Excimer laser annealing에 의한 결정화 및 High-k Gate-dielectric을 사용한 poly-Si TFT의 특성 (Electric characteristics of poly-Si TFT using High-k Gate-dielectric and excimer laser annealing)
-
- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
- /
- 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
- /
- pp.19-19
- /
- 2007