Strain miasurement of $Si_{1-x}Ge_{x}/Si$ thin film by ion channeling-angular scanning analysis
(이온 채널링-각주사 분석기법을 이용한 $Si_{1-x}Ge_{x}/Si$ 박막의 스트레인 측정)
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- Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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- 1994.11a
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- pp.69-69
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- 1994