본 논문에서는 마이크로스트립 선로로 급전되는 원형 섹터 마이크로스트립 안테나를 사용하여 서로 수직한 편파 특성을 갖는 이중주파수 안테나를 설계하였다. 공진기 모델을 사용하여 여기되는 모드를 계산하였고 안테나의 동작주파수 및 편파 특성을 살펴보았다. 1.87 GHz대와 2.42 GHz 대역에서 동작하는 이중주파수 안테나를 제작하여 S-파라미터 및 복사패턴을 측정하였다. 다음은 요약문 입니다.
단일 주파수로 유도가열에 의한 표면 경화 열처리 공정에서 생기는 설비의 이중 투자 문제 및 열처리 공정시간을 단축할 수 있도록 하기 위해 하나의 공정에서 두가지 공정을 동시에 처리할 수 있도록 해주는 동시 이중 주파수(Simultaneous dual frequency: SDF) 구동기법 기술에 대해 설명한다. 본 논문에서는 듀얼 방식의 인버터를 제안하여 이중 주파수(Dual frequency) 구동기법을 구현하였으며 시뮬레이션과 실험을 통해 제안된 인버터의 이중 주파수제어 및 전력제어를 검증하였다.
다중주파수 초음파를 이용한 하수슬러지의 전처리시 탈수성와 침강성에 관한 실험을 실시하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. CST 변화량은 조사시간 80분까지 증가하다가 이후에는 감소하는 경향을 보여 탈수성이 개선될 수 있음을 보였다. 또한 삼중주파수가 이중주파수 일때보다 더 큰 영향을 끼쳤다. 2. $SV_{30}$의 변화량은 초음파 조사와 동시에 급격히 변화하여 침강성의 악화를 가져왔다. 또한 삼중주파수가 이중주파수 일때보다 침강속도를 더 빨리 악화시켰다. 3. 수온은 상승하였고, pH의 변화는 거의 일어나지 않았다. 본 실험에서 다중주파수를 사용하였을때, 단일주파수를 사용했을때보다 효율이 높았다. 그러나 다중주파수를 이용한 초음파 처리시 정확한 탈수성과 침강성 평가를 위해 ECP, 여과비저항(SRF), 입도분도, 점도 등 다양한 후속연구를 진행해야 할 것이다.
본 논문은 주파수도약 확산스펙트럼 통신에 적용하기 위한 이중루프 간접 주파수 합성기에 대하여 연구하였다. 간접주파수합성 방법에서 PLL을 이용한 주파수합성기의 문제점으로는 주파수 변화에 따르는 댐핑 계수의 값 변화로 인하여 불안정한 주파수 발생 요인이 되고 있다. 따라서 안정한 주파수합성 출력을 위해서는 댐핑 계수를 최적화하고 과도응답 시간이 없는 시점에서 출력되어야 한다. 본 연구에서는 안정된 주파수를 얻기 위하여 이중루프 주파수합성기를 이용하여 FH/SS 통신을 위하여 적용하였다. 실험 결과를 통하여 주파수 도약을 위한 실시간 속도가 증가하였고, 안정된 주파수를 얻을 수 있었다.
이중 주파수를 이용한 고주파 용량성 결합 플라즈마 장치는 반도체 및 디스플레이 생산 공정에서 널리 사용되는 장치 형태이며 일반적으로 이온 플라즈마 주파수보다 높은 주파수의 고주파 전력과 이온 플라즈마 주파수보다 낮은 주파수의 저주파 전력을 인가하여 플라즈마 발생 밀도 및 입사 이온 에너지를 독립적으로 조절할 수 있다. 용량성 결합 플라즈마 장치에서는 전극의 쉬스 임피던스가 비선형적으로 변화함에 따라 전극의 전압, 전류 및 플라즈마 전위는 수많은 고조파를 포함하게 되며, 이중 주파수가 인가된 경우 이러한 고주파와 저주파 신호의 고조파가 상호 변조된 형태로 나타나게 된다. 본 연구에서는 주파수에 따른 이온의 거동 특성 차이를 이용하여 변조된 형태의 Lieberman의 비균일 RF쉬스 모델을 가정한 고주파 쉬스를 단순한 저주파 쉬스로 모사하였다. 단순화된 저주파 쉬스 임피던스를 이용한 회로 모델을 구성하여 100MHz와 2MHz RF전력을 사용하는 용량성 결합 플라즈마 장치에서 측정된 전극 전압, 전류 및 플라즈마 전위 신호의 위상차 및 고조파 발생 특성을 분석하였다.
본 논문에서는 CRLH 전송 선로를 이용한 스터브 구조의 이중 대역 가지선로 결합기를 제안한다. 기존의 스터브 구조의 이중 대역 가지 선로 결합기는 동작하는 두 주파수가 근접할수록 스터브 선로의 임피던스가 증가해 구현이 불가능 하다. 제안된 이중 대역 가지선로 결합기는 비교적 근접한 1800MHz와 2300MHz 두 주파수에서 동작한다. 고 임피던스 스터브 선로는 이중 대역 소자 설계에 유용한 CRLH 전송 선로를 사용하여 구현 된다. 두 주파수에서 측정된 삽입 손실은 이상적인 결합기에 비해 최대 1.88dB의 오차가 났으며 두 출력 포트 사이의 위상차는 $1^{\circ}$미만 이다. 동작하는 두 주파수의 비는 1.28:1로 비교적 작은 차이를 보인다.
본 논문에서는 마이크로스트립 선로로 급전되는 원형 섹터 마이크로스트립 안테나를 사용하여 서로 수직한 편파 특성을 갖는 이중주파수 안테나를 설계하였다. 공진기 모델을 사용하여 여기되는 모드를 계산하였고 안테나의 동작주파수 및 편파 특성을 살펴보았다 1.87 GHz대와 2.42 GHz 대역에서 동작하는 이중주파수 안테나를 제작하여 S-파라미터 및 복사패턴을 측정하였다.
본 논문은 새로운 형태의 코프래너 급전형 이중 주파수 안테나 구조로서 단순한 두 개의 모노폴 안테나를 접합시켜 구성한 이중 주파수 모노폴 안테나를 제시한다. 각 공진 주파수는 각각의 모노폴 길이에 의해 결정되며 보다 긴 길이의 모노폴이 첫 번째 낮은 주파수의 공진 모드를, 짧은 길이의 모노폴이 두 번째 높은 주파수의 공진 모드를 형성한다. 임피던스 정합을 일으키는 방법은 CPW 공급선로를 이루는 접지 평면과 모노폴 사이의 간격에 의한 기생적인 신호결합 효과를 이용하였다 시뮬레이션을 통하여 설계된 안테나의 규격을 따라 제작된 안테나는 두 개의 공진 주파수가 약 6.25[GHz]와 23.5[GHz]에서 일어났으며, 두 주파수 사이의 간격이 $370\;%$ 이상인 이중 주파수 모노폴 안테나였으며 VSWR=2 임피던스 대역폭은 각각 $35.2\%,\;41.3\%$로 나타났다. 제안된 안테나 구조은 단순한 모노폴 안테나 구조들을 결합하여 넓게 떨어진 두 주파수 대역에서 동작하게 하며 RF 집적회로를 위한 안테나 구성을 가능하게 하였다.
본 논문에서는 왼손(left-handed)과 오른손(right-handed) 방향으로 각각 $180^{\circ}$ 트위스트(${\pi}$-twist)된 액정상을 두 개의 안정상태로 가지는 쌍안정(bistable) 액정 디스플레이(liquid crystal display)를 제안한다. 제안된 소자는 액정과 자외선경화 폴리머 물질의 혼합물의 비등방성 상분리 방법으로 형성된 격벽에 의해 화소고립된(pixel-isolation) 구조를 가지며, 인가전압의 주파수에 따라 유전율 이방성의 부호가 바뀌는 이중주파수(dual-frequency) 특성의 네마틱(Nematic) 액정을 사용한다. 두 안정된 액정상 사이의 스위칭은 인가전압의 주파수를 연속적으로 변화시킴으로써 이루어지며, 주파수 변화에 따른 액정의 유체 효과에 의해 발생하므로 응답특성이 매우 빠르다. 두 액정상은 카이랄 도펀트(chiral dopant)가 아니라 격벽이 가지는 앵커링(anchoring)의 영향으로 안정화됐기 때문에 거의 동일한 탄성에너지(elastic free energy)를 가지게 되어 우수한 메모리 특성을 나타낸다. 또한, 위상지연필름을 이용한 투과형 광학보상을 통해 높은 정면 명암비(contrast ratio)를 가질 수 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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