본 논문에서는 환경개선 및 건강증긴 설비로써 활용되고 있는 Ultraviolet(U.V.) 광화학 반응을 이용한 lamp 형 오존발생기(LO)의 특성을 개선할 목적으로 LO에 연면방전을 중첩시킨 개선된 형태의 오존발생기(ILO)를 설계.제작하였다. 제작된 오존발생기는 전압인가 방식에 따라서 2가지 형태의 오존발생기 (LO 및 ILO)가 구성되고, 이들 각 오존발생기에 대하여 전력, 원료가스의유량에 따른 오존생성농도, 오존발생량 및 오존생성수율특성을 연구 검토하였다. 이때, 오존생성온도, 오존발생량 및 오존생성수율 등 ILO가 LO보다 우수한 것으로 나타나서, LO의 오존생성특성을 향상시킬수 있었다. 그 결과, 방전전력이 19[W]로 일정한 경우 ILO가 LO보다 오존생성논도,오존발생량 및 오존생성수율의 원료가스의 유량이 $1[\ell/min]$일 때 124[%], $6[\ell/min]$일 때 143[%]상승하였으며 본 연구에서는 712[ppm]의 오존생성농도, 128[mg/h]의 오존발생량과 6750[mg/kwh]의 오존생성수율을 얻을 수 있다.
The practical studies on the method of particle contamination control for yield enhancement in the cleanroom were carried out. The method of the contamination control was proposed, which are composed of data collection, data analysis, improvement action, verification, and implement control. The partition check method and the composition analysis for data collection and data analysis were respectively used in the main board and the cellular phone module production lines. And these methods were evaluated by the variation of yield loss between before and after improvement action. In case that the partition check method was applied, the critical process step was selected and yield loss reduction through improvement actions was observed. While in case that the composition analysis was applied, the critical sources were selected and yield loss reduction through improvement actions was also investigated. From these results, it is concluded that the partition check and the composition analysis are effective solutions for particle contamination control in the cleanroom production lines.
불투수층은 자연적인 침투를 허용하지 않는 인위적인 토지피복상태로 도시화율 추정 및 유역의 환경변화 정도를 분석하기 위한 척도로 사용되어 왔다. 특히, 수문학적 관점에서 불투수층은 단기 유출현상에 큰 영향을 끼치는 요소로 불투수율이 증가할수록 침투량이 감소하여 첨두유출량은 증가하고 도달시간은 짧아진다. 최근에는 급속한 도시화로 인해 불투수층의 영향이 더욱 커짐에 따라 불투수율의 추정에 대한 필요성이 증가하고 있다. 현재까지 위성영상을 이용한 불투수층의 추정은 고해상도 영상을 이용하여 피복분류를 수행하였다. 즉, 분류된 토지피복에 근거하여 불투수율을 산술적으로 계산하거나 분광혼합기법 및 회귀 트리기법 등 다양한 방법에 적용되어 왔다. 본 연구에서는 Sub-pixel 분류기법을 위성영상에 적용하여 섬강유역의 불투수율을 추정하고자 한다. Sub-pixel 분류는 기존 분류기법들이 다양한 토지피복이 혼합된 화소에 대해서도 가장 비중이 높은 토지피복 하나로 분류하던 것을 개선한 방법으로 fuzzy 이론을 적용하여 최소 20% 이상의 비율을 점유하는 항목 모두를 구분하여 분류하는 기법이다. 이를 위해 섬강유역의 Landsat TM 영상을 수집하고 환경부의 토지피복도와 지질도를 참조하여 트레이닝 자료를 수집하였다. 또한 결과에 영향을 미칠 수 있는 구름은 전처리를 통하여 제거하고 수집된 트레이닝 자료에 Sub-pixel 분류기법을 적용하여 섬강유역의 불투수율을 공간분포도로 작성하였다.
본 연구는 기존의 방식으로 만든 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 제조공정에서 발생되는 결함에 대한 원인을 분석하고 해결함으로써 수율을 증대시키고 신뢰성을 개선하고자한다. 본 연구의 수소화 된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터는 Inverted Staggered 형태로 게이트 전극이 하부에 있다. 실험 방법은 게이트전극, 절연층, 전도층, 에치스토퍼 및 포토레지스터층을 연속 증착한다. 스토퍼층을 게이트 전극의 패턴으로 남기고, 그 위에 $n^+a-Si:H$ 층 및 NPR(Negative Photo Resister)을 형성시킨다. 상부 게이트 전극과 반대의 패턴으로 NPR층을 패터닝하여 그것을 마스크로 상부 $n^+a-Si:H$ 층을 식각하고, 남아있는 NPR층을 제거한다. 그 위에 Cr층을 증착한 후 패터닝하여 소오스-드레인 전극을 위한 Cr층을 형성시켜 박막 트랜지스터를 제조한다. 이렇게 제조한 박막 트랜지스터에서 생기는 문제는 주로 광식각공정시 PR의 잔존이나 세척 시 얇은 화학막이 표면에 남거나 생겨서 발생되며, 이는 소자를 파괴시키는 주된 원인이 된다. 그러므로 이를 개선하기 위하여 ashing 이나 세척공정을 보다 엄격하게 수행하였다. 이와 같이 공정에 보다 엄격한 기준의 세척과 여분의 처리공정을 가하여 수율을 확실히 개선 할 수 있었다.
급속한 성장에 따른 디스플레이 산업에서의 생산량 증가는 원료 사용의 증가와 배출액의 증가를 야기하고 있으며 이에 따른 폐액 처리양이 증가되어 환경적, 경제적 문제점을 안고 있다. 본 연구에서는 브라운관 소재인 shadow mask의 식각공정 시 사용한 식각용액의 피로도를 감수시키기 위하여 산화반응을 이용하여 신액 사용량과 구액 배출량을 최소화해주는 GRS(Green Recycling System)공정의 수율을 향상시키기 위해 실험실 및 현장적용 실험을 통하여 공정의 최적화를 하기위한 방법을 연구하였다. 공정변수들과 GRS 공정의 수율과의 관계를 규명하였으며 GRS 반응기의 내부구조 개선으로 인해 약 10%의 수율증가를 확인하였으며 공정의 수율 향상과 최적화에 큰 도움이 되었다.
역사적으로 알콜은 인류에게 식품으로써 뿐만 아니라 근래에는 미래의 무공해 대체 에너지로써 많은 기대를 모으고 있다. 식품의 용도로써는 단연 주류를 꼽게 되는데 이 목적으로는 알콜의 발효수율을 올리는 것만이 아니라 소비자의 기호에 맞는 향과 맛등이 중요한 인자로 작용하게 되어 균주 조작에 한계가 있다고 보겠다. 반면 대체 에너지로써의 알콜은 가능한 수단 방법을 다 동원해서 값싸게, 수율높게만 개선하면 되기 때문에 최근 인구에 회자되고 있는 각종 생명공학기법이 광범위하게 사용될 수 있다고 본다. 목적에 따라서 원료는 물론 발효균주도 다양하게 사용되어 지는데 다음에서 용도별로 대표적인 예를 살펴보겠다.
차세대 반도체 산업은 제조공정의 미세화, 복잡화, 다단계화 등이 심화되고 이로 인해 제조원가의 절감을 위한 단위 Wafer당 보다 많은 칩을 생산할 수 있는 450mm 웨이퍼의 도입을 반드시 필요로 한다. 본 논문에서는 클러스터 툴을 주로 사용하는 450mm 웨이퍼 수율관리 개선 시스템의 구현방향과 상세 기능과 각 모듈에 대한 연구를 수행하였으며, 450mm 웨이퍼 생산체제 하에서 필요한 수율관리시스템인 RTFMD 시스템을 제안 하였다.
스마트 기기 시장의 눈부신 성장으로 핵심 SoC (System on Chip)에 대한 고성능 다기능 요구와 더불어 전력 소모 또한 급속도로 증가하고 있다. 그러나 이러한 요구 사항을 만족시키기 위해 점점 더 미세화된 공정을 사용하게 되면서 심화된 공정변이(process variation)문제로 인해 설계 마진(design margin)이 증가하여 성능과 전력소모를 악화시켜 궁극적으로 수율에 심각한 악영향을 주고 있다. Voltage binning 기법은 효과적인 post silicon tuning 기법중의 하나로, 개별 칩이 아닌 일정한 범위의 속도와 누설 전류에 따라 칩들을 선별 그룹핑한 bin 단위의 공급 전압 조절을 통해 경제적으로 공정 변이로 인한 parametric 수율 손실을 줄일 수 있다. 본 논문에서는 수율 손실 없이 추가적으로 평균 전력 소모를 개선하기 위한 voltage binning 기반의 최적화된 공급 전압 조절 방법을 제안한다. 제안한 기법은 칩 속도와 누설전류의 특성에 따른 공정 코너들의 서로 다른 LVCC (Low VCC) 마진을 고려하여 전압 마진의 편차를 최적화함으로써 전력 소모를 개선할 수 있다. 제안한 방식을 30나노급 모바일 SoC 제품에 적용한 결과 전통적인 voltage binning 방법 대비 동일조건에서 약 6.8%까지 평균 전력 소모를 줄일 수 있었다.
본 논문에서는 WiBro 시스템의 특징을 바탕으로 데이터 트래픽의 수율을 최대로 유지 할 수 있도록 기존 방법을 개선한 부하 제어 방법을 제안하고 컴퓨터 시뮬레이션을 통하여 성능을 평가한다. 송신단에서 단위 사용자당 최대 할당 가능한 전력이 주어졌을 때, 송출 가능한 전력범위 내에서 최대의 수율을 갖도록 각 부반송파에 데이터 비트를 할당하는 알고리즘을 바탕으로 WiBro 시스템의 전체 수율(throughput)과 데이터 트래픽 관점에서 시스템의 수율을 고려하였다. 제안하는 방안의 평가를 위해 사용된 시스템의 파라메터로 WiBro시스템의 규격값들을 사용한다. 현재 시스템의 부하제어 절차로는 접속과다로 인한 대역폭 요구(bandwidth request)의 증가로 인하여 과부하 상태에 이를 때 시그널링 트래픽으로 인하여 데이터의 수율이 급격히 감소하며 접속지연이 매우 증가하게 된다. 이러한 현상을 막을 수 있는 부하 제어 방법을 제안하고 다중 사용자 환경에서 시뮬레이션을 통하여 평가한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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