• 한국정밀공학회지
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• 제17권5호
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• pp.124-130
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• 2000

For measuring out the submicron order straightness, a precision measuring device is developed in this paper. The device is constructed with a hydrostatic feed table and a capacitive type sensor which is mounted to the feed table. Straightness is acquired as substracting the motion error of feed table from the measured profile with probe. Motion error of feed table is simultaneously compensated upto 0.120${\mu}{\textrm}{m}$ of linear motion error and 0.20arcsec of angular motion error using the active controlled capillary. Reversal method and strai호t-edge is used fur estimating the measuring accuracy and from the experimental result, it is verified that the device has the measuring accuracy 0.030m. Also, through the practical application on the measurement of ground surface, it is confirmed that the device is very effective to measure the submicron order straightness.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 1991년도 제6회 파동 및 레이저 학술발표회 Prodeedings of 6th Conference on Waves and Lasers
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• pp.81-87
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• 1991

A design of a four-mirror optical system for submicron lithography using KrF excimer laser beam(λ=248nm) is presented. By using the third order aberration theory, analytic solutions for a telecentric, flat-field, and anastigmatic four-spherical-mirror system (reduction magnification 5$\times$) are found. Aspherization is carried out to the spherical mirror surfaces in order to reduce the residual higher order aberrations and vignetting effect. Finally we obtain a reflection system useful in submicron lithographic application.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2004년도 춘계학술대회 논문요약집
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• pp.320-320
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• 2004

반도체용 노광장비나 검사장비, 초정밀 광학렌즈, 비구면 렌즈 가공 등의 핵심이 되는 것은 초정밀결정기술이다. 서브미크론의 정밀도를 갖는 장비는 한치의 오차도 허용치 야고 계획된 경로대로 정확하게 목표지점에 도달해야 초정밀 가공을 기대 할 수 있다 초정밀 공기정압 스테이지는 저마찰 특성과 높은 운동정밀도, 청정환경유지가 가능하여 반도체 노광장비에서 PDP 나 LCD검사장비, 초정밀가공 가공기 등 다양한 정밀장비에서 활용된다.(중략)

• 대한설비공학회:학술대회논문집
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• 대한설비공학회 2007년도 하계학술발표대회 논문집
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• pp.133-133
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• 2007

• 대한전자공학회논문지
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• 제25권5호
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• pp.495-500
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• 1988

The effectiveness of tri layer resist (TLR) technique is compared with that of single layer resist (SLR) technique in order to make a 0.8um pattern with the linewidth deviation of 10 percents. SLR technique is not appropriate to shape the micro-pattern on oxide and aluminum steps because of the standing wave effect and the light scattering effect in shaping the resist pattern. On the contrary, the uniform line with a width of 0.8um on oxide and aluminum steps can be formed by TLR technique, reducting such effects. The planarization and the light absorption coefficient of the bottom layer resist in TLR are optimized by exposing it to ultra violet light after baking it for 30min at 230\ulcorner. An uniform line with a width of 0.8um on oxide step is defined with the light absorption coefficient of 0.85 whereas that on aluminum step is defined with 0.95.

• 설비공학논문집
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• 제13권7호
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• pp.579-587
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• 2001

This study investigates particle collection characteristics of a cylindrical electrostatic precipitator. Experimental work has been made for the submicron particles. The effects of polarity of discharge electrode wire, particle diameter, gas velocity, gas temperature, and specific corona power on the particle collection efficiency are investigated. The efficiency of negative corona is higher than that of positive corona. as the particle diameter increases, the efficiency is decreased when the diameter is in the range of 0.02-0.6 micron, but is increased for the nanometer particles with diameter smaller than 0.02 micron. The efficiency is increased with increase of specific corona power. As the gas temperature increases, overall collection efficiency is increased for a negative corona, but is deceased for a positive corona.

• 설비공학논문집
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• 제13권7호
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• pp.572-578
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• 2001

This study conducts a laboratory measurement on a cylindrical electrostatic precipitator(ESP) with a 30mm-diameter cylinder. Several kinds of test aerosols are generated with an atomizer and a diffusion dryer. The effects of applied voltage, flow state, gas velocity, and gas temperature on the electrical characteristics of the precipitator and onset of corona are experimentally investigated. The corona onset voltage is decreased, as diameter of discharge electrode wire becomes small or temperature of the precipitator increases. As the fluid velocity or particle load in the precipitator increases, the corona current is decreased.

• 한국공작기계학회논문집
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• 제17권6호
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• pp.1-7
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• 2008

This paper research the trend of technology of the high efficient and reliability machining center and high flexibility parallel manipulator machining center including linear motor machining center, submicron machining center and direct drive 5 axis machining center using patent information of Korea, U.S.A, Japan and Europe. By using this, the technique level of Korea, the International trend of technology and condition of cooperation research was estimated and the necessity of research and development performance about the machining center for the IT part processing were inquired.

• E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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• 제10권10호
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• pp.1000-1004
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• 1997

In this paper the current-voltage characteristics of a submicron GaAs MESFET is simulated by using the self-consistent ensemble Monte Carlo method. The numerical algorithm employed in solving the two-dimensional Poisson equation is the successive over-relaxation(SOR) method. The total number of employed superparticles is about 1000 and the field adjusting time is 10fs. To obtain the steady-state results the simulation is performed for 10ps at each bias condition. The simulation results show the average electron velocity is modified by the gate voltage.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.131-131
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• 2014

양자점은 전통적인 유기 염료에 비해 흡광영역이 넓고 발광 피크의 폭이 좁으며, 흡광과 발광 사이의 에너지 차가 커서 검출이 용이하고, 광안정성이 우수할 뿐만 아니라, 단순히 크기를 조절함으로써 발광 피크의 에너지를 제어할 수 있는 특장 때문에 많은 연구가 진행되었다. 그러나 많은 나노입자들과 마찬가지로 실질적인 응용을 위해서는 양자점 나노입자들도 대부분 표면개질을 거쳐야 하는데, 이 과정이 까다롭고 또 표면개질 중에 나노입자들의 응집이 일어나거나 광특성이 나빠지는 등의 문제가 흔히 발생한다. 한편, 서브미크론 크기의 입자들은 나노입자에 비해 응집현상이 미미해서 상대적으로 취급이 용이하다. 그 중에서도 실리카 입자들은 합성방법도 쉽게 확립되어 있고 생체친화성이 우수하며 그 표면화학 반응이 이미 잘 알려져 있어서 활용하기가 매우 용이하다. 따라서 양자점 층을 실리카 표면 가까이에 자기조립을 통해 배열한 하이브리드 구조는 양자점의 장점을 편리하게 이용할 뿐만 아니라 실리카의 표면개질 특성도 그대로 이용할 수 있다는 이중의 장점이 있다. 본 논문에서는 코어/쉘 구조로 안정화된 II-VI 반도체 양자점 층을 아래 그림 1과 같이 실리카 콜로이드 내에 배열한 하이브리드 구조를 소개하고, 이 하이브리드 구조를 표면개질 하여 LED 칩 위에 패키징 함으로써 백색광을 제조한 연구 및 더 나아가 중심에 초상자성 클러스터 핵을 배치하고 이를 둘러싼 실리카 콜로이드 표면 가까이에 양자점 층을 배열한 초상자성 하이브리드 구조를 합성하여 이를 on-site sensor에 적용한 연구 결과를 소개한다.