A Study of Concentration Profiles in Amorphous Silicon by Phosphorus Doping and Ion Implantation (비정질 실리콘에서 인의 도핑과 이온주입에 따른 농도분포에 대한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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- v.12 no.1
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- pp.18-26
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- 1999