EHS)에게 전자기장을 노출시키면 전자기장을 잘 느끼지 못하는 일반인에 비해 교감신경이 많이 흥분하여 땀을 더 많이 분비할 것이라 생각하여 손가락 피부저항의 변화를 측정하여 전자기장에 민감한 사람과 일반인의 교감신경 활성정도의 차이를 알아보고자 하였다. 그러나 전자기장에 민감한지 민감하지 않은지를 판별하기 위한 인지 및 증상에 관한 설문에 의해서도 피부저항의 변화가 생길 수 있다. 따라서 본 연구에서 전자파에 민감한 사람과 일반인간의 언어자극에 의한 피부저항의 변화를 알아보고 전자기장 노출 실험에서 인지 설문이 전자기장 노출여부에 의한 피부저항의 변화에 영향을 주는지 주지 않는지를 알아보고자 한다. 피부저항 측정 결과 EHS와 일반인군 모두에게서 언어자극(인지 및 자각증상에 관한 설문)에 의해 피부저항이 감소되는 경향을 보였다.

• The korean journal of orthodontics
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• v.29 no.2 s.73
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• pp.165-181
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• 1999

Treatment mechanics should be individualized to be suitable for each patient's personal teeth and anatomic environment to get a best treatment result with the least harmful effects to teeth and surrounding tissues. Especially, the change of biomechanical reaction associated with that of the centers of resistance of teeth should be considered when crown-to-root ratio changed due to problematic root resorption and/or periodontal disease during adult orthodontic treatment. At the present study, in order to investigate patterns of initial displacements of anterior teeth under certain orthodontic force when crown-to-root ratio changed in not only normal periodontal condition but also abnormal periodontal and/or teeth condition, the changes of the centers of resistance for maxillary and mandibular 6 anterior teeth as a segment were studied using the laser reflection technique, the lever & pulley force applicator and the photodetector with these quantified variables reducing alveolar bone 2mm by 2mm for each of maxillary 6 anterior teeth until the total amount of 8mm and root 2mm by 2mm for each of mandibular 6 anterior ones until the total amount of 6mm. The results were as follows: 1. Under unreduced condition, the center of resistance during initial displacement of maxillary 6 anterior teeth was located at the point of about $42.4\%$ apically from cemento-enamel junction(CEJ) of the averaged tooth of them and kept shifting to about $76.7\%$ with alveolar bone reduction. 2. The distance from the averaged alveolar crest level of maxillary 6 anterior teeth to the center of resistance for the averaged tooth of them kept decreasing with alveolar bone reduction, but the ratio to length of the averaged root embedded in the alveolar bone was stable at around $33\%$ regardless of that. 3. Under unreduced condition, the center of resistance during initial displacement of mandibular 6 anterior teeth was located at the Point of about $43\%$ apically from CEJ of the averaged tooth of them and this ratio kept increasing to about $54\%$ with root reduction. But the distance from CEJ to the center of resistance decreased from around 5.3mm to around 3.3mm, that is to say, the center of resistance kept shifting toward CEJ with the shortening of root length. 4. A unit reduction of alveolar bone had greater effects on the change of the centers of resistance than that of root did during initial Phase of each reduction. But both of them had similar effects at the middle region of whole length of the averaged root.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2015.08a
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• pp.162.2-162.2
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• 2015

플렉서블 디스플레이에 사용되는 투명전극은 벤딩에 의한 인장(tensile) 및 압축(compressive) 스트레스 하에서도 전극의 특성이 지속적으로 유지되어야 한다. 기존 OLED소자의 투명전극으로 사용되던 인듐산화물(ITO, Indium Tin Oxide)는 인듐(Indium)의 희소성 문제뿐만 아니라 벤딩에 대한 복원력이 나쁜 것으로 알려져 플렉서블 디스플레이에는 적합하지 않은 것으로 알려져 있다. 벤딩에 강하고 복원력이 우수한 투명전극 재료가 필요하게 되었다. 본 연구에서는 PEN (Polyethylene Naphthalate) 유연기판 상에 그래핀(Graphene)전극을 구현하여 벤딩에 대한 저항특성을 관찰하였고 일반적으로 많이 사용하는 Aluminum 전극과의 비교를 통해 광효율을 지속적으로 유지할 수 있는 플렉서블 OLED용 전극구현 가능성을 연구하였다. 일반적으로 Al금속은 인장 스트레스를 받음에 따라 저항이 증가하고 다시 복원되면 저항이 감소하는 특성을 갖고 있는데 인장 스트레스에 따라 저항과 늘어난 길이와의 관계는 다음과 같다. $R/R0=(L/L0)^2$ ----------------------------------------- (1) 그러나 반복된 스트레스가 가해질 경우 Al 금속 전극은 복원력을 잃고 저항이 원래대로 돌아가지 않는 문제가 발생하는데 반해 그래핀은 벌집모양의 구조를 갖고 있어 벤딩에 대한 강도가 셀 뿐만 아니라 고탄력으로 인해 복원력이 우수하여 여러 싸이클(cycle)의 벤딩 실험에 의해서도 복원력이 지속적으로 유지되었다. Al 금속 전극의 경우 벤딩 각도 또는 정도에 따라 복원력이 유지되는 구간이 있으나 반복적인 벤딩 싸이클에 의해 복원력이 감소하여 인장 스트레스에 의한 저항 증가 후 스트레스 제거 시 저항 감소가 되지 않는데 24시간 동안 전기 저항 변화를 관찰하면 수시간 후에나 저항이 어느 수준까지만 복원되는 것을 확인할 수 있었으나 복원에 오랜 시간이 소요된다는 점에서 그래핀과 비교가 된다. SEM(Scanning electron microscopy) 분석을 통해 인장 스트레스 인가/제거를 반복함에 따라 Al 금속표면이 표면에 열화되는 것을 확인하였으나 그래핀에서는 나타나지 않았다. 본 연구에서는 높은 투과도와 우수한 전기적 특성을 가지는 그래핀 투명 전도성 전극이 다양한벤딩 조건에서도 뛰어난 복원 특성을 보이는 것을 밝혀내어 차세대 투명 전극 물질로 개발하고자 하였다.