• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.31 no.2
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• pp.9-15
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• 2024

The effect of the residual impurity on the prepreg surface on the wettability of encapsulant for chip on board package was analyzed with microstructure, compositions and chemical bonds using a scanning electron microscope and X-ray photoelectron spectroscopy. As a result, the contact angle of w/ residual impurity sample was measured to be 28° higher than that of w/o residual impurity sample, and the C-O bond was decreased to be 4% lower than that of w/o residual impurity sample. The surface energy of the prepreg decreased because the impurity ions, Na and F, generated by the manufacturing process and wet etching, reacted chemically with the C on the prepreg surface, forming C-F bonds and breaking the C-O bonds on the prepreg surface. Therefore, the wettability of the encapsulant was degraded because the contact angle between the encapsulant and the prepreg was increased.

• Proceedings of the Korean Society of Tribologists and Lubrication Engineers Conference
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• 1993.12a
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• pp.35-38
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• 1993

질화규소는 고온에서 고강도, 고경도, 내열성, 내식성 등의 우수한 성질을 가지고 있기 때문에 열교환기, 공구, 기계밀봉(mechanical seal), 자동차용 엔진부품중의 피스톤 및 실린더 링 등의 중요한 부품의 재료로 크게 부목받고 있다. 이러한 질화 규소의 고온에서의 마모, 마찰거동이 중요한 부품으로의 활용범위를 넓히고 또한 기능성을 향상시키기 위해서 고온에서의 마모, 마찰거동에 대한 연구 및 이해가 절대적으로 필요하다. 공유결합성이 강한 질화규소의 소결시에 첨가되는 첨가제나 제조공정에서 들어갈 수 있는 불순물들은 소결체의 입자모양이나 입계에 존재하는 상의 점도를 변화시켜 고온에서의 기계적성질을 저하시키는 것으로 알려졌다.

• Analytical Science and Technology
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• v.20 no.6
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• pp.516-523
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• 2007

Purification of silica mineral has been investigated by acid leaching of pulverized silica. A series of studies has been carried out on the effect of leaching silica powder as a function of the leaching time at the constant temperature of $80^{\circ}C$ in oxalic acid, aqua regia, and two mixed acids of HF/HCl, $HF/HNO_3$. The impurities of silica and leachantes were measured by neutron activation analysis (NAA), inductively coupled plasma atomic emission spectrometry (ICP-AES), atomic absorption spectrometry, x-ray fluorescence (XRF) method and wet analysis (WA). Certain metals, such as sodium, calcium, iron, aluminium and titanium, have been found in concentrations of hundreds or even thousands of mg/kg. Comparison of purification processes of silica and analytical methods of impurities in the silica was conducted in this study.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.13 no.2
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• pp.79-85
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• 2004

Secondary ion mass spectrometry(SIMS) and glow discharge mass spectrometry(GDMS) were used to determine the impurity concentrations of hydrogen, carbon, and oxygen elements in the Cu and Ta films, and the results of SIMS and GDMS analysis were carefully considered. The Cu and Ta films were deposited on Si (100) substrates at zero substrate bias voltage and a substrate bias voltage of -50 V(Cu films) or -125 V(Ta films) using a non-mass separated ion beam deposition method. As a result of SIMS with Cs+ ion beam, in the case of the Cu and Ta films deposited without the substrate bias voltage, many strong peaks were observed, which is considered to be detected as a the cluster state such as CxHx, OxHx, CxOxHx. All the peaks of SIMS results could be interpreted by the combination of these dominant impurities. Moreover, it was confirmed that the quantitative results of GDMS analysis were accordant to the SIMS results.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2006.10a
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• pp.22-22
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• 2006

• Analytical Science and Technology
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• v.14 no.4
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• pp.300-305
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• 2001

The impurities in isoprene were determined using GC/MS. There were good linearities (above $R^2=0.996$) in the range of the $1.0-50{\mu}g/mL$ and 0.5-5.0%, and the detection limits of the method were below $0.1{\mu}g/mL$ for each impurities. Reagent-grade isoprene contained isopropenyl acetylene and 2-butyne at $10-50{\mu}g/mL$ and the concentrations of cis-piperylene, trans-piperylene, cyclopentadiene and dicyclopentadiene were below $1{\mu}g/mL$. The analysis confirmed that the reagent grade isoprene could be obtained from the distillation of C5 fractions.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.08a
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• pp.406-406
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• 2012

ZnO는 큰 여기자 결합 에너지, 낮은 유전 상수, 높은 화학적 안정도를 가지고 있기 때문에 전자소자 및 광소자로 많이 응용되고 있다. 여러 가지 불순물을 주입하여 ZnO의 전기적 및 광학적 성질을 향상시키기 위한 연구가 진행되고 있다. 여러 가지 불순물 중에 Zn와 물리적 및 화학적 성질이 유사한 Cu를 도핑하여 전기화학적성장(electrochemical deposition) 방법으로 ITO가 코팅된 유리 기판 위에 ZnO 박막을 성장하였다. Cu를 도핑하여 ZnO박막을 성장한 결과 구조적으로 ZnO 박막이 나노로드 형태에서 부분적으로 나노세선 또는 나노로드 형태로 변화함을 확인하였다. 광류미네센스 측정 결과는 벌크 ZnO 박막과 비교하여 Cu를 도핑함으로써 ZnO 나노세선이 3.37 eV의 에너지를 가지는 파장의 크기가 줄어들었고 여러 방향으로 ZnO 나노세선이 형성됨을 알 수 있었다. Cu를 도핑함으로써 ZnO 나노세선의 구조적 변화는 크기 않으나 에너지 밴드갭을 변화할 수 있음을 알 수 있었다. ZnO 나노세선의 광학적 성질을 Cu를 도핑하여 변화할 수 있음을 관측하였으며 불순물을 도핑하여 밴드갭을 변화하여 전자소자 및 광소자를 제작하는 기초지식으로 사용할 수 있다.

• Resources Recycling
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• v.9 no.1
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• pp.63-69
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• 2000

Ferromanganese dust is an oxide substance of Mn. If imprities are removed and oxidation degree is controlled, the dust can be recycled for soft ferrite materials. The ferromanganese dust contained about 7 kinds of impurities, expecially about 9000 ppm of $SiO_2$ contents of the ferromanganese dust from 9000 ppm to under 500 ppm by fritting method. The $SiO_2$ in ferromanganese dust can be converted into water soluble compounds by alkali fritting and removed by water leaching. KOH and NaOH were used. The most effective conditions to get rid of $SiO_2$ from the dust are that the weight ratio of alkali to ferromanganese dust is 1.75 and fritting is run at $550^{\circ}C$ for 1 hour.

• Analytical Science and Technology
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• v.7 no.1
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• pp.1-10
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• 1994

A survey was made on detection limit, reproducibility, matrix effect, linear dynamic range and the memory effect of yttrium and europium in order to analyze rare earth elements which exist as impurities in the rare earth oxide which is raw materials of fluorescent substance. When analysing a certain amount of thulium quantitatively using inductively coupled plasma mass spectrometry, it was found that the analysis was interfered with $EuO^+$ which is one of polyatomic ions caused by plasma. As the intensity of thulium linearly proportional to the europium concentration, it was possible to the determine the actual concentration of thulium.

• Proceedings of the Membrane Society of Korea Conference
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• 1997.04b
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• pp.50-51
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• 1997

가압경수로형(PWR) 원자력발전소에스는 원자로 출력조절을 위한 중성자 흡수체로 붕산(Boric Acid)을 사용하며, 불순물이 농축되는 것을 방지하기 위하여 이온교환수지로 수질 정화를 하고 있다. 그러나, 붕산으로 포화운전되는 이온교환수지에서 붕산보다 이온선택도가 낮은 실리카는 제거되지 않으므로, 원자력발전소의 운전년수 경과에 따라 1차계통수(원자로냉각재)의 붕산수중에 실리카 농도가 증가하게 된다. 한편, 실리카는 고온, 고압 운전조건에서 양이온불순물과 결합하여 핵연료피복재에 열전달을 방해하는 규석(Zeolite)층을 형성함으로서 국부가열(Hot Spot)에 의한 핵연료 손상을 일으킬 수 있으므로, 효율적인 실리카 제거기술이 요구된다. 따라서, 기존에 원전에서 사용하고 있는 Feed & Bleed에 의한 수질정화 방법은 다량의 폐기물 발생 및 붕산보충이 필요하므로, 역삼투막(RO)을 이용하여 붕소와 실리카의 최적 분리, 회수조건을 연구하고, 붕산저장 용량이 큰 SFP(Spent Fuel Pool)의 수질정화용 이동형 RO장치를 개발하기 위하여 붕산수중의 실리카에 대한 역삼투막의 선택적 제거특성을 검토하였다.