$C_2F_6$ 및 $NF_3$ 유도결합플라즈마를 이용한 $SiO_2$ :Ge 식각에관한 연구
(Inductively coupled Plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using $C_2F_6$ and $NF_3$ )
-
- 한국재료학회:학술대회논문집
- /
- 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
- /
- pp.225-225
- /
- 2003