본 논문에서는 지자계에 노출된 함정의 유도자화에 의한 자기장 성분을 분석하는 방법을 제시하였다. 우선 모델함정을 제작하여 지자계에 노출시킨 상태에서 왕복실험을 수행하고 이때 측정되는 데이터를 수집하여 함정의 수평방향으로 유도되는 자기장성분을 분리하였다. 또한 정밀 수치해석기법을 통해 측정치와 비교함으로서 정밀 수치해석 기법에 의한 예측값의 신뢰성을 확인하였다. 따라서 본 연구결과는 함정 재질 상에 분포하는 유도자화 및 영구자화에 의한 자기장의 거동을 예측함으로서 함정의 자기정숙화(magnetic silent)연구에 중요한 기초 자료로 활용될 것으로 사료된다.
(Ni$_{0.2}$Cu$_{0.1}$Zn$_{0.2}$)$_{0.5}$(Fe$_2$O$_3$)$_{0.5}$의 기본조성으로 공침법에 의해 NiCuZn ferrite를 제조하였으며, ferrite 분말 제조시, SO$_4$, Cl과 NO$_3$ 각 계열별로 분말을 얻어 시편을 제조하였고, 시편을 각각 9$50^{\circ}C$, 11$50^{\circ}C$, 13$50^{\circ}C$에서 소결하여 자기적 특성 및 미세구조를 조사하였다. 9$50^{\circ}C$ 소결시 Cl계열과 NO$_3$계열 분말로 제조된 시편은 완전소결 되었지만 SO$_4$계열로 제조된 시편은 11$50^{\circ}C$에서 완전 소결 형태를 보였다. Cl계열 분말로 제조된 시편이 입도분석결과 다른 두 시편 보다 미분말 특성이 뛰어났으며, 비교적 높은 투자율과 자화값을 나타내었다.
본 논문은 다수의 비트레이트에서 변환하는 멀티레이트 변환 기능을 효율적으로 실현할 수 있는 비디오 트랜스코더를 제안하고자 한다. 이것을 구현하기 위해서는 부호 및 역 양자화기를 하나의 처리기로 공유해야 할 뿐만 아니라 유사한 재양자화 스텝값을 가지고 있는 출력 사이에 재양자화-재부호화 처리기를 공유시킴으로서 멀티레이트 변환시에 처리량을 감쇄시킬 수 있는 구조를 제안하고자 한다. 또, 이론적 평가 및 평가에 따른 실험 결과로부터 제안한 방식인 재양자화-재부호화기의 공유 방법이 출력 수에 대한 처리량을 효율적으로 감쇄시킴으로서 단일 레이트의 출력의 경우보다 약 3~6배의 처리량으로도 임의의 출력 수에 대응할 수 있는 결과를 얻을 수 있었다.
금속 분말 니켈(Ni)을 HCl용액에 용해시킨 후 $H_3BO_3$, KOH을 첨가하여 Chloride 도금용액을 제조 후 Ni plate 기판에 도금하였다. 도금두께는 $3{\mu}m$로 일정하게 유지하였다. 전류밀도를 $1{\sim}30mA/cm^2$ 변화를 준 결과 전류밀도를 증가시킬수록 Ni 후막표면이 거칠어졌다. $25mA/cm^2$와 $30mA/cm^2$에서는 균열된 표면형상을 관찰하였다. 또한 XRD patterns 변화를 관찰한 결과 전류밀도가 증가할수록 FCC(111)과 FCC(220) 및 FCC(311)상의 강도는 증가한 반면 FCC(200)상의 강도는 감소하는 것을 관찰하였다. 전기도금된 Ni의 수평 및 수직 자화 값을 측정하였는데 기판에 의한 수평자화 값이 크게 나왔고, 코팅층 두께가 증가할수록 수직자화 값이 커지는 것을 확인하였다.
본 연구에서는 Si에 Mn을 첨가한 Si$_{l-x}$Mn$_{x}$ 박막의 전기적 및 자기적 특성을 조사하였다. Si$_{l-x}$Mn$_{x}$ 박막은 MBE(Molecular Beam Epitaxy)를 이용하여 native oxide층을 제거하지 않은 (100)Si wafer 위에 성장하였다. Substrate 온도는 50$0^{\circ}C$로 하였으며, 첨가한 Mn 농도는 20%에서부터 80%까지였다. 전기적 특성은 Hall, 4-point probe를 통하여 측정하였고, 자기적 특성은 VSM, FMR, SQUID을 이용하여 측정하였다. 상 분석은 XRD, TEM을 이용하여 관찰하였다 Si$_{l-x}$Mn$_{x}$ 박막은 Hall 측정 결과 상온에서 P-type carrier를 가지며, 비저항은 반도체 영역인 7.6$\times$$10^{-4}$~4.2$\times$$10^{-2}$(ohm-cm)의 값을 가진다. 상온 VSM, 측정결과 Mn의 양이 52% 첨가 시 포화 자화 값이 가장 높은 40emu/cc를 가지며, Mn의 양이 증가할수록 포화 자화 값이 증가하다 다시 감소하는 경향을 가진다. FMR, SQUID 측정에서도 이러한 경향을 확인할 수 있었다 특히, SQUID 분석 결과 두 개 이상의 자성 상이 존재하는 것을 관찰할 수 있었다. XRD, TEM 관찰결과, Si$_{l-x}$Mn$_{x}$은 poly crystal로 성장하였으며, Mn 농도에 따라 여러 상들이 관찰되었다.따라 여러 상들이 관찰되었다.
최대 출력 3.5kW인 고주파에 의한 알곤 플라즈마 분위기에서 제작한 Fe1-xCox(x=0.2와 0.4)계와 25$\mu\textrm{m}$의 철 박막의 자기적인 성질을 상온에서의 X선 회절과 진동시료자력계를 이용한 자기이력곡선 측정 방법을 사용하여 연구하였다. arc로에서 제작된 시룐느 삼단계 처리 가공하였다. 첫째는 수압기로 9,000N/$\textrm{cm}^2$의 압력을 가하여 알약 형태로 만들었다. 이 단계는 압연기로 눌러 얇은 sheet로 만들었다. 삼단계는 시료는 질소 가스 분위기에서 90$0^{\circ}C$로 열처리하였다. 일단계 시료의 X선 회절결과는 시료가 균질이며 각 시료는 철과 동일한 bcc 결정구조를 갖는 단일결저상(single crystal phase)임을 보였다. 철 박막은 43 Oe의 항자력과 인가자기장에 대한 자화, 즉 초기 기울기는 0.328 emu/gOe를 나타냈다. 이단계 시료에서는 Co량이 증가함에 따라 항자력과 포화자화값은 증가하였다. 반면 초기 기울기는 감소하였다. 이는 항자력의 증가로 인해서 계면이동이 억제되었음을 의미한다. 삼단계 시료에서 두 시료 모두 포화자화값은 증가하였다. 반면 이들 시료의 항자력은 감소하였다. 3단계 시료의 포화자화의 열처리로 인한 시료의 X선 회절강도 변화와 연관이 있어 보인다. 또한 몇 개의 자기 매개변수를 단순모형을 써서 계산하여 다른값과 비교하였다.
Mn1-xCrxPt3 합금 박막을 유리기판상에 rf 마그네트론 스퍼터법으로 전이금속(Mn, Cr)과 Pt층을 적층하여 증착한우 열처리함으로써 제조하였다. 제조한 박막들의 소각 및 광각 x-선 회절 분석, 자기 히스테리시스 루우프, 커 스펙트럼을 실온에서 조사했다. 제조한 박막들은 (111)면이 막면에 평행으로 강하게 우선 배향된 AuCu3 형의 규칙합금 구조를 나타냈다. 포화자화는 Cr 치환량(x)이 증가함에 따라 감소하다가 x=0.58 부근에서 영에 가까워진 후 다시 증가하여 x=0.77 이상에서는 거의 일정한 값을 나타냇다. 이것은 페로자성인 MnPt3(x=0)에 Cr을 치환하며, Cr의 자기모멘트가 Mn과 반강자성적으로 결합하여포화자화가 감소하다가 Cr 치환량이 더욱 증가하면 Cr의 기여가 지배적이 되어 다시 증가하기 때문으로 생각된다. MnPt3의 경우에는 자화용이축이 막면에 평행이었으며, Cr 치환량이 증가합에 따라 수직자기이방성이 증가하여 x=0.58 이상에서는 수직자화막이 얻어졌다. 또한, 이 영역에서 Cr 치환량이 증가함에 따라 보자력도 증가하여 x=0.58 이상에서는 수직자화막이 얻어졌다. 또한, 이 영역에서 Cr 치환량이 증가함에 따라 보자력도 증가하여 CrPt3의 경우에는 약 4 kOe의 큰 값을 나타냈다. Cr 치환량에 따른 커 회전각의 변화 추이는 포화지화의 변화 추이와 경향이 유사했다. x=0.77과 x=1의 경우에는 근적외선 영역에서의 커 회전각이 기존의 광자기기록매체인 TbFeCo를 능가했다.
Magnetic tunnel junctions은 최근 자기저항용 재료나 MRAM용 소자로 사용하기 위한 연구가 활발하게 진행되고 있다. Magnetic tunnel junction을 저자계, 저전력용 소자로 사용되기 위해서는, 작은 switching field 값과 uniform한 switching field 분포를 가져야 한다. Micromagnetic simulation을 통하여 free layer의 두께와 포화 자화 값이 감소함에 따라서 switching field가 감소함을 알 수 있었다. 본 연구에서는 얇은 free layer를 사용하여 magnetic tunnel junction을 제조하고, 얇은 free layer가 자기저항에 미치는 영향에 대하여 알아보았다. (중략)
값이 저렴한 메탈올로부터 새로운 고점도성 생물고분자인 다당류의 생산과 활용은 산업적으로도 매우 흥미있는 분야이다. 본고에서는 최근 본 연구실에서 개발한 메탄올 자화세균(facultative methylotroph)인 Methylobacterium organophilum이 생산하는 신규의 고점성 다당류인 메틸란(methylan)의 생산 및 그 특성과 응용에 관하여 고찰하고자 한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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