• 제목/요약/키워드: 이온 스파터

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이온 스파터 가공에 의하 금속표면의 표면거칠기에 관한 연구 (A Study on The Surface Roughness Of Metal Workpieces Machined by Ion Sputtering)

  • 한응교;노병옥;박재민
    • 대한기계학회논문집
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    • 제14권3호
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    • pp.747-754
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    • 1990
  • 본 연구에서는 장시간 가공하는 경우 가공량과 가공물에 입사되는 이온 빔의 입사각도에 따라 이온 스파터 가공이 표면거칠기에 미치는 영향에 대해서 연구해 보았 다.

다이아몬드 촉침의 이온 스파터 가공조건에 관한 연구 (A study on the machining condition of diamond stylus using ion sputter machining)

  • 한응교;노병옥;김병우
    • 대한기계학회논문집
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    • 제14권6호
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    • pp.1495-1508
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    • 1990
  • 본 연구에서는 전류밀도와 가공시간을 변화시켰을 때의 가공량, 가공상태를 검토해 보았으며, 촉침홀더의 가공각도를 달리하거나 재부착문제를 해결하기 위한 마 스크의 사용여부에 따른 촉침의 가공상태를 알아보기 위해 초기선단반경 2$\mu\textrm{m}$, 선단각 90˚의 다이아몬드 촉침을 이온스파터 가공기를 사용하고, 가공조건을 변화시켜서 초 정밀 가공품의 표면거칠기 측정에 적합한 0.5$\mu\textrm{m}$ 이하의 미세한 선단반경을 갖는 촉침 을 가공하기 위한 가공조건에 대한 실험을 하였다.

표면거칠기 측정용 다이아몬드 촉침의 마모에 관한 연구 (A Study on the Wear of Diamond Stylus for Surface Roughness Measurement)

  • 한응교;노병옥;박두원;김종억
    • 한국정밀공학회지
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    • 제8권3호
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    • pp.105-113
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    • 1991
  • The practicability of Ion-Sputter machining renders it possible to make diamond stylus for surface roughness measurement with micro stylus tip radius less than 2${\mu}mR$, and to measure surface roughness of fine-machined surface. In this study, we researched the wear or Ion-Sputtered stylus with 0.1${\mu}mR$ and 0.5${\mu}mR$ for micro-figure measurement and polished stylus with 0.5${\mu}mR$ according to measurement distance. As a result, we know that the case of Ion-Sputtered stylus is worn down easilier the case of polished stylus. And we know that in the evaluation of stylus wear, it is more useful method that examine the wear by measuring the variation of stylus tip radius than by evaluating the variation of Ra values.

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대향타겟트 스파터기에서 반응성 플라즈마의 스펙트로스코프 검진 (Spetroscopic Diagnostics of Reactive Plasma in a Facing Target Sputtering Unit)

  • 나종갑;이택동;박순자
    • 한국재료학회지
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    • 제2권5호
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    • pp.337-342
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    • 1992
  • 대향타겟트형 스파터기에서 BaO-l2Fe 복합타겟트를 사용하고 50% $O_2$+Ar 스파터가스를 사용한 반응성 프라즈마를 스펙트로스포프법으로 검진하였다. 프라즈마의 스펙트럼은 Ba, B$a^+$, Fe, FeO, F$e^+$, Ar, $Ar^+$, O, $O^+$의 피크로 이루어져 있었으며 타겟트로 부터 멀어짐에 따라 이온의 상대강도는 중성원소의 그것에 비하여 더 감소하였다.

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