• 제목/요약/키워드: 원자간력현미경

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펄스 corona 배향된 비선형광학 고분자박막의 제2 고조파발생 (Second harmonic generation of pulsed corona - poled nonlinear optical polymer films)

  • 김준수;이종하;이황운;김상열;원영희
    • 한국광학회지
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    • 제13권4호
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    • pp.356-362
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    • 2002
  • 비선형광학(NLO) 곁가지형 고분자계 N-(4-nitrophenul)-(L)-prolinol-poly (p-phenylene terephthalates)로 제작된 박막의 분자 배향거동을 제2 고조파발생(SHG)의 비선형광응답을 사용하여 연구하였다. 새로운 펄스 corona 배향 방법으로 NLO 발색단과 고분자 줄기를 비중심대칭 구조로 배향시켜 SHG 신호를 발생시켰다. 유리전이온도 70$^{\circ}C$를 중심으로 25$^{\circ}C$에서 80$^{\circ}C$까지 온도영역에서 반복율을 0.5 ㎑에서 10 ㎑까지 변화시키면서 인가한 펄스 고압으로 corona 배향한 결과로 곁가지 발색단과 고분자 주사슬이 스스로 재 정렬하여 형성한 구역구조를 원자간력 현미경(AFM)으로 관측하였다. 펄스 corona 전압 인가로 NLO 발색단 배향도가 증가되고, 동시에 고분자박막의 가시적손상을 획기적으로 줄이면서 SHG 신호가 증대되었으며 배향 후 이완거동도 개선되었다. 이 새로운 펄스 corona 배향 실험으로 NLO 발색단 및 고분자 주사슬이 배향과정에서 비등방으로 재배열하는 현상을 in situ로 입증할 수 있었다.

화학적 기계적 연마 공정을 통한 bulk AlN 단결정의 표면 가공 (Optimization of chemical mechanical polishing for bulk AlN single crystal surface)

  • 이정훈;박철우;박재화;강효상;강석현;이희애;이주형;인준형;강승민;심광보
    • 한국결정성장학회지
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    • 제28권1호
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    • pp.51-56
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    • 2018
  • PVT법으로 성장된 AlN 단결정의 표면 평탄화 최적화 하기 위하여 기계적 연마 후 $SiO_2$ slurry를 이용한 CMP 공정을 진행하였고 이에 따른 표면 형상, slurry 변화에 따른 가공 특성을 분석하였다. Slurry의 pH가 표면 연마 과정에 미치는 영향을 알아보기 위해 $SiO_2$ slurry의 pH를 조절하였으며, 제타전위측정기를 통해 각각의 pH에 따른 zeta potential의 영향과 MRR(material removal rate) 결과를 비교하였으며, 최종적으로 원자간력 현미경(atomic force microscope)을 이용한 표면 거칠기 RMS(0.2 nm)를 얻을 수 있었다.

ITO 기판에 제작된 PLZT 박막의 후열처리 온도에 따른 전기적 특성평가 (The electrical properties of PLZT thin films on ITO coated glass with various post-annealing temperature)

  • 차원효;윤지언;황동현;이철수;이인석;손영국
    • 한국진공학회지
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    • 제17권1호
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    • pp.28-33
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    • 2008
  • R.F 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 Indium tin oxide(ITO)가 증착된 유리기판 위에 PLZT ($Pb_{1.1}La_{0.08}Zr_{0.65}Ti_{0.35}O_3$) 박막을 제작하였다. 기판온도를 $500^{\circ}C$로 고정하여 증착한 후 급속열처리 방법으로 다양한 온도 ($550-750^{\circ}C$)에서 후열처리 하였다. 후열처리온도의 변화에 따른 PLZT 박막의 결정학적 특성을 X선 회절법을 통하여 분석하였고 원자간력 현미경을 이용하여 박막의 표면 상태를 관찰하였다. 또한 precision material analyzer 을 이용하여 분극이력곡선과 피로특성을 측정하였다. 후 열처리 온도가 증가함에 따라 잔류분극 값(Pr)은 $10.6{\mu}C/cm^2$ 에서 $31.4{\mu}C/cm^2$로 증가하였으며 항전계(Ec)는 79.9 kV/cm에서 60.9 kV/cm로 감소하는 경향을 보였다. 또한 피로특성의 경우 1MHz 주파수에서 ${\pm}5V$의 square wave를 인가하여 측정한 결과 $700^{\circ}C$에서 후열처리한 시편의 경우 $10^9$회 이상의 분극반전을 거듭하였을 때 분극값이 15% 감소하는 결과를 나타내었다.

유치 상아질 산부식 후 습윤 정도에 따른 조직상 (A STUDY ON THE MICROSCOPIC IMAGES OF DENTIN SURFACES IN PRIMARY TEETH ACCORDING TO SURFACE WETNESS AFTER ACID ETCHING)

  • 오영준;정태성;김신
    • 대한소아치과학회지
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    • 제30권4호
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    • pp.545-553
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    • 2003
  • 상아질 접착력을 높이기 위해서는 적절히 습윤한 상아질 표면을 얻는 것이 중요하다. 이런 방법에는 정확한 지침이 없으며, 주관적이고 술자에 따라 많은 차이가 있다. 본 연구에서는 적절히 습윤한 상아질을 얻는 방법에 관한 연구의 일환으로, 유치의 산부식 후. 여러 가지 방법을 이용해 상아질을 건조시킨 표본의 조직상을 획득하여 상아질 표면의 차이를 비교하고자 하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 유치 상아질을 산부식하면, 도말층이 제거되고 상아세관이 노출되며, 관간상아질과 관주상아질이 탈회되고, 교원섬유가 풍부한 이행층이 노출되는 것을 확인할 수 있었다. 2. 산부식된 상아질이 과도하게 건조되면 탈회된 상아질이 수축하여, 관간상아질이 붕괴되어 높이가 점차적으로 낮아지고 상아세관의 직경은 조금씩 감소되는 것으로 나타났다. 3. 유치 산부식 후, 10cm 거리에서 20초 동안 압축 공기로 건조시키면 상아질이 과도하게 건조, 탈수됨을 확인할 수 있었다. 4. 유치 산부식 후, 10cm 거리에서 3초 동안 압축 공기로 건조시키거나 마른 cotton, 젖은 cotton, microbrush, absorbent tissue paper로 건조시키면 상아질이 적절하게 건조됨을 확인할 수 있었다.

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