• Title/Summary/Keyword: 유전 문제 해결

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Room-Temperature Fabrication of Barium Titanate Thin Films by Aerosol Deposition Method (에어로졸데포지션법을 이용한 $BaTiO_3$ 박막의 상온 코팅)

  • Oh, Jong-Min;Nam, Song-Min
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.31-31
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    • 2008
  • 고주파 잡음 발생과 고집적화 문제 해결을 위해 고용량 디커플링 캐패시터를 기판에 내장하는 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 초고주파 환경에서 고용량 기판 내장형 디커플링 캐패시터로의 응용을 위해 $BaTiO_3$박막을 에어로졸 데포지션 법을 이용하여 12~0.2 ${\mu}m$의 두께로 제조하였고 그 유전특성을 조사하였다. 그결과, 1 MHz에서 permittivity가 70, loss tangent은 3% 이하였으며, capacitance density는 $1{\mu}m$의 두께에서 59 nF/$cm^2$이었다. 하지만, 박막의 두께가 $1{\mu}m$ 이하에서는 XRD를 통해 결정성이 확인 되었음에도 큰 누설전류로 인해 유전특성을 확인할 수 없었다. 이 누설전류의 발생 원인을 조사하기 위해 $BaTiO_3$박막의 표면의 미세구조를 SEM으로 관찰한 결과 여러 결함들이 확인되었으며, 또한 전극 직경의 크기를 1.5 mm에서 0.33 mm로 작게 변화시킴으로서 그 유전특성을 조사하여 박막의 불균일성과 박막화의 가능성을 확인하였다.

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Optimization of Max-Plus based Neural Networks using Genetic Algorithms (유전 알고리즘을 이용한 Max-Plus 기반의 뉴럴 네트워크 최적화)

  • Han, Chang-Wook
    • Journal of the Institute of Convergence Signal Processing
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    • v.14 no.1
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    • pp.57-61
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    • 2013
  • A hybrid genetic algorithm based learning method for the morphological neural networks (MNN) is proposed. The morphological neural networks are based on max-plus algebra, therefore, it is difficult to optimize the coefficients of MNN by the learning method with derivative operations. In order to solve the difficulty, a hybrid genetic algorithm based learning method to optimize the coefficients of MNN is used. Through the image compression/reconstruction experiment using test images extracted from standard image database(SIDBA), it is confirmed that the quality of the reconstructed images obtained by the proposed method is better than that obtained by the conventional neural networks.

An Application of Genetic Algorithm for Efficient Grating Allocation (효율적인 그레이팅 배치를 위한 유전 알고리즘의 적용)

  • Lee, Jung-Gyu;Cho, Tae-Ho
    • Journal of the Korea Society for Simulation
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    • v.15 no.4
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    • pp.137-142
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    • 2006
  • D/In modern production industries, computer aided systems have been improving the efficiency and convenience of the various stages of work. However. as the complexity of computerized production systems increases, various techniques are still necessary. The problem we addressed occurs in computer systems that automatically make manufacturing process plans in the metal grating manufacturing industry. In the grating layout design, the key to saving the manufacturing cost is to find a design with the minimal number of cutting operations. The proposed genetic algorithm explores the feasible alternatives within the space until an optimal solution is obtained.

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Complete genome sequence of Bacillus subtilis BS16045 isolated from Gochujang (고추장에서 분리된 Bacillus subtilis BS16045의 유전체 서열 분석)

  • Jeon, SaeBom;Heo, Jun;Uhm, Tai-Boong
    • Korean Journal of Microbiology
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    • v.53 no.1
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    • pp.55-57
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    • 2017
  • Bacillus subtilis BS16045 was isolated from Gochujang, a Korean red chili paste, in order to get a starter strain that can be used for preservation of the fermented foods. We report the whole genome sequence of B. subtilis BS16045, which contains 4,165,121 bp with a G+C content of 43.6%. We also confirmed the set of antibiotic genes producing surfactin, kanosamine, bacillaene, plipastatin, subtilosin A, and bacilysin, which are related to antifungal and antibacterial activities. These results indicate that B. subtilis BS16045 could be a potential starter strain for solving contamination by food-borne pathogens in the soybean products factory.

Graph Visualization Using Genetic Algorithms of Preserving Distances between Vertices and Minimizing Edge Intersections (정점 간의 거리 보존 및 최소 간선 교차에 기반을 둔 유전 알고리즘을 이용한 그래프 시각화)

  • Kye, Ju-Sung;Kim, Yong-Hyuk;Kim, Woo-Sang
    • Journal of the Korean Institute of Intelligent Systems
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    • v.20 no.2
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    • pp.234-242
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    • 2010
  • In this paper, we deal with the visualization of graphs, which are one of the most important data structures. As the size of a graph increases, it becomes more difficult to check the graph visually because of the increase of edge intersections. We propose a new method of overcoming such problem. Most of previous studies considered only the minimization of edge intersections, but we additionally pursue to preserve distances between vertices. We present a novel genetic algorithm using an evaluation function based on a weighted sum of two objectives. Our experiments could show effective visualization results.

A Medical-Contents Distributor for Information Sharing between Family Members on Internal BasedTele-Medicine System (인터넷기반 원격진료시스템에서의 가족간 정보공유를 위한 의료컨텐츠의 분산처리)

  • 박길철;김석수
    • Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
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    • 2003.10b
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    • pp.232-234
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    • 2003
  • 본 논문은 인터넷 기반의 유료 원격진료시스템에서 가족간의 유전성에 관련된 내용을 추출하여 관리하는 알고리즘을 제시하여 가족간 정보공유를 통한 효율적인 진단을 위한 병력기록관리에 대한 논문으로서, 환자의 일시적인 상황만 보고서 진단을 행하고 기본적인 검사와 치료를 행함으로서 오진의 확률이 빈번하며. 치료시간과 진료비 청구가 막대하게 지출될 수 가 있었으며, 급기야는 환자의 위급한 상황에 이르러 생명까지 앗아가는 경우가 발생할 것이다. 즉, 이러한 문제점을 최대한 줄이기 위한 방법이 바로 가족 구성간의 진료자료를 공유하여, 가족간의 체질과 환경을 이해하고 가족 중 비슷한 병을 앓았을 경우는 그 치료효과를 빠르게 가져올 수 있으며, 본 논문에서는 이런 문제해결을 위한 병력기록관리 데이터베이스에서의 알고리즘과 가족간 진료자료 공유 시뮬레이션 테이블을 통해서 해결점을 제시하고 있다.

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Estimating Haplotype Using the BOA (BOA를 이용한 하플로타입 추정)

  • Lee, Jong-Chan;Na, Joong Chae
    • Proceedings of the Korea Information Processing Society Conference
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    • 2015.10a
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    • pp.37-40
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    • 2015
  • 인간의 유전자의 돌연변이 서열인 SNP를 통하여 하플로타입을 추정하는 연구는 생명공학분야에서 중요한 연구분야이다. 일반적인 방법으로 하플로타입을 추정하는 것은 상당한 시간과 비용이 요구된다. SNP를 통한 하플로타입 추론에 대한 방법은 지금까지 여러 방법이 제시되었다. 본 논문에서는 해당 문제를 해결하기 위한 도구로 베이지안 네트워크를 제시하고, 이를 사용한 유전알고리즘인 BOA를 이용하여 해결하는 방법을 제시한다. 이후 BOA 소프트웨어를 이용하여 우선적으로 해집단크기 및 비율에 대한 정확도를 분석 후 적합도함수의 quality정보의 개입유무에 따른 정확도를 실험한다. 마지막으로 네트워크의 간선존재 여부에 따른 정확도를 실험하는 것으로 실험을 마친다. 실험결과 해집단크기와 비율에 따라 정확도가 상이한 결과를 얻었으며, quality정보의 개입이 없는 경우와 네트워크의 간선을 적용한 경우 모두 기존에 비해 저조한 정확도를 보였다.

The study of High-K Gate Dielectric films for the Application of ULSI devices (ULSI Device에 적용을 위한 High-K Gate Oxide 박막의 연구)

  • 이동원;남서은;고대홍
    • Proceedings of the Korea Crystallographic Association Conference
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    • 2002.11a
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    • pp.42-43
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    • 2002
  • 반도체 디바이스의 발전은 높은 직접화 및 동작 속도를 추구하고 있으며, 이를 위해서 MOSFET의 scale down시 발생되는 문제를 해결해야만 한다. 특히, Channel이 짧아짐으로써 발생하는 device의 열화현상으로 동작전압의 조절이 어려워 짐을 해결해야만 하며, gate oxide 두께를 줄임으로써 억제할 수 있다고 알려져 왔다. 현재, gate oxide으로 사용되고 있는 SiO2박막은 비정질로써 ~8.7 eV의 높은 band gap과 Si기판 위에서 성장이 용이하며 안정하다는 장점이 있으나, 두께가 1.6 nm 이하로 얇아질 경우 전자의 direct Tunneling에 의한 leakage current 증가와 gate impurity인 Boron의 channel로의 확산, 그리고 poly Si gate의 depletion effect[1,2] 등의 문제점으로 더 이상 사용할 수 없게 된다. 2001년 ITRS에 의하면 ASIC제품의 경우 2004년부터 0.9~l.4 nm 이하의 EOT가 요구된다고 발표하였다. 따라서, gate oxide의 물리적인 두께를 증가시켜 전자의 Tunneling을 억제하는 동시에 유전막에 걸리는 capacitance를 크게 할 수 있다는 측면에서 high-k 재료를 적용하기 위한 연구가 진행되고 있다[3]. High-k 재료로 가능성 있는 절연체들로는 A1₂O₃, Y₂O₃, CeO₂, Ta₂O, TiO₂, HfO₂, ZrO₂,STO 그리고 BST등이 있으며, 이들 재료 중 gate oxide에 적용하기 위해 크게 두 가지 측면에서 고려해야 하는데, 첫째, Si과 열역학적으로 안정하여 후속 열처리 공정에서 계면층 형성을 배제하여야 하며 둘째, 일반적으로 high-k 재료들은 유전상수에 반비례하는 band gap을 갖는 것으로 알려줘 있는데 이 Barrier Height에 지수적으로 의존하는 leakage current때문에 절연체의 band gap이 낮아서는 안 된다는 점이다. 최근 20이상의 유전상수와 ~5 eV 이상의 Band Gap을 가지며 Si기판과 열역학적으로 안정한 ZrO₂[4], HfiO₂[5]가 관심을 끌고 있다. HfO₂은 ~30의 고유전상수, ~5.7 eV의 높은 band gap, 실리콘 기판과의 열역학적 안전성 그리고 poly-Si와 호환성등의 장점으로 최근 많이 연구가 진행되고 있다. 또한, Hf은 SiO₂를 환원시켜 HfO₂가 될 수 있으며, 다른 silicide와 다르게 Hf silicide는 쉽게 산화될 수 있는 점이 보고되고 있다.

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Cognitive Radio Using ITMA for MB-OFDM UWB System of Korea (무선 인지 기술(Cognitive Radio using ITMA)을 이용한 국내 환경에 적합한 MB-OFDM UWB 시스템)

  • Kim, Tae-Hun;Kim, Dong-Hee;Jang, Hong-Mo;Nam, Sang-Kyun;Kwak, Kyung-Sup
    • The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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    • v.32 no.11A
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    • pp.1096-1105
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    • 2007
  • In this paper, we propose a solution on interference problem of MB-OFDM UWB system using cognitive radio. We use interference temperature model of cognitive radio that has proposed by FCC for estimating interference signal. Calculating channel capacity of MB-OFDM UWB system with interference temperature, we suggest how to solve interference problem. We have used genetic algorithm in cognitive engine's calculation process. The proposed MB-OFDM UWB System with cognitive radio shows very efficient in solving interference problem.

펄스전해증착에서 첨가제가 나노쌍정구리의 형성에 미치는 영향

  • Seo, Seong-Ho;Jin, Sang-Hyeon;Choe, Jae-Wan;Park, Jae-U;Yu, Bong-Yeong
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2011.05a
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    • pp.38.2-38.2
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    • 2011
  • 구리는 현재 반도체 배선으로 가장 많이 사용되는 재료이다. 배선기술이 발전함에 따라 배선두께가 얇아지게 되었고 배선간의 간격 또한 좁아지게 되었다. 간격의 감소는 RC delay 문제점을 야기하였고 이를 해결하기 위해 배선 사이에 Low-k물질을 채우는 노력이 지속되었다. 이상적으로 가장 낮은 유전율을 나타내는 물질은 공기 즉, 아무것도 채우지 않는 것이다. 하지만 이렇게 되면 기계적인 문제가 발생하는데 이를 해결하기 위해서 구리의 강도를 향상시켜야 한다. 강도를 높이려면 Hall-Petch 관계에 의해 결정립의 크기를 작게 만들어야 한다. 그렇지만 이는 곧 전기전도도의 감소를 나타내기 때문에 소자의 구동에 문제가 되어왔다. 이 문제를 해결하기 위해 펄스전해증착을 통한 나노사이즈의 쌍정구조를 가지는 구리의 개발이 진행되었다. 나노쌍정구리는 결정립이 정합면으로 이루어져 있는 쌍정구조로 이루어져 있어 전기전도도의 감소를 최소화하고 강도를 비약적으로 향상시킬 수 있을뿐더러 연신율도 높일 수 있다는 장점을 가지고 있다. 이렇게 고강도 저저항을 나타내는 나노쌍정구리는 Via filling, Through Silicon Via(TSV)에서의 칩간 연결 배선, 2차전지의 전극 등에 적용 가능성이 매우 높다. 이들은 주로 첨가제와 함께 전해증착을 통해 제작된다. 하지만 이러한 첨가제를 넣고 나노쌍정구리를 합성하기 위해 펄스전해증착을 시행할 경우, 나노 쌍정구리의 형성이 억제되고, Off-time이 존재하지 않는 일반 전해증착에서와는 다른 현상이 나타나게 된다. 이러한 이유로 본 연구에서는 현재 가장 많이 사용되고 있는 첨가제인 Poly (ethylene glycol) (PEG, 억제제)와 bis (3-sulfopropyl) disulfide (SPS, 가속제)을 사용하여 그 이유를 알아보고 첨가제를 사용하면서 나노쌍정구리의 밀도를 높일 수 있는 방안에 대해서 실험을 진행하였다.

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