• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2008.11a
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• pp.210-210
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• 2008

에어로졸 증착법은 상온에서 다양한 기판 상에 고밀도의 세라믹 후막을 코팅할 수 있는 최신 기술로써 다양한 방면으로의 응용이 개대되고 있다. 본 실험에서는 ADM을 이용하여 고주파수 영역에서 사용가능한 기판소재 제조에 관한 연구를 진행하였다. ADM을 통해 형성된 $Al_2O_3$ 막의 유전율은 9-10으로 bulk 시료와 비슷한 특성을 보였으나 후막의 손실률의 경우는 bulk 시료에 비해 상당히 컸으며 주파수 증가에 따라 그 값이 크게 감소하는 경향을 보였다. 본 실험에서는 ADM으로 형성된 $Al_2O_3$의 높은 손실률의 원인에 대해 고찰하고 ADM 을 통해 기판소재로 사용가능한 저손실의 $Al_2O_3$막의 제조를 위한 방법을 제시하고자 하였다.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.4 no.4
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• pp.341-345
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• 2003

ZnWO$_4$shows excellent frequency selectivity due to its high quality factor(Q${\times}$f) at microwave frequencies. However, in order to use ZnWO$_4$as multilayered wireless communication components, its other properties such as sintering temperature(105$0^{\circ}C$). $$\tau$_f$(-70ppm/$^{\circ}C$) and $$\varepsilon$_r$(15.5) should be modified. In present study, TiO$_2$and LiF were used to improve the microwave dielectric and sintering properties of ZnWO$_4$. TiO$_2$ additions to ZnWO$_4$changed $\tau$$_{f}$ from negative to positive value, and also increased $$\varepsilon$_r$, due to its high $$\tau$_f$(＋400ppm$^{\circ}C$) and $$\varepsilon$_r$(100). At 20 mol% TiO$_2$ addition, $$\tau$_f$was controlled to near zero ppm/$^{\circ}C$ with $$\varepsilon$_r$=19.4 and Q${\times}$ f=50000GHz. However, the sintering temperature was 110$0^{\circ}C$. LiF addition to the ZnWO$_4$＋TiO$_2$ mixture greatly reduced the sintering temperature from 110$0^{\circ}C$ to 85$0^{\circ}C$ due to liquid phase formation. Also LiF addition decreased the $$\tau$_f$value due to its high negative $$\tau$_f$ value. Therefore, by controlling the TiO$_2$and LiF amount. temperature stable LTCC(Low Temperature Cofired Ceramics) material with low loss in the ZnWO$_4$-TiO$_2$-LiF system could be fabricated.d.d.