• 제목/요약/키워드: 비정

검색결과 356건 처리시간 0.02초

저압 화학 기상 증착법으로 제작한 다결정 실리콘의 표면 형태 및 결정 성장 (Surface Morphology and Grain Growth of LPCVD Polycrystalline Silicon)

  • 이은구;박진성;이재갑
    • 한국재료학회지
    • /
    • 제5권2호
    • /
    • pp.197-202
    • /
    • 1995
  • 저압 화학 기상증착법으로 제작한 비정질 실리콘의 표면 형태 및 결정 성장 과정을 증착조건과 열처리 조건의 변화에 따라 조사하였다. 비정질에서 결정으로 변화하는 전이온도인 570~$590^{\circ}C$에서 증착한 시편은 (311)조직의 거친 표면으로 성장하였다. 같은 증착 온도에서 두께가 두꺼울수록 다결정에서 비정질로 변화하였다. 증착하는 과정에서의 결정화는 기판에서부터 시작되지만, 진공상태를 그대로 유지하고 비정질 실리콘을 전이온도에서 열처리하면 표면 실리콘 원자가 이동하여 결정화하였다.

  • PDF

공정변수와 후속 열처리가 저압화학증착 다결정 실리콘 박막의 특성에 미치는 영향 (The effect of process variations and post thermal annealing on the properties of LPCVD polycrystalline silicon)

  • 황완식;최승진;이인규
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제11권4호
    • /
    • pp.225-229
    • /
    • 2002
  • LPCVD로 $560^{\circ}C$$650^{\circ}C$ 온도에서 실리콘 박막을 제작하였다. 온도에 따른 천이온도를 살펴보았으며, 비정질로 제작된 실리콘 박막을 $900^{\circ}C$$1100^{\circ}C$에서 열처리하였다. 제작된 박막에 대해서 XRD, SEM, ellipsometer, $Tektak^3$, Tencer FLX-2320등 그 외 장비를 사용하여, 박막의 결정 방향, 표면 거칠기, 활성화 에너지, 잔류 응력 등을 조사하였다. 본 실험을 통해 $560^{\circ}C$에서 비정질로 증착시키고 $900^{\circ}C$ -$1100^{\circ}C$ 열처리 통해 얻은 다결정실리콘 박막은 처음부터 다결정으로 제작한 박막에 비해 낮은 잔류 응력과 표면 거칠기를 보였다.

이완법을 이용한 SWASH 모형의 파랑 조파기법 개선 (Improvement of Wave Generation for SWASH Model Using Relaxation Method)

  • 신충훈;윤성범
    • 한국해안·해양공학회논문집
    • /
    • 제29권4호
    • /
    • pp.169-179
    • /
    • 2017
  • 본 연구에서는 선형 및 비선형파의 안정적이고 정확한 조파를 위해 이완법을 이용한 조파기법을 비정수압 수치모형인 SWASH 모형에 적용하였다. 이완법을 이용한 조파기법을 검증하기 위해 선형파와 비선형파인 경우에 대해 수치실험을 수행하였고 해석해와 비교하였다. 그 결과 Stokes 파 영역으로부터 cnoidal 파 영역에 이르는 모든 경우의 입사파랑이 성공적으로 생성되고 전파되었다. 또한 파고와 파형이 해석해와 잘 일치하는 것을 확인할 수 있었다.

비정질과 결정질 V2O5 박막의 온도에 따른 발광특성 (Temperature-dependent photoluminescence properties of amorphous and crystalline V2O5 films)

  • 강만일;추민우;김석원
    • 한국결정성장학회지
    • /
    • 제24권5호
    • /
    • pp.202-206
    • /
    • 2014
  • $V_2O_5$ 박막에서의 PL 특성을 조사하기 위해 RF 스퍼터링법을 이용하여 비정질과 결정질 $V_2O_5$ 박막을 제작하였고, 10~300 K의 온도까지 PL 스펙트럼을 측정하였다. 상온에서 성장된 비정질 박막에서는 ~505 nm를 중심으로 하는 하나의 PL 피크만이 관찰되었고, 결정질 $V_2O_5$ 박막에서는 505 nm를 중심으로 하는 피크와 산소결함에 의한 것으로 알려진 ~695 nm를 중심으로 하는 피크가 관찰되었다. 비정질과 결정질 $V_2O_5$ 박막에서 관찰되는 505 nm에서의 PL 피크의 위치는 온도에 강한 의존성을 보였고, 그 값은 300 K에서 2.45 eV였고, 10 K에서 2.35 eV였다. 505 nm에서의 PL은 $V_2O_5$에서의 밴드 에너지 전이에 의한 것이었으며, 또한 온도의 감소에 따른 피크 위치 에너지의 감소는 전자-포논 상호작용의 감소에 의한 격자팽창효과의 감소 때문이었다.

사성분계 비정질 Ca-Na 알루미노규산염의 산소주변의 원자구조 : O-17 고상핵자기 공명분광학분석 (Oxygen Sites in Quaternary Ca-Na Aluminosilicate Classes : O-17 Solid-State NMR Study)

  • 성소영;이성근
    • 한국광물학회지
    • /
    • 제19권4호
    • /
    • pp.347-353
    • /
    • 2006
  • 자연계에 존재하는 다양한 지구물질의 조성은 여러 성분들로 구성된 다성분계이므로 자연계의 현상을 이해하기 위해서는 이러한 다성분계 지구물질의 구조를 규명하는 것이 필수적이다. 이러한 중요성에도 불구하고 다성분계 비정질의 자세한 원자-나노 구조는 비정질 자체가 갖고 있는 여러 가지고유의 무질서도 등으로 인하여 최근까지도 정확히 알려지지 않았다. 본 연구에서는 일차원 O-17 MAS와 이차원 3QMAS NMR을 이용하여, 다성분계 비정질인 Ca-Na 알루미노규산염 $[(CaO)_x(Na_2O)_{1-x}]\;(A1_2O_3)_{0.5}(SiO_2)_6.\;CNAS)$의 자세한 원자단위의 조성에 따른 변화를 보고한다. 비정질 CNAS의 비연결 산소 (non-bridging oxygen, NBO) 중 Ca-NBO는 Na/Ca 비율이 증가함에 따라서 (Ca, Na)-NBO를 형성한다. 이는 비정질 CNAS 내에서 비연결산소와 Ca와 Na 간에 강한 상호작용이 있음을 지시한다. 연결산소인 경우(bridging oxygen, BO, Si-O-Si나 Si-O-Al)의 경우에도 Na/Ca 비율에 따라, 감소의 폭이 비연결 산소보다는 상대적으로 작지만 화학차폐(NMR chemical shift)가 선형적으로 감소한다. 비정질 규산염의 연결산소의 결합각과 결합길이의 분포에 의해 결정되는 위상무질서도(topological disorder)는 Ca 함량이 증가할수록 비선형적으로 증가한다. 이러한 결과들은 비정질 CNAS의 구조가 기존에 알려진 데로 비연결산소만이 Na와 Ca 같은 구조교란양이온(network modifying cation)에 의해 많은 영향을 받는 것이 아니라 연결산소도 이들 양이온에 의하여 영향을 받음을 지시한다 이에 따라 다양한 양이온세기가 비정질의 무질서도에 미치는 영향을 정리하였다.

비정질 $WO_3$ 박막과 전해질 계면에서의 리튬 층간 반응의 교류 임피던스 해석 (AC impedance study on the interface between organic electrolyte and amorphous $WO_3$ thin film relating to the electrochemical intercalation of lithium)

  • 민병철;주재백;손태원
    • 전기화학회지
    • /
    • 제1권1호
    • /
    • pp.33-39
    • /
    • 1998
  • 본 연구에서는 전자-선 증발법으로 제조된 비정질의 텅스텐 산화물 박막과 전해질 계면에서 진행되는 전기화학반응을 1 M $LiCLO_4/PC$유기 전해질 계면에서 비정질의 텅스텐 산화물 박막 내부로 삽입된 리튬의 양론 값과 박막 전위의 변화에 대하여 연구하였다. 특히 복소수 임피던스 스펙트럼으로부터 제안된 박막과 전해질 계면의 등가 회로는 리튬의 층간 반응 기구가 텅스텐 산화물 박막/유기 전해질 계면에서 리튬 이온의 전하 전달 현상, 텅스텐 산화물 박막에 리튬의 흡착현상 및 박막 내부로의 리튬의 흡수 및 확산 현상으로 구성되어 있다는 것을 알 수 있었다. 또한 CNLS fitting법에 의하여 시뮬레이션된 $R_{ct},\;C_{dl},\;D$, 및 $\sigma_{Li}$ 등의 열역학 및 속도론적 변수 값 등의 상관 관계로부터,비정질의 텅스텐 산화물 박막의 소. 발색 특성은 이들 변수값과 관련이 있었으며, 특히 $Li_y,WO_3$, 박막 내의 리튬의 몰비 y=0.167및 전극 전위 E=2.25 V(vs. Li)에서 전기 발색의 한계값을 갖는 것으로 조사되었다.

혼합비에 따른 $TiO_2-SiO_$ 광학 박막의 제작 및 특성 (Preparation and Property. of $TiO_2-SiO_$ Optical Thin Films with the Mixture Ratio)

  • 이학준;안영욱;윤영진;김의정;한성홍
    • 한국광학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국광학회 2002년도 하계학술발표회
    • /
    • pp.196-197
    • /
    • 2002
  • 졸-겔법은 비정질이나 결정질의 산화물 박막을 제작하는 유용한 방법중 하나이다.(1) 또한 졸-겔법은 제작하고자 하는 특성의 시편을 비교적 쉽게 구현할 수 있다는 장점이 있다. TiO$_2$와 SiO$_2$ 박막은 비교적 큰 굴절률 차이를 갖고 있어 혼합비에 따라 넓고 완만한 굴절률 분포를 가진다.(2) 이것은 박막이 원하는 광학적 특성을 가지게 하여 광학이나 촉매 분야에 응용할 수 있는 가능성이 크다는 것을 의미한다. (중략)

  • PDF

호모로 대전된 PVF박막에서 트랩위치의 제시 (Models of Possible Trapping Sites in Homo-Charged PVF)

  • 김광영;김기준;황병호;홍진웅;이준웅
    • E2M - 전기 전자와 첨단 소재
    • /
    • 제3권2호
    • /
    • pp.99-104
    • /
    • 1990
  • 두께 30[.mu.m]의 코로나 대전된 포리비닐후로라이드 박막에 전압 -3~-6[kV]를 인가한 후, 온도범위 -100~200[.deg.C]에서 열자격 전류를 측정하였다. 결과로 .betha., .alpha. 그리고 .delta. 피크가 온도 -40, 40 그리고 90[.deg.C] 부근에서 각각 나타났다. 이들 피크의 기원으로 첫째 .betha. 피크는 카보닐기의 기여로 둘째로 .alpha. 피크는 주쇄와 비정질 영역의 측쇄에 트랩된 캐리어의 탈트랩의 기여로 나타났고 끝으로 .delta. 피크는 비정질 영역 또는 비정질과 결정질 영역 사이의 경계에 트랩된 캐리어의 탈트랩에 기여로 사료된다.

  • PDF