• 대한기계학회:학술대회논문집
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• 대한기계학회 2003년도 춘계학술대회
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• pp.1021-1024
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• 2003

In this work, we fabricated various 2D metallic and polymeric nanopatterns with the feature resolution of sub-micrometer scale by using the method of microcontact printing ($\mu$ P) based on soft lithography. Silicon masters for the micromolding were made by e-beam lithography. Composite poly(dimethylsiloxane) (PDMS) molds were composed of a thin, hard layer supported by soft PDMS layer. Finally, monodisperse metal or polymer particles could be obtained in the prepared pattern for the application of electronic devices.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
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• pp.485-488
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• 2004

본 연구에서는 dipyridinium dithioacetate 분자를 Au(111) 표면에 자기조립하여 STM 탐침-유기 단분자막-Au(111)기판의 수직구조로 STM 측정시스템을 이용하여, 전기적 특성을 관찰하였다. 먼저 Au(111)기판을 Piranha용액$(H_2SO_4:H_2O_2=3:1)$으로 Au 표면을 전처리 하였다. 전처리한 Au(111) 기판을 dipyridinium dithioacetate 1mol/ml 농도로 자기조립 하였으며, 자기조립막의 표면 구조를 STM으로 관찰하였다. dipyridinium dithioacetate의 전기적 특성은 STM 탐침-유기단분자막-Au(111) 기판의 수직구조로 STS를 이용하여 조사하였다. 전압과 전류 측정에서 전압이 증가함에 따라 전류가 감소하는 부성 미분저항(NDR)의 특성이 관찰 되었다. NDR 수치가 $-545\;[m\Omega/cm^2]$였고, PVCR은 1.64:1 이었다.

• 한국정밀공학회지
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• 제20권1호
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• pp.240-247
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• 2003

The tribological characteristics of FDTS (1H, 1H, 2H, 2H-Perflurodecyltrichlorosilane) SAM (self-assembled monolayer) and OTS (octadecyltrichlorosilane) SAM treated by high temperature annealing have been investigated from the viewpoint of stiction, adhesion and friction in micro/nano scale. From the experimental results, it was found that OTS SAM gets destroyed at 20$0^{\circ}C$ and stiction, adhesion and friction coefficient increased, but FDTS SAM was stable up to 40$0^{\circ}C$. Also, it was found that the friction coefficient of normal OTS SAM below 20$0^{\circ}C$ is lower than that of FDTS SAM in micro/nano scale, but stiction and adhesion is vice versa. This work shows the importance of surface group of self-assembled monolayer in dictating the tribological characteristics and thermal stability.

• 폴리머
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• 제30권3호
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• pp.187-195
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• 2006

원자힘 현미경 양극산화 패터닝 기술에 관한 연구를 유기 저항막의 종류 및 그들의 특성을 토대로 다루었다. 본 연구실에서 수행한 자기조립막, 랑뮈어-블라짓막, 고분자막 위에서의 원자힘 현미경 양극산화 패터닝에 대한 연구결과를 중심으로, 유기 저항막 위에서의 원자힘 현미경 양극산화 패터닝 기술에 대한 이해를 돕고자 하였다. 현실적인 공정 속도에서 높은 종횡비의 패턴을 형성하기 위해 원자힘 현미경 양극산화 패터닝에 유기 저항막의 전기-기계적 특성, 젖음 특성, 에칭 저항 특성 등이 중요한 인자들임을 제안하였다.

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제45권2호
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• pp.149-154
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• 2007

나노임프린트 공정기술은 나노구조물이 패턴된 스템프(혹은 몰드)를 이용하여 적절한 기판 위에 나노구조물을 복제하여 패턴을 전사하는 기술이다. 효과적인 나노임프린트 공정을 위해서는 몰드의 이형처리뿐 아니라 반대쪽의 기질과 레지스트 사이에 접착력 증가(adhesion promoter) 처리가 매우 중요한 역할을 한다. 본 연구에서는 자기조립 실란커플링제의 기상증착을 이용하여 나노임프린트 공정에서 사용되는 접착 증가막 및 표면처리 방법을 비교 분석 하였다. 이를 위해서 평탄화층(DUV-30J), 산소 플라즈마 처리, 실란커플링제 자기조립막이 비교되었다. 실란커플링제 자기조립막이 형성된 실리콘 표면은 전체적으로 나노 두께의 균일한 막이 형성되며 임프린트시 구조물들을 정밀하게 전사하였으며 3-acryloxypropyl methyl dichlorosilane(APMDS)을 이용한 자기조립막(SAMs) 처리가 평탄화층과 산소 플라즈마 처리보다 강한 접착력을 가지고 있어 나노임프린트 공정에 적합함을 알 수 있었다.