Modeling of plasma etch process using genetic algorithm and radial basis function network (유전자 알고리즘과 레이디얼 베이시스 함수망을 이용한 플라즈마 식각공정 모델링)
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- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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- 2004.11a
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- pp.159-162
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- 2004