전자장 해석을 위한 많은 수식들이 전계형 적분방정식으로 수식화되어 여러 가지 수치적인 방법으로 해석되어진다. 일반적으로 이 식은 특이점을 갖는 Kernel로 표현되어지며, 주어진 문제에 따라 식이 간략화 되어지지 않으면 해석시 수직과 프로그램이 복잡하여진다. 본 논문에서는 BOR구조의 도체에 적용할 수 있는 새로운 적분방정식을유도하였으며, 이 식은 직선형 wire도체의 경우에 더욱 간략화 되어진다. 동축선로로 급전되어지는 monopole안테나와 임의의 각도로 입사하는 평면파에 의한 도체의 산란문제를 응용예로서 다루었다.
지상 LiDAR(Light Detection And Ranging)는 정밀하고 빠르게 물체의 3차원 형상을 측량할 수 있는 시스템이다. 기본적으로 종전의 레이저 측량기의 기능을 갖고 있으며, 초당 최대 $5,000{\sim}50,000$ point의 레이저를 대상체 표면에 발사하여 대상체면에 투사한 레이저의 간섭이나 반사를 이용하여 대상체면상의 point could의 공간정보를 취득하는 관측방식의 3차원 정밀 측량으로서 대상체의 표면으로부터 상대적인 3차원(X, Y, Z) 지형공간좌표를 각각의 Point 데이터로 기록한다. 이러한 측정방법은 레이저가 반사되어 돌아오는 시간을 계산하여 거리를 결정하고 ${\theta}_h$(수평각)과 ${\theta}_v$(수직각) 각도만큼 수평, 수직으로 회전하여 측정한 점의 위치를 결정하므로 데이터 취득 각도에 따른 오차가 발생하게 된다. 본 연구 에서는 지상LiDAR 데이터 취득각도에 따른 오차 시뮬레이션 실시하여 실제 실험과의 비교 및 입사각에 따른 정확도 분석을 실시하였다.
3차원 영상을 디스플레이하기 위한 반사형 광기록식 공간 광소자(Optically Addressed Spatial Light Modulator)를 연구하였다. 다시점 영상으로 표현되는 3차원 영상을 시분할 방식으로 디스플레이 하기 위해서는 고속의 프레임 구동이 가능한 디스플레이 소자가 있어야 하는데 본 연구에서는 Surface Stabilized Ferroelectric Liquid Crystal을 이용하여 그림 1과 같은 구조를 갖는 소자를 제작하였다.$^{(1)}$ 입력상이 입사되는 방향에 1.1 미리 미터 정도의 ITO 유리 기판이 있으며 투명 전극 다음에 약 2마이크론 정도의 비결정질 구조를 갖는 Si:H 감광층이 있다. 반사형 구조를 위해서 반사경으로 알루미늄 층을 10마이크론 X 10 마이크론 크기의 미소 패턴으로 화소화하였으며 강유전성 액정 결정을 Surface Stabilized화하기 위해서 배양막과 2 마이크론 이하의 Spacer를 두었다. 일반적인 액정 소자와 같이 다시 배양막과 유리 기판을 갖게 하였다. (중략)
본 논문에서는 국내 및 국외에서 항만 구조물 설계시 적용되는 월파량 산정식을 고찰해 보고 각각의 식에 대한 특성을 비교하였다. 일반적으로 항만구조물 설계시 대부분 구조물에 직각으로 입사하는 조건을 대상으로 하여 각종 설계 인자를 계산한 후 설계에 적용하게 된다. 그렇지만 실제 항만구조물 설계시 경사입사파 조건에 대한 검토가 필요한 경우가 발생한다. 이는 일반적으로 경사입사파 내습시 직각입사파 조건에 비하여 월파량이 저감되므로 경제적인 설계를 위해서는 필요한 사항이다. 본 논문에서는 기존 직립제에 대한 월파량 산정식의 비교 및 분석을 하였다. 그리고 국내 월파량 산정식의 개선점을 고찰해 보고자 한다.
특정한 배광 구현을 위하여 부피를 갖는 실제 광원에 대한 프리즘 설계법을 연구하였다. 입사각을 알고 목표 방향으로 광선을 보내려 할 때, 프리즘 정각을 구하는 수식을 유도하였고, 순차적으로 프리즘 정각을 구하였다. 점광원으로 가정한 설계 결과의 문제점을 분석한 후 이를 보완하여 부피를 갖는 광원에 적용할 수 있는 설계법을 도출하였다. 각각의 설계 결과로 나온 배광과 효율을 비교, 분석하였고 보완된 설계법을 통해 개선된 결과를 얻을 수 있었다.
1980년 3월 대학원에 진학한 후, 나는 본격적으로 천문학도의 길로 들어섰다. 대학원에서 근성점 운동을 보이는 세 개의 식쌍성을 광전관측한 결과를 석사학위논문으로 제출하여 졸업한 후, 1982년 3월 국립천문대(1974.9.-1986.3) 에 입사하였다. 국립천문대가 정부출연연구기관인 한국전자통신연구소 부설 천문우주과학연구소(1986.3-1991.10)로 바뀌고, 한국표준과학연구원 천문대(1991.10-1999.5)로 변경되는 11년의 기간을 보낸 후, 나는 1993년 3월 충북대학교 천문우주학과로 이직하였다. 2019년 2월 정년퇴직하여 현재 명예교수와 석좌연구원으로 28년간 충북대학교에 재직하고 있다. 그러니까 40여년 간 천문학도의 길을 걸은 셈이다. 나는 그 여정의 길을 회고하면서 그 길에서 만든 조그마한 작품들을 소개하고자 한다.
본 연구는 식품의 안전성을 보장할 수 있는 과학적이고 체계적인 예방체계인 HACCP 개념에 대한 교육 및 이해 정도를 조사하고, 위생 관리 현황을 평가함으로써 실제 급식소에서의 HACCP 적용 정도를 파악하고자 2001년 5월 서울 시내 사업체 급식 관리자를 대상으로 설문 조사를 실시하였으며 그 결과는 다음과 같았다. 1. 조사 대상자 중 89.3%는 HACCP 교육을 받았으나 10.7%는 받지 않은 것으로 나타났으며, 교육받은 시기는 입사 전 48.6%, 입사 후 51.4%를 나타냈다. HACCP에 대한 이해 정도에서 잘 이해한다가 40.9%, 반 정도 이해한다가 47.8%, 잘 이해하지 못한다가 10.0%로 조사되었다. 2. HACCP에 준한 위생 관리 수행 상태에서 온도-소요시간/기타사항, 개인위생 및 기기 설비 위생은 각각 3.91, 4.02, 4.33점으로 온도-소요시간/기타사항에 대한 위생 관리 수행 상태가 가장 낮았으며, 온도-소요시간/기타사항에 있어서 각 단계별 위생 관리 수행 상태는 원재료 저장> 조리> 전처리 후 저장> 급식> 전처리, 급식 전 보관>후처리> 구매 및 검수의 순이었다. 3. 급식관리자의 HACCP 교육의 유무, 교육받은 시기 및 이해 정도에 따른 위생 관리 수행 상태에서 HACCP 교육을 받은 경우와 HACCP을 잘 이해하고 있는 급식관리자의 위생 관리 수행 점수가 유의적으로(P<0.01) 높았으며, 입사 후에 HACCP 교육을 받은 경우 또한 입사 전에 교육을 받은 급식관리자에 비해 위생 관리 수행 점수가 유의적으로(p<0.01) 높았다. 4. HACCP 교육에 따른 HACCP의 이해 정도에서, HACCP 교육을 받은 급식관리자는 HACCP를 잘 이해한다 44.7%, 반 정도 이해한다 47.5%, 잘 이해하지 못한다. 7.6%로 HACCP 교육을 받지 않은 급식관리자의 각각 25.0%, 50.0%, 25.0%와 비교해 유의적인(p<0.05) 차이를 보였다. 5. HACCP 교육을 받은 경우는 HACCP에 대한 이해 정도와 유의적인(p<0.05) 양의 상관 관계를 보였으며, HACCP에 대한 이해 정도와 수행 정도도 유의적으로(p<0.01) 높은 양의 상관관계를 나타내었다. 이상의 결과를 종합해 볼 때, 현재 우리 나라의 사업체 급식에 있어서 HACCP 제도에 관한 교육과 홍보가 많이 이루어진 것은 사실이지만, 더욱 더 확실한 위생 안전성 확보를 위해서는 급식관리자가 쉽게 이해하고 적용시킬 수 있는 다양하고 효과적인 교육 내용의 개발과 실시 방법에 대한 연구와 더불어 실무와 함께 하는 정기적이고 반복적인 교육, 훈련이 병행되어야 할 것으로 사료된다. 이상의 결과가 사업체 급식관리자의 식품위해요소중점관리 기준에 대한 인지도 및 위생관리 수행평가의 전반적인 면을 대표할 수 없는 연구의 제한점을 가지고는 있으나 이 연구를 기초로 앞으로 더욱더 체계적인 연구들이 실시되리라 기대한다.
열산화시킨 $SiO_2$ 박막의 두께와 입사 전류의 양에 따라 이차전자 방출 계수를 측정하였다. $930^{\circ}C$에서 열산화시킨 $SiO_2$ 박막 두께는 58nm, 19nm, 43nm, 79nm, 95nm, 114nm였으며 이들의 이차전자의 방출 특성이 박막 두께와 전류량에 따라 변화하는 것을 확인하였다. 박막 두께 43 nm 이하의 얇은 박막에서는 대체적으로 universal curve의 형태를 따르지만 79 nm 이상의 두꺼운 박막에서는 이차전자 방출곡선이 최고점이 2개인 형태로 변하며 그 값도 전반적으로 낮아진다. 또 입사시키는 일차전자 전류의 증가에 대해서도 이차전자 방출곡선이 전체적으로 낮아진다. 이 실험에서 측정된 최대 이차전자 방출 계수는 박막 두께 19 nm, 일차 전자 에너지 300 eV 일차 전류 0.97 $\mu\textrm{A}$일 때 3.35를 갖는다. 이차전자 방출계수가 최대인 입사에너지에서 전자의 시료내 침투깊이와 탈출깊이와의 관계식을 통하여 박막 두께를 이론적으로 계산하였으며, 실험값과 비교적 일치하는 것을 확인하였다.
본 연구에서는 국내 여수항만에 길이 500미터, 폭 200미터, 두께 2미터인 폰툰형 VLFS타입의 해상부두를 제안하였다. 이 구조물은 해상에서 오랫동안 파랑하중을 견뎌야하므로 파랑응답해석이 필수적이다. 유체-구조부 해석에는 직접법을 사용하였고, 연성운동방정식을 수치해석하여 응답 결과를 구하였다. 구조부는 유한요소법을 이용하여 계산하였으며, 유체부는 경계요소법을 사용하여 분석하였다. 탄성변형과 강체운동으로 인한 동적응답을 수치적으로 분석하였으며, 파장, 수심, 파향, 구조물의 강성 요소를 고려하여 규칙파에 대한 응답을 해석하였다. 연구의 결과, $L/{\lambda}$ 1.5를 기준으로 응답이 변화하였고, 입사파의 방향에 따라 비틀림 현상이 나타났다. $L/{\lambda}=8.0$의 경우 수심이 증가할수록 입사측에서의 응답이 증가하는 경향이 나타났고, 강성의 변화에 따라 수직변위진폭의 피크점이 좌우로 이동하였다.
본 연구는 제작된 방사선 측정시스템을 평가하기 위한 방법중의 하나인 유효측정점을 명확히 정하기 위하여 실행되었다. 일반적으로 원통형이나 두 전극간의 간격이 매우 작은 평행평판형 이온함의 경우 유효측정점은 잘 정의 되어있다. 그 정의에 의하면 그리 크지 않은 체적을 갖는 평행평판형 이온함의 유효측정점은 방사선이 입사되는 윗면의 바로 아래로 정의한다고 되어있다. 그러나 본 연구에서 제작한 이온함과 같이 두 전극간의 간격을 비교적 크게 할 경우 위의 정의는 더 이상 유효하지 않을 수도 있을 것으로 생각되어 평행평판형 이온함의 두 전극간의 간격을 3, 6, 10 mm로 하여 체적이 0.9, 1.9, 3.1 cc로 비교적 크게 한 경우에 그 유효측정점의 변화를 검토하고자 하였다. 실험은 의료용 선형가속기로부터 발생가능한 광자선 6, 10 MV와 전자선 6, 12 MeV에 대하여 시행되었으며, 방법은 이온함의 buildup의 두께를 증가시켜가면서 방사선의 측정선량이 최대가 되는 깊이를 조사하였다. 그 결과 광자선과 전자선의 경우 조사된 모든 에너지에 대하여 그 정도의 차이는 있으나 전반적으로 이온함의 체적이 커짐에 따라서 즉, 두 전극간의 간격이 멀어짐에 따라서 유효측정점이 이온함의 윗면에서부터 이온함의 중심 쪽으로 이동하는 경향을 보였다. 그 정도는 이온함 체적의 크기가 커질수록 더 크게 이동하는 양상을 보였다. 이와 같은 결과로 볼 때 평행평판형 이온함의 경우는 두 전극간의 간격이 어느 정도 큰 경우에는 유효측정점이 변하게 됨으로 이온함의 체적에 따라서 그 유효측정점을 조사할 필요가 있다고 생각된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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