• Title/Summary/Keyword: 슬러리 코팅

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Dispersion of $BaTiO_3$ Powder in PCB Material (PCB 소재용 RCC에서 $BaTiO_3$ Powder의 분산)

  • Lee, Ji-Ae;Shin, Hyo-Soon;Kim, Jong-Hee;Kim, Kab-Young
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2006.06a
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    • pp.224-225
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    • 2006
  • $BaTiO_3$ powder를 epoxy/solvent에 혼합한 슬러리와 solvent에 혼합한 슬러리의 분산 특성을 평가하기 위하여 분산제인 silane을 $BaTiO_3$ powder 표면에 코팅한 powder를 이용하여 분산실험을 진행하였다. Silane 표면 코팅 량에 따른 $BaTiO_3$ 슬러리와 $BaTiO_3$/epoxy 복합 슬러리의 분산 특성은 서로 다른 경향으로 나타남을 확인하였으며, silanae 최적 첨가량은 $BaTiO_3$/solvent 슬러리의 경우 0.3~0.5 wt%, $BaTiO_3$/epoxy/solvent 슬러리의 경우 1wt% 이상 첨가한 조건이었다. 또한 분산성 측정의 방법으로 점도 측정 방법과 함께 표면 거칠기 측정 방법의 가능성을 확인하였다.

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Polishing of Oxide film by colloidal silica coated with nano ceria (나노 세리아 입자가 표면 코팅된 콜로이달 실리카 슬러리의 Oxide film 연마특성)

  • Kim, Hwan-Chul;Lee, Seung-Ho;Kim, Dae-Sung;Lim, Hyung-Mi
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2005.07a
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    • pp.35-37
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    • 2005
  • 100, 200nm 크기의 colloidal silica 각각에 나노 ceria 입자를 수열합성법으로 코팅하였다. Colloidal silica 입자에 ceria를 코팅 시 slurry의 pH조절과 수열처리에 이용하여 silica에 ceria가 코팅됨을 TEM과 zeta-potential을 이용하여 확인하였다. 연마 슬러리의 분산 안정성과 연마효율을 높이기 위하여 슬러리의 pH 는 9로 하였으며, 이때의 zeta-potential 값은 -25 mV이었다. 1 wt%로 제조된 연마슬러리를 이용하여, 4 inch $SiO_2$, $Si_3N_4$ wafer를 압력변화에 따른 연마특성을 관찰 하였다. Ceria coated colloidal silica 100 nm, 200 nm와 commercial한 $CeO_2$입자를 연마압력 6 psi로 oxide film을 연마한 결과 연마율이 각각 2490 ${\AA}/min$, 4200 ${\AA}/min$, 4300 ${\AA}/min$으로 측정되었다. 또한 $SiO_2$, $Si_3N_4$ film의 6 psi압력에서 ceria coated colloidal silica 100 nm, 200 nm와 commercial 한 $CeO_2$입자의 선택비는 3, 3.8, 6.7 이었다. 입자크기가 클수록 연마율이 높으며, Preston equation을 따라 연마 압력과 연마율이 비례하였다.

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Fabrication of Fe Foam using Slurry Coating Process (슬러리 코팅 공정을 이용한 Fe 폼의 제조에 대한 연구)

  • Yun, Jung-Yeul;Park, Dahee;Yang, Sangsun;Wang, Jei-Pil
    • Resources Recycling
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    • v.26 no.6
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    • pp.97-101
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    • 2017
  • Metal foams have a cellular structure consisting of a solid metal containing a large volume fraction of pores. In particular, open pores which are penetrable pores are necessary for industrial applications such as in high temperature filters and as support for catalysts. In this study, Fe foam with greater than 90% porosity and 2-mm pore size was successfully fabricated using a slurry coating process and the pore properties were characterized. The Fe and $Fe_2O_3$ powder mixing ratios were controlled to produce Fe foam samples with different pore sizes and porosity. First, the slurry was prepared through the uniform mixing of powders, distilled water, and polyvinyl alcohol(PVA). The amount of slurry coated with the PU foam increased with increasing $Fe_2O_3$ mixing powder ratio, but the shrinkage and porosity of the Fe foams decreased, respectively, with increasing $Fe_2O_3$ mixing powder ratio.

Lamination of Dielectric Layers by High Pressure Spray Coating for LTCC (고압 스프레이 코팅법에 의한 저온동시소성세라믹(LTCC) 유전체 층의 적층방법)

  • Lee, Jee-Hee;Kim, Young-Jin
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.13 no.3 s.40
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    • pp.33-38
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    • 2006
  • Aerosol slurry composed of dielectric materials, distilled water, and deflocculants was sprayed on the substrates, through a high-pressure spray gun as an aerosol. The coated layers were cofired together with $Al_{2}O_{3}$ substrates and green sheets on which the inner connectors were printed. Although the coating rate of coated layers strongly depended on slurry viscosity, spray shape, and the pressure of the spray gun, the coated density was not changed. Buried conductors were maintained as printed by high pressure spray coating method, because the pressing process was not used. At the optimum condition of air controller step 3-4 and slurry viscosity c.p 2000-4000, dense and uniform layers could be achieved. Comparing with conventional lamination process using green sheets, spray coating method enabled thin dielectric layers of $20{\sim}50{\mu}m$.

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Preparation of $Al_2O_3/CeO_2$ Composite Abrasives by using Hydrothermal Treatment and its Polishing Properties (수열처리법을 이용한 $Al_2O_3/CeO_2$ composite 연마재 제조 및 연마 특성)

  • Choi, Sung-Hyun;Lee, Seung-Ho;Lim, Hyung-Mi;Kil, Jae-Soo;Choi, Eui-Don
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.07b
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    • pp.1278-1282
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    • 2004
  • 수열처리법으로 nano-sized $CeO_2$ 입자를 $Al_3O_3$ 입자의 표면에 균일하게 코팅하여 $AL_2O_3/O_2$ composite 연마 입자를 제조하었다. 제조된 $Al_2O_3\CeO_2$ composite 입자의 뭍성을 TEM, XRD, zeta potential analyzer 및 particle size analyzer로 측징하였다. $Al_2O_3/CeO_2$ composite 입자와 구성된 슬러리와 비교 시료로서 $Al_2O_3$$CeO_2$ 입자를 혼합한 슬러리를 사용하여 thermal oxide film에 대한 연마특성을 평가하였다. 연마슬러리에 포함된 $A1_2O_3/CeO_2$ composite 입자와 $Al_2O_3$$CeO_2$ 혼합입자에서 나노 크기의 세리아 입자가 sub-micron 크기의 알루미나 입자의 표면에 균일하게 코팅되므로서 $Al_2O_3$ 단일 성분의 슬러리에 비해 removal rate(RR)는 106 nm/min, WIWNU는 $8\sim9%$, roughness는 $2.6{\AA}$의 향상된 연마 특성을 나타내었다. 알루미나 입자의 불규칙한 형상 때문에 $Al_2O3/CeO_2$ composite 슬러리와 $Al_2O_3$$CeO_2$ 혼합슬러리의 연마 특성이 비슷한 수준을 나타내었다.

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A study on the surface characteristics of diamond wire-sawn silicon wafer for photovoltaic application (다이아몬드 코팅 와이어로 가공된 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 표면 특성에 관한 연구)

  • Lee, Kyoung-Hee
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.21 no.6
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    • pp.225-229
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    • 2011
  • Most of the silicon cutting methods using the multi-wire with the slurry injection have been used for wafers of the crystalline solar cell. But the productivity of slurry injection cutting type falls due to low cutting speeds. Also, the direct contact with the metal wire and silicon block increases the concentration of metallic impurities in the wafer's surface. In addition, the abrasive silicon carbide (SiC) generates pollutants. And production costs are rising because it does not re-use the worn wire. On the other hand, the productivity of the cutting method using the diamond coated wire is about 2 times faster than the slurry injection cutting type. Also, the continuous cutting using the used wire of low wear is possible. And this is a big advantage for reduced production costs. Therefore, the cutting method of the diamond coated wire is more efficient than the slurry injection cutting technique. In this study, each cutting type is analyzed using the surface characteristics of the solar wafer and will describe the effects of the manufacturing process of the solar cell. Finally, we will suggest improvement methods of the solar cell process for using the diamond cutting type wafer.

Effect of Sintering condition on Mechanical Properties of Zircon Shell Molds (소결조건이 지르콘 쉘 몰드의 기계적 특성에 미치는 영향)

  • Kim, Jae-Won;Kim, Du-Hyeon;Seo, Seong-Mun;Jo, Chang-Yong;Choe, Seung-Ju
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.9 no.9
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    • pp.865-871
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    • 1999
  • Effect of sintering condition in mechanical properties of ZrSiO\ulcorner shell molds was investigated. Number of microcrack in primary layer of the mold was maximized after preheating at $1000^{\circ}C$ for 1.5 hours. Yield strength and specific surface area of the mold were inversely proportion to sintering temperature and time. After hot deformation test at $1500^{\circ}C$ for 4 hours, molds were deformed opposite to the loading direction and backup layers were cracked along the interface between stucco and zircon slurry. Reverse deformation of the molds during hot deformation test was considered to be resulted from the difference of thermal expansion coefficient between alumina stucco and zircon slurry in primary coat, and size difference between zircon stucco and zircon slurry in backup coat.

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Loss Properties of Nano-crystalline Alloy coated as a Resistive Layer (표면 저항층 형성에 의한 나노결정 합금재료의 손실 특성)

  • Kim, Hyun-Sik;Kim, Jong-Ryung;Lee, Geene;Lee, Hae-Yeon;Huh, Jung-Sub;Oh, Young-Woo;Byun, Woo-Bong
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.229-229
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    • 2007
  • 나노결정 합금재료를 전력선 통신 커플러용 자심재료로 응용하기 위해서는 고주파 대역에서의 손실 특성이 제어되어야 한다. 즉 고속 전력선 통신을 위한 자심재료의 투자율 및 완화 주파수 등의 전자기적 특성은 30MHz까지 우수하고 안정적으로 유지되어야 하며, 높은 투자율 및 자속밀도, 공진주파수뿐만 아니라 낮은 전력손실 값을 가져야 한다. 따라서 본 연구에서는 나노결점 합금 리본 표면에 딥 코팅, 졸-겔법, 진공함침 등의 방법을 이용하여 PZT, $TiO_2$$SiO_2$ 등의 산화물 고저항층을 형성시켜 자기적 성질을 유지하면서 고주파 대역의 와전류 손실을 감소시켜 통신용 자심재료로의 응용성을 향상시키고자 하였다. PZT 슬러리의 제타전위 조절을 통해 최적의 분산조건을 얻을 수 있었고, 평균 150nm인 PZT 입자의 초미립자와 가소제, 분산제, 결합제의 첨가조건을 확립할 수 있었다. 딥-코팅은 슬러리 내 유지시간 10초, 인상속도 5mm/min로 30회 반복되었을 때 가정 우수한 특성을 나타내었으며, 고주파 대역에서의 손실 감소효과를 나타내었다. 그리고 졸-겔법에 의해 제조된 슬러리를 이용한 $TiO_2$$SiO_2$ 산화물 저항층 코팅을 통해 금속 알콕사이드의 혼합조건 및 저항층 형성용 슬러리의 제조조건을 확립하였고, 합금 리본표면에 균일하고 우수한 점착력을 가지는 저항층을 형성시킬 수 있었으며, 이에 따른 코어손실의 감소효과를 나타낼 수 있었다. 또한 진공 함침법을 통한 저항층 형성에서, $TiO_2$ 나노분말을 표면 저항층으로 코팅했을 때, 가장 높은 코어손실 감소효과를 나타내었다. 한편, 표면 저항층이 형성된 나노결정 합금으로 제조한 자심재료를 이용하여 전력선 통신용 비접촉식 커플러에의 적용과 시험을 통해 고주파 손실 감소효과에 의한 신호전송 특성과 전류특성을 향상시킬 수 있었다.

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