• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2001.04a
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• pp.102-103
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• 2001

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 1999.10a
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• pp.78-79
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• 1999

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.11 no.5
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• pp.202-210
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• 2001

Spin dependent tunneling (SDT) junction devices of Ta/NiFe/Ta/NiFe/FeMn/NiFe/AlOx/CoFe/NiFe/Al with in-situ naturally oxidized Al barrier were fabricated using ion beam deposition and dc sputtering in UHV chamber of 10$^{-9}$ Torr. The maximum tunneling magnetoresistance (TMR) and the product resistance by junction (R$_{j}$ A) are 16-17% and 50-60 $\Omega$${\mu}{\textrm}{m}$$^2$, respectively. The values of TMR and (R$_{j}$ A) with field annealing were slightly increased. The TMR and (R$_{j}$ A) dependence versus the junction area size was observed. These results were explained by using sheet resistance effect of bottom electrode and spin channel effects.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.4 no.1
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• pp.32-38
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• 1994

We have investigated the effects of sputtering Ar gas pressure on magnetic and magneto-optical properties in compositionally modulated Co/Pt superlattice thin films. The samples were prepared by dc magnetron sputtering. Sputtrering Ar gas pressure was varied from 2 to 30 mTorr. The microstructure of the samples was examined by scanning electron microscope and the x-ray diffractometry. The magnetization, the Kerr rotation angle, and the reflectivity of the samples were measured. The columnar structure was developed, and the coercivity was drasti- cally increased, when the sputtering Ar gas pressure was higher than 20 mTorr. We explained that the variation of the magnetization, the Kerr rotation angle, and the reflectivity was related with the microstructure influenced by the variation of the Ar gas pressure.

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.3 no.3
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• pp.229-233
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• 1993

The effects of differential partial pressures of oxygen during sputtering on the magnetic and recording characteristics of magneto-optical disks were investigated. Different flows of oxygen were deliberately introduced into the sputtering chamber to have a variety of partial pressures of oxygen during sputtering. A residual gas analyzer was employed to monitor the oxygen peak before, during, and after sputtering and to estimate the reacted oxygen amount. Most of the oxygen introduced into the chamaber was reacted during sputtering. As the partial pressure of oxygen increased, the oxygen content of the TbFeCoCr film increased also. The oxygen appeared to be bound as Tb-O, effectively decreasing the magnetically active Tb content of the film The coercivity decreased but the squareness of the Kerr hysteresis loops was still excellent. The perpendicular anisotropy was not significantly affected by oxygen amount. The carrier-to-noise ratio, includi!1g the write power sensitivity and bias field sensitivity did not change too much with oxygen content in the film The disks sputtered with oxygen showed better bias field sensitivity with lower write power threshold than the disk sputtered without oxygen, due to high demagnetization during domain formation. No significant degradation of coercivity for the disk sputtered oxygen was observed during an accelerated aging test.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2011.05a
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• pp.37-38
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• 2011

알루미늄은 높은 내부식성과 우수한 물리적 특성으로 철강 제품의 부식방지를 위한 표면처리와 항공 우주분야 소재로 각광을 받아왔다. 알루미늄을 철강 제품의 부식방지를 위한 표면처리 소재로 사용되는 경우 비교적 두껍게(15 ${\mu}m$ 이상) 코팅된다. 본 연구에서는 얇은 두께(3 ${\mu}m$ 이하)의 알루미늄 박막을 이용하여 높은 내식성을 갖는 코팅 공정을 개발하고자 한다. 물리기상증착으로 코팅되는 대부분의 금속은 주상정 구조를 갖는다. 주상정 구조는 grain boundary에 공극이 존재하고, 이 공극을 통해서 부식을 일으키는 물질이 보호막과 모재의 계면으로 침투하여 모재가 부식을 일으킨다. 스퍼터링 공정을 제어하여 알루미늄 박막의 공극 발생을 억제하여 보호막으로서의 기능을 향상할 수 있는 방법을 제안한다. 알루미늄 코팅을 위해서 magnetron sputtering을 이용하였으며, 기판은 냉연강판을 사용하였다. 냉연강판위에 코팅된 알루미늄 박막을 분석한 결과, 스퍼터링 소스에 역방향 자기장을 인가하여 코팅한 알루미늄 박막이 염수분무 120 시간 후에도 적청이 발생하지 않는 우수한 내식성을 보였다.

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 1997.11a
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• pp.114-115
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• 1997

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2003.06a
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• pp.50-51
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• 2003

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 1993.03a
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• pp.20-21
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• 1993

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2014.02a
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• pp.479.2-479.2
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• 2014

자가 세정 및 김서림 방지가 가능한 투명 코팅 소재로써 $TiO_2$ 코팅박막을 제안하였으며, $TiO_2$ 코팅박막은 스퍼터링 방식으로 제작하였다. 낮은 표면 에너지를 갖는 물질을 화학적으로 변형시키고 유리기판 위 텍스쳐링을 형성함으로써, 수분에 대해 완전히 다른 특성을 갖는 표면을 유도하며, 김서림 방지 기능과 자가세정, 그리고 높은 빛 투과 특성으로 스마트 표면 코팅을 구현할 수 있다. $TiO_2$ 자가세정 코팅기술은 설치 후 1년 안에 먼지 및 오염에 따라 최대 40%의 효율 저하가 나타나는 태양전지, 디스플레이 패널 분야에서 매우 중요한 요소로 자리 잡을 것으로 기대되어진다. 본 연구에서는 $TiO_2$ 세라믹 타겟이 부착된 비대칭 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 $TiO_2$ 박막을 증착하였으며 증착되어진 $TiO_2$ 박막의 광촉매 특성과 트라이볼로지 특성을 고찰하였다. 광촉매 특성으로는 표면 접촉각 분석을 통하여 고찰하였으며, 트라이볼로지 특성으로는 경도, 잔류응력, 마찰계수, 표면 거칠기 등을 평가하였다. 또한 XRD, FESEM 분석등 구조분석을 통하여 광촉매 특성과 트라이볼로지 특성등과의 연관성을 규명하였다.