• Title/Summary/Keyword: 인접 셀

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10 nm 이하의 낸드 플래시 메모리 소자의 셀 간섭에 의한 전기적 특성 변화

  • Yu, Ju-Tae;Kim, Tae-Hwan
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.301.1-301.1
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    • 2014
  • 모바일 전자기기 시장의 큰 증가세로 인해 플래시 메모리 소자에 대한 수요가 급격히 증가하고 있다. 특히, 저 전력 및 고집적 대용량 플래시 메모리의 필요성이 커짐에 따라 플래시 메모리 소자의 비례축소에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 하지만 10 nm 이하의 게이트 크기를 가지는 플래시 메모리 소자에서 각 셀 간의 간섭에 의한 성능저하가 심각한 문제가 되고 있다. 본 연구에서는 10 nm 이하의 낸드 플래시 메모리 소자에서 인접한 셀 간의 간섭으로 인해 발생하는 전기적 특성의 성능 저하를 관찰하고 메커니즘을 분석하였다. 4개의 소자가 배열된 낸드플래시 메모리의 전기적 특성을 3차원 TCAD 시뮬레이션을 툴을 이용하여 계산하였다. 인접 셀의 프로그램 상태에 따른 측정 셀의 읽기 동작과 쓰기 동작시의 전류-전압 특성을 게이트 크기가 10 nm 부터 30 nm까지 비교하여 동작 메커니즘을 분석하였다. 게이트의 크기가 감소함에 따라 플로팅 게이트에 주입되는 전하의 양은 감소하는데 반해 프로그램 전후의 문턱전압 차는 커진다. 플래시 메모리의 게이트 크기가 줄어듦에 따라 플로팅 게이트의 공핍영역이 차지하는 비율이 커지면서 프로그램 동작 시 주입되는 전하의 양이 급격히 줄어든다. 게이트의 크기가 작아짐에 따라 인접 셀 과의 거리가 좁아지게 되고 이에 따라 프로그램 된 셀의 플로팅 게이트의 전하가 측정 셀의 플로팅 게이트의 공핍영역을 증가시켜 프로그램 특성을 나쁘게 한다. 이 연구 결과는 10 nm 이하의 낸드 플래시 메모리 소자에서 인접한 셀 간의 간섭으로 인해 발생하는 전기적 특성의 성능 저하와 동작 메커니즘을 이해하고 인접 셀의 간섭을 최소로 하는 소자 제작에 많은 도움이 될 것이다.

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Charge trap flash 메모리 소자의 셀 간 간격의 변화에 따른 셀 사이의 간섭 현상

  • Park, Hun-Min;Jang, Sang-Hyeon;Yu, Ju-Hyeong;Kim, Tae-Hwan
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.194-194
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    • 2010
  • Charge trap flash (CTF) 구조를 가진 플래시 메모리 소자는 기존의 플래시 메모리 소자에 비해 쓰고 지우는 속도가 빠르고, 데이터의 저장 기간이 길며, 쓰고 지우는 동작에 의한 전계 스트레스에 잘 견디는 장점을 가지고 있다. 이러한 장점에도 불구하고 CTF 플래시 메모리에서도 수십 나노 이하로 소자의 셀 사이즈가 감소함에 따라 단 채널 효과, 펀치스루 현상 및 셀 사이의 간섭현상이 발생함에 따라 이러한 문제들을 해결해야 한다. 인접한 셀 사이에 발생하는 간섭 현상에 대해선 플로팅 게이트를 사용한 플래시 메모리 소자에 대하여 많은 연구가 진행되었으나, CTF 플래시 메모리 소자에서 나타나는 셀 사이의 간섭현상에 대한 연구는 만히 진행되어 있지 않다. 본 연구에서는 CTF 플래시 메모리 소자의 셀 사이의 간격이 작아짐에 따라 발생하는 인접한 셀 간의 간섭 현상에 대해 관찰하였다. CTF 플래시 메모리 소자의 셀 사이의 간격에 따른 비교를 위하여 각 소자의 셀을 구성하는 터널링 산화막, 질화막 및 블로킹 산화막의 두께를 동일하게 하였다. 각 셀 사이의 간격이 감소함에 따라 발생하는 소자의 전기적 특성을 TCAD 시뮬레이션 툴인 Sentaurus를 사용하여 계산하였다. 인접한 셀의 상태에 따라 발생하는 간섭 효과를 확인하기 위해 word line (WL)과 bit line (BL) 방향에 있는 주변 셀의 프로그램 상태에 따른 선택한 셀의 문턱전압이 변화 정도를 관찰하였다. 시뮬레이션 결과는 셀 사이의 간섭효과가 WL 방향에 의한 간섭 현상보다 BL 방향에 의한 간섭 현상보다 크다. 시뮬레이션한 전류-전압 특성 결과는 CTF 플래시 메모리 소자가 비례 축소할 때 인접하는 셀 사이에 간격이 15 nm 이하로 줄어들 경우에 간섭 현상이 급격히 증가하였다.

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A Study on Co­channel Interference considering Terminal Density of LEO Satellite Communication Service (단말기의 밀집도를 고려한 인접셀 간섭변화의 연구)

  • 오형준;김종진;정현진;송하윤;원유헌
    • Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
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    • 2003.10c
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    • pp.388-390
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    • 2003
  • 저궤도 위성망을 사용하는 이동통신에 대한 기존 연구는 셀 내에서의 채널 용량을 단말기의 수에 의해 결정하였지만, 통신 링크에서의 동일 셀 내의 간섭과 인접한 셀의 간섭(interference)은 단말기의 분포 및 밀집도에 따라 달라질 수 있다. 본 논문에서는 저궤도 위성망을 사용하는 이동통신 시스템의 인접 셀 영향을 고려한 단말기들의 밀집도에 따른 C/I의 변화량을 시뮬레이션을 통해 분석하였다.

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SONOS 형태의 플래쉬 메모리 소자에서 인접 셀 간 발생하는 간섭 현상

  • Jang, Sang-Hyeon;Yu, Ju-Hyeong;Kim, Tae-Hwan
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.253-253
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    • 2010
  • Silicon-oxide-nitride-oxide-silicon (SONOS) 구조를 가지는 플래쉬 메모리 소자는 기존의 플래쉬 메모리 소자에 비해 쓰고 지우는 속도가 빠르고, 데이터의 저장 기간이 길며, 쓰고 지우는 동작에 의한 전계 스트레스에 잘 견뎌내는 장점을 가지고 있다. 그러나 SONOS 형태의 플래쉬 메모리 소자에 대한 전기적 특성에 대한 연구는 많이 진행되었으나, SONOS 형태의 플래쉬 메모리에서 소자의 셀 사이즈가 감소함에 따라 발생하는 인접한 셀 간의 간섭 현상에 대한 연구는 상당히 미흡하다. 본 연구에서는 SONOS 형태의 플래쉬 메모리에서 소자의 셀 사이즈가 작아짐에 따라 발생하는 인접한 셀 간의 간섭 현상에 대해 조사하였다. SONOS 형태의 플래쉬 메모리소자의 터널링 산화막, 질화막과 블로킹 산화막의 두께를 결정하였고, 각 셀의 크기가 감소함에 따라 발생하는 소자의 전기적 특성을 3차원 시뮬레이션 툴인 Sentaurus를 사용하여 계산하였다. 병렬 캐패시턴스에 의해 셀들 사이에 발생하는 커플링 효과를 확인하기 위해 선택한 셀의 문턱 전압이 주변 셀들의 프로그램 상태에 의해 받게되는 영향을 관찰하였다. 본 연구에서는 셀 사이에 간섭 방지층을 삽입함으로 인접 셀 간 발생하는 간섭현상의 크기를 크게 줄일 수 있음을 시뮬레이션 결과를 통하여 확인하였다. 이때 간섭 방지층의 깊이에 따라 감소하는 문턱전압의 변화량을 계산하였고, 방지층을 충분히 깊게 제작함으로 셀 간 간섭 현상을 막을 수 있음을 확인 하였다.

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TCharge trap 층에 금속 공간층 삽입에 따른 charge trap flash 메모리 소자의 전기적인 특성

  • Lee, Dong-Nyeong;Jeong, Hyeon-Su;Kim, Tae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.200.1-200.1
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    • 2015
  • Charge trap flash (CTF) 메모리 소자는 기존의 플로팅 게이트를 사용한 플래시 메모리 소자에 비해 쓰고 지우는 속도가 빠르고, 소비 전력이 적으며, 쓰고 지우는 동작에 의한 전계 스트레스에 잘 견뎌내는 장점을 가지고 있다. 그러나 CTF 메모리 소자에서도 메모리 셀의 크기가 작아짐에 따라 셀 사이의 간섭 효과를 무시할 수 없다. 인접 셀 간의 간섭현상은 측정 셀의 문턱전압을 예측할 수 없게 변화시켜 소자 동작의 신뢰성을 낮추고 성능을 저하시킨다. 본 논문에서는 셀 사이의 간섭을 줄이고 소자의 성능을 향상시키기 위해 charge trap 층에 금속 공간층을 삽입한 CTF메모리 소자의 전기적인 특성에 대해 연구하였다. 금속 공간층을 갖는 CTF 메모리 소자는 기존 CTF 메모리 소자의 트랩층 양 측면에 절연막과 금속 공간층을 증착시켜 게이트가 트랩층을 감싸는 구조를 갖는다. 인접 셀 사이에 발생하는 간섭 현상과 전계 분포를 분석하였다. 프로그램 동작 시CTF 메모리 소자 내에 형성되는 전계의 분포와 크기를 계산함으로 금속 공간층이 인접한 셀에서 형성된 전계를 차폐시켜 셀 간 간섭 현상을 최소화하는 것을 확인하였다. 이러한 결과는 인접 셀 간의 간섭현상을 최소화하면서 소자 동작의 신뢰성이 향상된 대용량 메모리 소자를 제작하는데 도움을 줄 수 있다.

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SONOS 구조를 가진 플래쉬 메모리 소자의 셀 간 간섭효과 감소

  • Kim, Gyeong-Won;Kim, Hyeon-U;Yu, Ju-Hyeong;Kim, Tae-Hwan;Lee, Geun-U
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.125-125
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    • 2011
  • Silicon-oxide-silicon nitride-oxide silicon (SONOS) 구조를 가진 플래쉬 메모리 소자는 기존의 floating gate (FG)를 이용한 플래쉬 메모리 소자에 비해 구동 전압이 낮고, 공정 과정이 간단할 뿐만 아니라 비례 축소가 용이하다는 장점 때문에 차세대 플래쉬 메모리 소자로 많은 연구가 진행되고 있다. SONOS 구조를 가진 플래쉬 메모리에서 소자의 셀 사이즈가 감소함에 따라 발생하는 인접한 셀 간의 간섭 현상에 대한 연구가 소자의 성능 향상에 필요하다. 본 연구에서는 SONOS 구조를 가진 플래쉬 메모리에서 소자의 셀 사이즈가 작아짐에 따라 발생하는 인접한 셀 간의 간섭 현상에 대해 recess field 의 깊이에 따른 변화를 조사하였다. 게이트의 길이가 30nm 이하인 SONOS 구조를 가진 플래쉬 메모리 소자의 구조에서 recess field의 깊이의 변화에 따른 소자의 전기적 특성을 삼차원 시뮬레이션 툴인 sentaurus를 사용하여 계산하였다. 커플링 효과를 확인하기 위해 선택한 셀의 문턱전압이 주변 셀들의 프로그램 상태에 미치는 영향을 관찰하였다. 본 연구에서는 SONOS 구조를 가진 플래쉬 메모리에서 셀 사이에 recess field 를 삽입함으로 인접 셀 간 발생하는 간섭현상의 크기를 줄일 수 있음을 시뮬레이션 결과를 통하여 확인하였다. 시뮬레이션 결과는 recess field 깊이가 증가함에 따라 인접 셀 간 발생하는 간섭현상의 크기가 감소한 반면에 subthreshold leakage current가 같이 증가함을 보여주었다. SONOS 구조를 가진 플래쉬 메모리 소자의 성능향상을 위하여 recess field의 깊이를 최적화 할 필요가 있다.

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Mobile Tx Power Prediction-Based Call Admission Control for CDMA System (CDMA 시스템에서 이동국의 송신전력 예측에 기반을 둔 호 수락 방식)

  • 최성철;윤원식
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.28 no.6A
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    • pp.371-378
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    • 2003
  • In Code Division Multiple Access (CDMA) system, the cell capacity is defined as the number of available channels in a cell, which is limited by the interferences. When a new call is accepted at its home cell, this adds the interference to the home and its neighboring cells. This paper proposes a call admission control based on mobile transmission power prediction. The home cell has enough capacity to admit new call and if home cell would have admitted a new call, it calculates the mobile transmission power. Also, its neighboring cell can predict the amount of interference using the predicted mobile transmission power. Thus, the new mobile is accepted by its home cell if QoS(Quality Of Service) is guaranteed in its neighboring cells. The simulation result shows that the proposed scheme largely reduces the outage probability in the neighboring cells.

Transmit Power Allocation for Soft Frequency Reuse in Coordinated Cellular Systems (인접셀간 협력하는 셀룰라 시스템에서 소프트 주차수 재사용을 위한 송신전력할당 기법)

  • Kim, Dong-Hee
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.34 no.4A
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    • pp.316-323
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    • 2009
  • Power allocation of soft frequency reuse(SFR) to increase cell edge user throughput by reducing inter-cell interference is proposed for coordinated cellular systems. SFR is the effective technique to increase cell edge user throughput, however, it costs the degradation of total system throughput. The cost increases when SFR operated in distributed resource controlled systems fails to be fast adaptive in the change of user distribution. The proposed scheme enables coordinated cells to control transmit power adaptively depending on user distribution so that it minimizes the loss of system throughput introduced from SFR while it guarantees enhancement of cell edge user throughput. Through system level simulation considering neighboring two cells, evaluation result for adaptive power allocation is shown compared with static power allocation.

SIR based Beam Switching in Distributed Controlled Cellular Systems (분산제어되는 셀룰라 시스템에서 SIR기반 빔 스위칭 기법)

  • Kim, Dong-Hee
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.35 no.5A
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    • pp.452-456
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    • 2010
  • SIR based beam switching in distributed controlled cellular systems is proposed to reduce intercell interference. Compared with Random beam switching that beam switching pattern is randomly selected and cannot avoid beam collision between neighboring cell, SIR based beam switching update its switching pattern based on SIR report from mobile. Neighboring cells independently update their switching patterns and the updated patterns converge to the patterns that minimize beam collision. We shows SIR base beam switching has 20% gain compared with random beam switching in two neighboring cell model.

Dynamic Channel Allocation in Closed-Access Small Cell Networks (폐쇄형 접속 방식의 소형셀 네트워크를 위한 동적 채널 할당 알고리즘)

  • Mun, Cheol;Jo, Han-Shin
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.39A no.1
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    • pp.50-61
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    • 2014
  • Operating small cell with existing macro cell is of interest in wireless communication technology to enhance network capacity. Closed-access small cell allows the access of users registered in it and causes severe interference to nearby users connected to macrocell. We propose a dynamic channel allocation for small cells in the same building that first aim to minimize call-drop of the nearby macrocell users, and then want to reduce interferences between the small cells. Since the interference effect of small cells on the nearby macrocell users mainly depends on the small cells' position, the proposed algorithm includes a self-configuration to flexibly allocate frequency channels according to the variation of downlink quality of the macrocell users. Furthermore the algorithm is very simple and practical, which is main contribution of this paper. We observe that the proposed algorithm provides 82-94% of maximum achievable throughput.