• Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers
• /
• v.14 no.3
• /
• pp.747-754
• /
• 1990

Since Ion sputter machining can perform removing processing in atom or molecule units in vacuum state, it has the merit that high precision processing is possible. In this study, therefore, the effect of incidence ion beam is certified to processing amount and surface roughness when longtimed processing is applied. As a result, processing amount is made almost constant with time and the best processing condition is achieved when the incidencial angle of ion is 55.deg.. In addition, processing time for the good surface roughness is different respectively to the quality of material and longtimed processing has some defect for achieving good surface roughness.

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
• /
• 1999.10a
• /
• pp.86-87
• /
• 1999

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
• /
• 1993.03a
• /
• pp.82-83
• /
• 1993

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
• /
• 2003.06a
• /
• pp.192-193
• /
• 2003

YIG 에피택시박막은 다른 강자성, 페리자성재료에 비해 수 GHz의 영역에서 매우 우수한 특성을 나타내고 있다. YIG 에피택시 박막은 고상에피택시 방법으로 제조할 경우 매우 편리하게 제조할 수 있는 것으로 알려져 있는데, 이 방법은 상온에서 Y-Fe-O 박막을 GGG(111)기판에 스파터한 뒤 공기 중에서 열처리하면 간편하게 얻을 수 있다. 이 방법은 통상과 같이 고온에서 아주 느린 속도로 에피택시박막을 성장시키는 스파터방법에 비해 매우 간편하고 경제적인 것으로, 본 연구에서는 보통의 분말소결공정으로 제작된 2.5인치 YIG 타겟을 사용하여 두께 2.5 $\mu\textrm{m}$ 비정질 Fe-Y-O 박막을 만든 뒤 550 - 1050 $^{\circ}C$의 공기 중에서 열처리하였다. 비정질 박막을 $600^{\circ}C$이하에서 10 시간동안 열처리하였을 경우 매우 약한 YIG상의 회절선만 관찰할 수 있었다. 반면에 온도를 $650^{\circ}C$로 올리면 매우 강한 (444) 또는 (888)회절선과 매우 약한 다른 회절선을 관찰 할 수 있었다. 이 시편의 경우 (888)회절선의 강도는 GGG기판의 (888)회절선의 강도와 비교할 정도로 매우 강하여 에피택시성장이 매우 잘 이루어질 수 있다는 가능성을 확인할 수 있었다. 그리고 YIG(888) 회절선의 록킹곡선의 반가폭이 0.14$^{\circ}$ 이었고, 이것은 에피택시성장이 매우 잘 이루어지고 있음을 의미하는 것이다. 열처리 온도가 감소함에 따라 YIG박막의 격자상수는 감소하였으며 YIG(888)회절선의 강도는 그림 1과 같이 넓어지고 그 강도는 약해진다.

• Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers
• /
• v.14 no.6
• /
• pp.1495-1508
• /
• 1990

There are requirement of surface roughness in mechanical elements that has minute surface of several nm degree. When high precision surface roughness measurement is made with stylus type surface roughness measuring apparatus, measuring accuracy depend on the tip radius of diamond stylus. Therefore, ultra precision machining was accomplished using ion sputter machining in order to machining the stylus tip radius less than 0.5.mu.m, which is impossible through lapping machining. In this study, optimal machining condition for the ion sputter machining was obtained through the experiment under the various varing machinbing quantity and condition of diamond stylus. And as the result of applying this optimal condition, the good result was obtained that machining probability of stylus tip radius less than o.5.mu.m is 93%.

• Journal of the Korean Magnetics Society
• /
• v.13 no.6
• /
• pp.221-225
• /
• 2003

Effects of annealing temperature on the crystalline and magnetic properties of YIG films grown by solid phase epitaxy. The eptiaxy films were made by annealing Fe-Y-O amorphous films in the air at 550-1050 $^{\circ}C$ which were sputtered on GGG (111) substrates in a conventional rf sputtering system. Crystallization temperature of Fe-Y-O amorphous films on GGG (111) substrate was between 600 and 650 $^{\circ}C$ which is much lower than that Fe-Y-O powder prepared by sol-gel method. Excellent epitaxial growth of YIG films could be conformed by the facts that the diffraction intensity of YIG (888) plane was comparable with that of GGG (888) plane and full width at half maximum of YIG (888) rocking curve was smaller than 0.14$^{\circ}$ when films were annealed at 1050 $^{\circ}C$. It could be seen that it is necessary to anneal the films at higher temperature for an excellent epitaxy because lattice parameter of YIG films were smaller and the peak of YIG (888) plane is higher and narrower with increasing annealing temperature. Films annealed at higher temperature shows M-H loop with perpendicular anisotropy which was due to 0.15％ lattice mismatch between YIG and GGG.

• Korean Journal of Materials Research
• /
• v.2 no.5
• /
• pp.337-342
• /
• 1992

Spectroscopic diagnostics on reactive plasmas was carried out in a facing target sputtering unit with BaO +12Fe composite targets and 50% $O_2+$ Ar sputter gas. Spectra of rective plasmas were composed of peaks which were assigned to be Ba, B$a^+$, Fe, FeO, F$e^+$, Ar, $Ar^+$, O, $O^+$. As detecting positions in plasmas were far away from targets, the relative peak intensities of the ions and neutral species were decreased, but the relative intensities of the former decreased faster than those of the latter.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
• /
• v.8 no.3
• /
• pp.105-113
• /
• 1991

The practicability of Ion-Sputter machining renders it possible to make diamond stylus for surface roughness measurement with micro stylus tip radius less than 2${\mu}mR$, and to measure surface roughness of fine-machined surface. In this study, we researched the wear or Ion-Sputtered stylus with 0.1${\mu}mR$ and 0.5${\mu}mR$ for micro-figure measurement and polished stylus with 0.5${\mu}mR$ according to measurement distance. As a result, we know that the case of Ion-Sputtered stylus is worn down easilier the case of polished stylus. And we know that in the evaluation of stylus wear, it is more useful method that examine the wear by measuring the variation of stylus tip radius than by evaluating the variation of Ra values.

• Electrical & Electronic Materials
• /
• v.1 no.3
• /
• pp.197-208
• /
• 1988

현재 특히 컴퓨터용 외부 기록매체분야에서 재래식 자성분말 코팅형 매체에 대해서 여러가지 보다 우수한 특성을 가진 경합재료가 경쟁적으로 개발되고 있다. 먼저 면재기록방식의 경우에 괄목할 발전을 하고 있는 것은 Co-Ni-P 및 Co-Ni계 무전해 혹은 스파터된 hard disk용 박막이다. 아직 오버코팅 문제가 완전히 해결되지 않고 그외 기판문제 등에서 개선의 여지가 많지만 그 수요가 급격히 늘고 있다. 그 다음으로 수직기록 방식 매체인데 현재는 Ba-ferrite분말도포매체가 공업적 공정측면에서 산업화에 가깝다. 이는 기존 테이프 메이커들의 설비활용이 가능하고 tribology, 안정성에서 비교적 문제가 적기 때문이다. 그러자 이 재료도 금속분말도포제와 특성이 비슷하고 분말자체 가격도 비슷해서 기존재료와 치열한 경쟁을 이겨야 산업화에 성공할 것으로 생각된다. 이보다 훨씬 고밀도기록이 가능한 소재중에서 Co-Cr수직기록박막이 가장 많이 연구되고 있어서 공업화 가능성이 높지만 head 재료의 개선, tribology 문제해결 등이 선행되어야 공업화가 성공될 것이다. 그러나 선진국 특히 일본, 미국에서 이러한 연구가 엄청나게 많이 진행되고 있어서 빠른 시일내에 산업화가 이루어질 것으로 기대된다.

• Electrical & Electronic Materials
• /
• v.7 no.4
• /
• pp.347-351
• /
• 1994

자기정보 기록매체 분야에서 지금까지 사용되어온 방법을 개선하려는 노력이 활발히 진행되고 있다. 좀더 발전되고 진보적인 방법으로는 기록매체 재료의 개발도 있겠으나 보다더 많은 양의 정보를 기록 저장하기 위하여 박막화의 문제는 더할 나위 없는 필수적인 것이라 할 수 있다. 현재 수요가 급격히 늘고 있는 스파터된 hard disk용 박막에 있어서도 코팅문제가 완전히 해결되지 않고 개선의 여지가 아직도 많이 있다. 광자기 기록 매체의 박막화에 있어서도 가격의 저렴화 고속기록재생 고속 access성, 용량 증가등을 들 수 있는데 제품의 제조시 여러가지 박막화기술을 향상시켜야 할 것으로 생각된다.