• Title/Summary/Keyword: 압력펄스 주파수

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Spray Structure and Cross-section Characteristics of Pulsed Liquid Jet Injected into a Cross-flow (횡단 유동장으로 펄스 분사된 액체 제트의 분무 구조 및 단면 분포 특성)

  • Lee, In-Chul;Koo, Ja-Ye
    • Journal of the Korean Society of Propulsion Engineers
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    • v.13 no.2
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    • pp.1-8
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    • 2009
  • Present studies of these experiments was conducted to using water, over a range of cross-flow velocities from 42 to 136 m/s, with injection frequencies from 35.7 to 166.2 Hz. In cross-flow field, main parameters of liquid jet for secondary breakup were cross-flow drag rather than pressure pulse frequency. As oscillation of the periodic pressure, liquid jet was moved up and down. Also, a bulk of liquid jet puff was detected at upper field of liquid surface. Because of pressure pulsation frequency, an inclination of SMD for the structured layer was evanescent. Cross-sectional characteristics of SMD at downstream area were non-structured distributions. The tendency of volume flux value for various frequency of pressure pulse was same distribution. And volume flux was decreased when the frequency of pressure pulse increasing.

Dynamic Pressure Characteristics of Pulse Gun Device for Combustion Stability Rating of Liquid Rocket Engines (액체 로켓엔진 연소 안정성 평가를 위한 압력 교란 장치 특성 연구)

  • Seo,Seong-Hyeon;Go,Yeong-Seong;Lee,Gwang-Jin;Park,Seong-Jin;Lee,Su-Yong
    • Journal of the Korean Society for Aeronautical & Space Sciences
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    • v.31 no.7
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    • pp.94-99
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    • 2003
  • For the assessment of combustion stability of a liquid rocket engine, a device called "Pulse Gun" should be developed first, which can induce artificial perturbations that may lead to excitations of pressure oscillations in a combustion chamber. A model chamber has been used for identifying design parameters of a pulse gun that defines its characteristics. Dynamic pressure measurements showed that shock waves generated from pulse guns are axisymmetric around the axis of a pulse gun barrel. Pressure waves perturbed by a pulse gun induce resonant acoustic frequencies of a model chamber. This fact indicates that successful pressure field perturbations of the KSR-III combustion chamber can be performed by a newly developed pulse gun device. A maximum value of dynamic pressure peaks measured at the opposite point against a pulse gun outlet becomes stronger as charge mass of pulse gun powder increases.

펄스 직류 $BCl_3$ 플라즈마를 이용한 GaAs와 AlGaAs의 건식식각

  • Lee, Seong-Hyeon;Park, Dong-Gyun;Park, Ju-Hong;Choe, Gyeong-Hun;Song, Han-Jeong;Lee, Je-Won
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.220-220
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    • 2010
  • 펄스 직류 $BCl_3$ 플라즈마를 이용하여 GaAs와 AlGaAs의 건식식각을 연구하였다. 공정의 주요 변수는 펄스 직류 전압(350~550V), 펄스 직류 시간($0.4{\sim}1.2{\mu}sec$.), 펄스 직류 주파수(100~250kHz)이었다. 식각 실험 후 샘플의 식각률, 식각 선택도, 표면 형상을 비교, 분석하였다. 또한, 광학 발광 분석기(Optical Emission Spectroscopy)를 이용하여 식각하는 동안 플라즈마 방전 특성을 분석하였다. 표면 단차 측정기(Alpha-step IQ, Tencor)로 식각 깊이를 측정해 식각률을 계산하였다. 표면 거칠기 또한 단차 측정기의 표면 거칠기 프로그램을 이용하여 분석하였다. 식각 벽면과 표면 상태는 주사전자현미경(Field-emission scanning electron microscopy)을 이용하여 관찰하였다. 분석 결과는 1) 펄스 직류의 전압이 증가하면 전극에 걸리는 파워가 올라가고 GaAs와 AlGaAs의 식각률도 증가하였다. 2) 76 mTorr 공정 압력, $0.7{\mu}sec$. 펄스 직류 시간과 200 kHz 주파수 일 때 10 sccm $BCl_3$ 펄스 직류 플라즈마에서 GaAs와 AlGaAs 둘 다 약 $0.4{\mu}m/min$ 이상의 식각 속도를 보여주었다. 3) 식각 선택도는 펄스 직류의 전압이 높아지면 증가하였고, 펄스 직류 주파수의 증가도 공정 파워와 GaAs와 AlGaAs의 식각률을 증가시켰다. 4) 그러나 펄스 직류 주파수가 150kHz 이하일 때에는 GaAs와 AlGaAs가 거의 식각되지 않았다. 5) 표면 거칠기는 펄스 직류 주파수가 증가하면 미세하게 좋아졌고 플라즈마는 펄스 직류 주파수가 100~250kHz 일 때 생성되었다. 6) 펄스 직류 시간의 증가는 공정 파워, 식각률, 식각 선택도 모두의 증가를 가져왔다. 7) 광학발광분석기(OES) 데이타는 $BCl_3$ 플라즈마에서 넓은 범위(450~700nm)에서의 염소(Cl) 분자 피크를 나타내었다. 8) 전자 현미경 사진은 펄스 직류 전압이 400 V보다 550 V 일 때보다 더 이방성(Anisotropic)측면과 부드러운 표면을 나타냈지만, 조금의 홈(Trench)이 발견되었다. 결론적으로 펄스 직류 $BCl_3$ 플라즈마는 GaAs와 AlGaAs의 건식식각에서 우수한 결과를 나타냈었다.

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$Al_2O_3$ 2wt.%가 도핑된 ZnO의 회전하는 원통형 타겟을 가진 DC pulsed Magnetron sputtering에서의 펄스주파수가 박막에 미치는 영향

  • Park, Hyeong-Sik;Jang, Gyeong-Su;Jeong, Seong-Uk;Yeom, Jeong-Hun;Lee, Jun-Sin
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.311-311
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    • 2010
  • 본 논문은 직류전원에 펄스주파수를 인가함으로써 AZO 박막이 미치는 영향에 대해 알아보기 위해 기존과는 다른 형태인 원통형의 회전(Cylindrical rotatable)하는 방식을 가진 DC magnetron sputter를 이용하였다. 인가되는 전력과 압력, 온도 그리고 거리는 각각 고정하였고 펄스 주파수 가변을 통해 박막의 전기적, 광학적, 구조적 그리고 SEM등의 다양한 특성에 대해 확인하였다. 박막의 광학적 특성인 투과도를 알아보기 위해 UV-Vis를 이용하여 측정하였고 가변 범위에 관계없이 550 nm의 파장 길이에서 약 90%의 투과도를 보였다. 그리고 펄스주파수가 증가할수록 XRD의 Intensity는 오히려 감소되는 경향을 보였고, 홀 측정을 통해 비저항의 증가와 전자농도 증가, 감소된 홀 이동도를 통해 증가된 펄스 주파수가 박막의 구조적, 전기적 특성이 얼마나 많은 영향을 끼치는지 또한 알 수 있었다. 그리고 펄스주파수는 면저항과 홀 이동도의 감소 요인이며 이것은 XRD의 결과로 확인하였다. 펄스주파수가 향후 박막 태양전지 및 TFT와 NVM 등의 소자를 적용하는데 있어 중요한 요소 중의 하나로 판단할 수 있다.

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Pressure Control of a Variable Thrust Solid Propulsion System Using On-Off Controllers (On-Off 제어기를 이용한 가변추력 고체추진 기관의 압력제어)

  • Kwon, Soon-Kyu;Kim, Young-Seok;Ko, Sang-Ho;Suh, Seok-Hoon
    • Proceedings of the Korean Society of Propulsion Engineers Conference
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    • 2011.11a
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    • pp.942-948
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    • 2011
  • Solid propulsion systems have simple structures compared to other propulsion systems and are suitable for long-term storage. However the systems generally have limits on control of thrust levels. In this paper we introduce controllers for combustion chamber pressure using on-off control techniques which have been known for relatively easy implementation and energy efficiency. For this, we use a simple pressure change model by considering only mass conservation within the combustion chamber and we design a classical controllers and on-off controllers with are Pulse Width Modulation(PWM) and Pulse Width Pulse Frequency Modulation (PWPFM). Then we compare the performance results of the controllers through numerical simulations.

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Wave Drag Reduction due to Repetitive Laser Pulses (반복 레이저 펄스를 이용한 초음속 비행체의 항력저감)

  • Kim, Jae-Hyung;Sasoh, Akihiro;Kim, Heuy-Dong
    • Proceedings of the Korean Society of Propulsion Engineers Conference
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    • 2011.04a
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    • pp.381-384
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    • 2011
  • Wave drag reduction due to the repetitive laser induced energy deposition over a flat-nosed cylinder is experimentally conducted in this study. Irradiated laser pulses are focused by a convex lens installed in side of the in-draft wind tunnel of Mach 1.94. The maximum frequency of the energy deposition is limited up to 80. Time-averaged drag force is measured using a low friction piston which was backed by a load cell in a cavity as a controlled pressure. Stagnation pressure history, which is measured at the nose of the model, is synchronized with corresponding sequential schlieren images. With cylinder model, amount of drag reduction is linearly increased with input laser power. The power gain only depends upon the pulse energy. A drag reduction about 21% which corresponds to power gain of energy deposition of approximately 10 was obtained.

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저진공 펄스 직류 전원 BCl3 플라즈마의 전기적 특성과 GaAs의 식각 특성 분석

  • Lee, Je-Won;Park, Dong-Gyun;No, Gang-Hyeon;Sin, Ju-Yong;Jo, Gwan-Sik;Son, Geun-Yong;Song, Han-Jeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.137-137
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    • 2011
  • 펄스 직류 $BCl_3$ 플라즈마의 전기적 특성과 GaAs의 건식식각을 연구하였다. 공정변수는 펄스 직류 전압 (350~550 V), 펄스 직류 주파수 (100~250 kHz), 리버스 시간 (0.4~1.2 ${\mu}s$)이었다. 전기적 특성은 오실로스코프를 이용하여 분석하였다. 펄스 직류 전원의 경우 평균 전압이 일정하더라도 주파수가 커지거나 리버스 시간이 커지면 peak-to-peak 전압이 증가한다는 사실을 이해하였다. GaAs 식각 실험 후 샘플의 식각률, 식각 선택비, 표면 형상을 비교, 분석하였다. GaAs의 식각 결과는 식각 속도, 식각 선택비, 표면 형상, 잔류 물질 분석을 실시하엿다. 본 실험에서는 1대의 기계적 펌프만을 상ㅇ하여 진공 압력을 유지하였다. GaAs의 식각 속도는 10 sccm $BCl_3$를 사용한 경우 최대 0.4 ${\mu}m$까지 얻을 수 있었다. 감광제에 대한 최대 식각 선택비는 약 2.5 : 1이었다. BCl3 플라즈마의 경우 75 mTorr의 저진공 조건에서는 500 V, 250 kHz, 0.7 ${\mu}s$의 실험에서 가장 좋은 식각 특성을 얻을 수 있엇다. X-레이 광전 분석기 데이터에 의하면, 식각된 GaAs의 표면을 깨끗하였으며, 염소와 관련된 잔류 물질은 거의 발견되지 않았다.

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Pulse DC $O_2$ 플라즈마를 이용한 PMMA와 폴리카보네이트 기판의 건식 식각

  • Park, Ju-Hong;No, Gang-Hyeon;Lee, Seong-Hyeon;Choe, Gyeong-Hun;Jo, Gwan-Sik;Lee, Je-Won
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.105-105
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    • 2010
  • 펄스 DC $O_2$플라즈마를 이용하여 PMMA와 폴리카보네이트 기판을 건식 식각 한 후 그 결과에 대하여 분석하였다. 식각 공정 변수는 펄스 파워 (300~500 V), 펄스 시간 ($0.5{\sim}2.0\;{\mu}s$), 펄스 주파수 (100~250 kHz)의 변화이었다. 특성 분석은 PMMA와 폴리카보네이트의 식각률, 두재료의 포토레지스트에 대한 식각 선택도, 식각 후 표면 거칠기 변화에 대해 실시하였다. 또한 주사 전자 현미경을 이용하여 식각 후 패턴의 표면 형상을 관찰하였다. 실험 결과, PMMA의 식각률이 폴리카보네이트보다 높음을 알 수 있었다. 펄스 파워를 300 V 에서 500 V로 증가함에 따라 PMMA의 식각률은 $0.17\;{\mu}m/min$ 에서 $0.53\;{\mu}m/min$ 로 증가하였다. 폴리카보네이트는 같은 식각 조건에서 $0.09\;{\mu}m/min$ 에서 $0.22\;{\mu}m/min$ 로 증가하였다. 그 이유는 폴리카보네이트의 경우, 결합력이 큰 벤젠 분자 구조를 포함하고 있기 때문에 PMMA보다 식각률이 더 낮다고 추측한다. 또한 PMMA 와 폴리카보네이트의 포토레지스트에 대한 식각 선택비는 펄스 파워가 증가함에 따라 같이 증가하는 것을 알 수 있었다. 5 sccm O2, 55 mTorr 공정 압력, 400 V 펄스 파워, 200 kHz 펄스 주파수의 조건에서 펄스 시간이 $0.5\;{\mu}s$ 에서 $1.0\;{\mu}s$ 로 증가할 때 PMMA와 폴리카보네이트의 식각률은 거의 변화가 없었다. 그러나 같은 조건에서 펄스 시간이 $1.0\;{\mu}s$ 에서 $2.0\;{\mu}s$ 로 증가한 경우에는 PMMA와 폴리카보네이트의 식각률은 선형적으로 증가하였다. 펄스 시간이 고분자 소재의 건식 식각에 영향을 줄 수 있다는 사실을 알 수 있었다. 주사현미경을 이용하여 식각된 표면 형상을 분석한 결과, 폴리카보네이트가 PMMA보다 표면이 매끈하게 관찰되었다. 요약하면, 펄스 DC $O_2$플라즈마는 PMMA와 폴리카보네이트 등의 고분자 소재의 건식 식각에 중요하게 활용될 수 있다는 사실을 본 연구를 통해 이해할 수 있다.

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펄스 직류 전원 플라즈마를 이용한 갈륨비소와 갈륨알루미늄비소 화합물 반도체의 선택적 식각 연구

  • Song, Hyo-Seop;Yang, Zhong;Song, Han-Jeong;Lee, Je-Won
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.08a
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    • pp.295-295
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    • 2012
  • 염소와 불소 혼합가스와 펄스 직류 전원 플라즈마를 이용하여 GaAs/$Al_{0.2}Ga_{0.8}As$의 선택적 식각을 연구하였다. 식각 주요 공정 변수는 혼합 플라즈마에서 불소 가스의 유량(0~50%) 이었다. 다른 공정 조건은 공정 압력, 펄스 파워, 펄스 주파수, 리버스 시간이 이 있다. 저진공(~100 mTorr) 플라즈마에 대한 연구로 한정하여 기계적 펌프만을 사용하여 공정을 진행하였다. 오실로스코프(Oscilloscope) 데이터에 의하면 가스의 조성 변화에도 척에 걸리는 입력 전압과 전류가 거의 변화가 없었다. $BCl_3/SF_6$플라즈마에서 $SF_6$가스가 10%의 조성에서 GaAs와 $Al_{0.2}Ga_{0.8}As$의 식각 선택비가 약 50:1로 우수한 결과를 나타내었다. 혼합 플라즈마에서 $SF_6$가스의 증가는 GaAs의 식각율과 선택도를 감소시켰다. 그리고 불소 성분 가스의 조성비가 일정량 이상일 경우에는 GaAs와 $Al_{0.2}Ga_{0.8}As$가 거의 식각되지 않았다. 위의 결과들을 종합적으로 보면 펄스 직류 전원 $BCl_3/SF_6$플라즈마에서 불소의 조성비는 GaAs의 선택적 식각에서 중요한 역할을 함을 알 수 있었다.

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Spray Characteristics of a Pulsed Liquid Jet into a Cross-flow of Air (아음속 횡단 유동장으로 펄스 분사된 액체 제트의 분무특성)

  • Lee, In-Chul;Byun, Young-Wu;Koo, Ja-Ye
    • 한국전산유체공학회:학술대회논문집
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    • 2008.03b
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    • pp.61-64
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    • 2008
  • The present study of these experiments are close examination of spray characteristics that are continuous liquid jet and modulated pressure pulse liquid jet. The experiments were conducted using water, over a range of cross-flow velocities from 42${\sim}$136 m/s, with injection frequencies of 35.7${\sim}$166.2 Hz. Between continuous cross-flow jet and pressure pulsed cross-flow jet for characteristics of penetration, breakup point, spray angle and macro spray shape are investigated experimentally. In cross-flow field, main parameter of liquid jet for breakup was cross-flow stream rather than pressure pulse frequency. As oscillation of the periodic pressure that could make liquid jet moved up and down, the mixing efficiency was increased. Also, a bulk of liquid jet puff was detected at upper field of liquid surface. So, this phenomenon has a good advantage of mixing spray from concentration of center area to outer area. Because of pressure pulsation frequency, an inclination of SMD for the structured layer was evanescent. Cross-sectional characteristics of SMD at downstream area were non-structured distributions. Then cross-sectional characteristics of SMD size were about same tendency over a range that is effect of spray mixing. The tendency of volume flux value for various frequency of pressure pulse was same distribution. And volume flux was decreased when the frequency of pressure pulse increase.

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