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홈 네트워크 표준화 기술 동향 (The Standardization Trend of Home Network)

  • 송석일
    • 전자통신동향분석
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    • 제15권6호통권66호
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    • pp.56-64
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    • 2000
  • 홈 네트워크의 표준화를 추진하는 분야활동은 크게 매체에 의해서 유/무선으로 구분될 수 있다. 여기서 소개하는 이외에도 홈 네트워크를 목표로 하는 활동분야는 많지만 여기서는 최근 활동이 활발한 분야인 TA1394/HAVi, USB2, Home PNA, 전력선 통신, 무선 1394, Home RF-WG, 블루투스, IrDA의 표준화 단체를 중심으로 국내외 표준 규격화 동향에 대하여 기술한다.

멀티미디어

  • 한국전기제품안전진흥회
    • 제품안전
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    • 통권31호
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    • pp.39-53
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    • 1995
  • 개인의 창조성을 살리자는 얘기는 많이 있었다. 그러나 지금까지 이루어지지 않고 있다. 그것은 도구가 없었기 때문이다. 이제 우리는 인류 역사를 다시 한 번 바꿔 놓은 도구를 손에 들고 있다. 그것은 멀티미디어와 정보 통신망이다. 21세기에는 우리의 생활과 사고방식이 엄청나게 달라질 것이다. 나아가 기업의 생존도 여기에 달려 있다. 동일한 출발선 상에 서 있는 기업들이 여기에서 누가 한발 앞서 가느냐에 따라 21세기의 새로운 주역이 되는냐 사라지느냐의 갈

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미국 최초의 765kV송전선 및 변전소의 개폐서어지 시험

  • 신대승
    • 전기의세계
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    • 제27권6호
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    • pp.21-29
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    • 1978
  • American Electric Power회사에서 건설항 미국최초의 A.C 765kV송전선과 변전소에서 일련의 159회에 달하는 개폐시험과 기타시험을 상업운전에 앞서 시행하였다. 여기서 얻은 광범위한 Data, 즉 여러 조건하에서의 개폐서어지전압, 기기특성, 과전압억제방법, Radio장해 및 가청잡음등에 대해 설계치와 비교검토하였으며 그 결과를 여기에 제시한다.

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무기 EL의 기술 동향

  • 이상훈;이영우;김응룡
    • E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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    • 제17권9호
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    • pp.10-15
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    • 2004
  • EL은 형광물질에 고 전기장이 걸릴 때 전기장에 의해 가속된 전자가 형광층 내부에 첨가된 발광중심(Luminescent Center Activator)의 전자를 충돌 여기(LmpactExcitation)시키고 여기된 전자가 다시 바닥상태로 완화될 때 빛이 방출하는 현상을 이용한 소자로서 전압인가 시 발광면 전체가 균일하게 발광하는 평면 광원이다.(중략)

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다이오드 측면여기 고출력 Nd:YAG 레이저의 발진특성 (Operation characteristics of a diode side-pumped, high power Nd:YAG laser)

  • 문희종;이성만;김현수;고도경;차병헌;이종훈
    • 한국광학회지
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    • 제11권6호
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    • pp.434-440
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    • 2000
  • Lambertian 산란 특성을 갖는 난반사체를 적용하고 1kW의 출력을 갖는 고출력 레이저 다이오드를 여기광원으로 이용하여 고출력 Nd:YAG 레이저를 제작하였다. 지름이 5mm인 레이저봉을 사용하고 짧은 공진기를 구성하여 연속발진시켰을 때 약 500W의 고출력을 얻을 수 있었고 이때 기울기 효율은 49% 광변환효율 46.7%로 매우 높은 효율을 얻었다. 지름이 6mm인 레이저봉을 사용하였을때에는 LD여기광의 흡수 분포가 불균일해져서 광변환효율은 감소하였다. 발생한 레이저빔의 빔질인자(Beam Quality Factor) M$^2$는 약 70 정도로 관측되었으며 이는 측정된 열렌즈 초점거리로부터 계산된 빔질인자보다 약간 작은 값으로 여기광의 흡수 분포가 매우 균일함을 보여준다.

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반도체 레이저 측면 여기 Nd:YAG 매질에서의 열영향 (Thermal effect at Nd:YAG using a laser-diode side-pumping)

  • 양동옥;김병태
    • 한국광학회지
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    • 제14권1호
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    • pp.44-50
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    • 2003
  • 반도체 레이저 측면 여기시 Nd:YAG 레이저 매질에서 발생하는 열영향에 대해 분석하였다. 열영향을 고감도로 측정하기 위해 편광자와 Nd:YAG 매질 사이에 λ/4판을 삽입하여 여기 파워에 따라 발생하는 depolarization양을 측정하였다. CCD로 는 열영향에 의한 매질 내에서의 탐침광 분포 변화를 측정하고 해석하여 반도체 레이저 측면 여기시 발생하는 열영향을 최소화하기 위한 공진기 설계의 효과적인 방법을 제시하였다.

습식공정에 의한 형광물질 $SrAl_2O_4:Eu$ 분말 합성 및 형광 특성 (Study on the Synthesis of Phosphor, $SrAl_2O_4:Eu$ by Wet Processing and its Characteristics of Photoluminescence)

  • 박우식;김정식
    • 한국마이크로전자및패키징학회:학술대회논문집
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    • 한국마이크로전자및패키징학회 2003년도 기술심포지움 논문집
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    • pp.161-164
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    • 2003
  • 본 연구에서는 수열합성법으로 $SrAl_2O_4:Eu$ 형광체 분말을 합성하여 이들의 발광 특성과 장잔광 특성 등에 대해서 고찰하였다. 증류수에 $Sr(NO_3)_2,\;Al(NO_3)_3{\cdot}9H_2O,\;Eu(NO_3)_3{\cdot}6H_2O$ 등의 금속염을 용해시킨 용액을 $NH_4OH$ 수용액으로 pH를 적당히 조절하고 고온 고압의 Autoclave 반응용기 내에서 반응시켰다. 이렇게 합성된 분말은 균일한 입도 분포를 나타내었으면, sub-micron 크기의 초미세 분말이었다. 합성된 $SrAl_2O_4:Eu$ 초미세 분말을 $Ar-H_2$ 가스 환원분위기에서 $1100-1400^{\circ}C$ 온도로 2시간동안 열처리시켜서 형광 특성을 나타내도록 만들었다. 분말의 여기 및 발광 특성을 측정한 길과, 발광파장을 520 nm로 고정시켜 측정한 여기스펙트럼은 $250\~450nm$의 넓은 파장영역에 걸쳐 여기가 일어났고, 발광스펙트럼은 520 nm에서 최대 피크를 나타내었다. 또한 10분간 여기 시킨 후 520 nm 파장에 대한 잔광 특성이 1000분 이상 지속되는 우수한 장잔광 특성을 나타내었다.

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광섬유 연결 반도체레이저 여기 세라믹 Nd:YAG 레이저에서 열렌즈 효과의 보상 (Thermal Lens Compensation in a Fiber-Coupled Laser-Diode Pumped Ceramic Nd:YAG Laser)

  • 김덕래;김영식;김병태
    • 한국광학회지
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    • 제18권3호
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    • pp.208-215
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    • 2007
  • 광섬유 연결 반도체레이저 여기 세라믹 Nd:YAG 레이저의 열렌즈를 보상하기 위한 공진기를 구성하였다. 초점거리 30 mm, 유효직경 22 mm인 보상렌즈를 레이저 매질의 단면으로부터 25 mm 떨어진 곳에 위치시켜 열렌즈 효과를 보상하였다. 보상렌즈가 없는 경우 레이저 출력은 열렌즈 효과에 의해 여기파워 6 W 이상에서 급격히 감소하기 시작하였으며, 12 W에 이르러서는 레이저가 거의 발진되지 않았다. 열렌즈 효과가 보상되었을 경우 레이저 출력은 선형적으로 증가하였으며, 여기파워 12 W에서 $M^{2}$값은 2.4로 좋은 빔질을 나타내었다.

영구 여기 조건이 불필요한 직접 적응 극배치 제어기의 설계 (Design of a Direct Adaptive Pole Placement Controller Without Persistency of Excitation)

  • 신강욱;최홍규;박준열
    • 한국통신학회논문지
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    • 제17권10호
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    • pp.1157-1163
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    • 1992
  • 비최소 위상 시스템에 대한 적응 제어 알고리즘의 발전은 제어 법칙에 있어서 발생되는 비정칙성(singularity)에 의하여 제한되어 왔다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 직접 적응 제어방식과 간접 적응 제어방식을 사용하여 플랜트 신호에서의 영구 여기(persistency of excitation)를 유발시켜 플랜트의 실제값을 추정하기 위한 추정의 수렴성을 보장하는 방법과 간접 적응 제어방식을 사용하여 영구 여기 조건 없이 가제어성 필요 조건을 만족하도록 추정을 적절히 변형 시키는 방법이 연구되어 왔다. 본 논문에서는 직접 적응 제어방식을 사용하여 영구 여기 조건이 없어도 제어기의 파라메타 추정이 가능하도록 하였으며, 플랜트 파라메타의 추정없이 제어기의 파라메타를 직접 추정하도록하여 추정 알고리즘을 간소화하였다.

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Spatiotemporal Behavior of Excited Xenon Atom Density in Accordance with Xenon Mole Fraction to Neon and Helium in Alternating Current Plasma Display Panels by Laser Absorption Spectroscopy

  • Kim, Yong-Hee;Hong, Young-June;Oh, Phil-Yong;Cho, Guang-Sup;Choi, Eun-Ha
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.415-415
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    • 2010
  • 면방전 구조의 AC-PDP는 페닝 혼합 기체 중에서 Xe 플라스마에서 발생되는 VUV (Vacuum Ultra Violet) 에 의해 들뜬 형광체로부터 가시광이 발생된다. Xe 여기종은 828 nm의 공명준위를 거쳐 147 nm의 진공자외선을 방출하며 823 nm의 준안정준위에서 분자선을 거쳐 173 nm의 진공 자외선을 낸다. 이러한 Xe 여기종의 밀도를 측정하기 위해서는 828 nm와 823 nm의 레이저를 외부에서 인위적으로 조사하여 측정하면 IR (Infrared)의 흡수전과 흡수후의 빛의 세기로 Xe 여기종의 밀도 및 분포를 계산할 수 있다. 본 실험에서는 823 nm에 초점을 두었으며 LAS (Laser Absorption Spectroscopy) 기법을 통하여 He-Ne-Xe(15%, 20 %, 30%) 400Torr의 3종 기체의 Xe 함량에 따른 시공간의 Xe($1s_5$) 여기종 밀도 분포와 방전효율을 관측하였다. 최근 3전극 면방전형 AC-PDP 효율 향상을 위해 3종 기체의 Xe함량비의 방전기체에 대한 연구가 수행되고 있다. 이러한 기초 데이터는 혼합기체 조건에 따른 면방전 구조의 3전극 AC-PDP의 발광 효율을 개선하는 데 유용한 자료로 활용될 것이다.

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