• Title/Summary/Keyword: 밴드갭

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Fabrication and Characterization of Amorphous/Microcrystalline Silicon Thin Film Solar Cells (비정질/마이크로결정질 실리콘 박막 태양전지의 제작 및 특성평가)

  • 이형철;이유진;신진국;염근영
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2003.11a
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    • pp.66-66
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    • 2003
  • 실리콘 박막 태양전지는 저가, 대면적 생산이 가능해 최근 주택용, 발전용의 차세대 태양전지로써 부각되고 있다. 그러나, 단결정, 다결정 태양전지에 비해 상대적으로 낮은 효율특성 때문에 그 특성을 향상시키고자 하는 다양한 연구가 진행되고 있다. 비정질/마이크로결정질 실리콘 박막 태양전지에서 광흡수층으로 사용되는 i층은 광흡수를 최대화하기 위해 암전류($\sigma$$_{d}$)가 낮고 광전류($\sigma$$_{ph}$ )가 높은, 즉, 광민감도($\sigma$$_{ph}$ /$\sigma$$_{d}$)가 높은 박막을 적용해야 한다. 한편, 도핑된 윈도우층의 경우에는 넓은 밴드갭을 갖도록 하여 윈도우층에서의 광흡수가 최소화되도록 박막을 형성해야 한다.

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Morphological Transitions of MOCVD-Grown ZnO Thin Films (MOCVD로 성장된 ZnO 박막의 미세구조 변화)

  • 박재영;이동주;이병택;김상섭
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2003.11a
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    • pp.59-59
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    • 2003
  • ZnO는 상온에서 3.37 eV의 넓은 밴드갭을 가지는 직접천이형 반도체이다. 상온에서 60 meV의 큰 엑시톤 결합에너지를 가짐으로 인해 엑시톤 재결합에 의한 강한 UV 레이저 발진효과를 기대할 수 있다. 이러한 장점을 갖는 ZnO 박막을 이용하여 광소자 등에 응용하기 위하여 양질의 ZnO 박막성장이 필수적이며, 이를 위해 MBE, MOCVD, PLD, rf magnetron sputtering 등 다양한 증착방법을 통한 연구결과가 보고되고 있다. 또한 p형 불순물인 As과 N 도핑 및 Ga과 N의 co-doping 방법 등을 통하여 p형 ZnO 박막을 제조하였음이 보고되고 있으나 재현성 문제 등으로 인해 계속적인 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 MOCVD를 이용하여 A1$_2$O$_3$(0001) 기판 위에 ZnO 박막을 성장시켰다. Zn 전구체로 DEZn을 사용하였으며, 산소 source로 $O_2$를 사용하였다. 증착온도, Ⅵ/II 비율, 반응기 압력 등 MOCVD의 중요한 공정변수들의 체계적인 변화에 따른 박막성장 양상을 조사하였다. 증착 조건에 따라 ZnO 입자의 모양이 주상(column), nano-rod, nano-needle, nano-wire 등으로 급격하게 변화됨을 확인하였으며, 이러한 입자의 모양과 결정성장 방향 및 광학적 특성과의 상관관계의 해석을 시도하였다.

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A Voltage-to-frequency Converter Using BiCMOS Bandgap Reference Circuit (BiCMOS 기준 전압 회로를 이용한 전압-주파수 신호 변환회로)

  • 최진호
    • The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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    • v.52 no.3
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    • pp.105-108
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    • 2003
  • In this work, a Voltage-to-Frequency Converter(VFC) in which the output frequency is proportional to the input voltage is proposed. To obtain the temperature stable characteristics of the VFC circuit is designed by BiCMOS technology. The output frequency range is 24KHz to 65KHz and the difference between simulated and calculated values is less than about 5% for this range of output frequency. The temperature variation of sample output frequencies is less than $\pm$0.5% in the temperature range $-25^{\circ}C$ to 75$^{\circ}C$.

Optical characteristics of Se thin film fabricated by EBE method (전자빔 증착법으로 제작한 Se박막의 광학적 특성)

  • 정해덕;이기식
    • Electrical & Electronic Materials
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    • v.9 no.5
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    • pp.445-449
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    • 1996
  • Structural and optical characteristics in Se thin film fabricated by EBE method had been studied. Se thin film was deposited with noncrystalline until substrate temperature of >$100^{\circ}C$ Color of its surface had red genealogy, and its optical energy band gap was about 2.45 eV. But Se film was grown with monoclinic at substrate temperature of over >$150^{\circ}C$ Also, color of its surface had gray genealogy, and its optical energy band gap was about 2.31 eV. Finally, after heat-treatment at >$150^{\circ}C$ for 15 min with substrate temperature of >$100^{\circ}C$ noncrystalline Se was proved to be hexagonal, and color of its surface had dark gray genealogy, and its optical energy band gap was about 2.06 eV. From the results, it was known that Se thin film for photoelectric device with the lowest optical energy band gap was accepted from hexagonal structure.

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Research Trends of Two Dimensional Transition Metal Dichalcogenide Semiconductor Materials and Devices (이차원 전이금속 칼코겐화합물 반도체 소재 및 소자 기술개발 동향)

  • Yun, S.J.;Lim, J.W.;Cho, D.H.;Chung, Y.D.
    • Electronics and Telecommunications Trends
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    • v.29 no.6
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    • pp.43-52
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    • 2014
  • 수 원자층 두께의 전이금속 칼코겐화물 이차원 반도체 소재는 스위칭 소자 등에 활용하기에 적합한 밴드갭 에너지를 가지며, 높은 이동도와 우수한 광반응성으로 인해 최근 큰 관심을 끌고 있다. 특히 이차원 소재이므로 dangling bond가 없다는 점, 구조적 안정성, 실리콘에 뒤지지 않는 고이동도, 직접천이 특성 등으로 인해 차세대 전자소자용, 더 나아가 실리콘 반도체 대체 소재로써의 가능성도 점쳐지고 있다. 본고에서는 전이금속 칼코겐화물 이차원 반도체의 소재 특성과 제조방법, 소자 응용면에서의 기술개발 동향, 시장전망 등에 대해 소개하고, 이 소재가 현재 기대하는 만큼 중요하게 활용되고 기술이 발전하기 위해서 반드시 해결해야 할 숙제 등에 대해 논의하고자 한다.

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Conductivity of copper(II)-phthalocyanine thin films due to a grain growth (결정 성장 조건에 따른 copper(II)-phthalocyanine 박막의 전기전도도 특성)

  • Park, Mie-Hwa;Yoo, Hyun-Jun;Lee, Kie-Jin
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.05a
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    • pp.132-136
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    • 2004
  • 열 증착 방법을 이용하여 copper(II)-phthalocyanine(CuPc) 박막을 glass 기판 위에 제작하였다. 열처리 조건은 $150^{\circ}C$에서 후열(annealing) 처리 하는 방식과 예열하는 두 가지 방식으로 달리하였다. 제작된 박막의 전기전도도를 평가하기 위해 마이크로웨이브 근접장 효과를 이용한 근접장 현미경(near-field scanning microwave microscope)을 이용하여 비파괴적인 방식으로 CuPc 박막의 반사계수(reflection coefficient)를 측정하였다. CuPc 박막의 전기전도도 특성을 UV 흡수도를 통한 에너지 밴드갭의 shift 현상과 관련지어 설명하고 또한 x-ray diffraction(XRD) data를 통해 박막의 결정 특성과 비교하였다. 박막 표면 특성은 SEM(scanning microscope microscopy)을 통해 관측하였다. 열처리 조건에 따른 CuPc 박막의 전기전도도 특성은 후열 처리한 박막의 경우 예열 처리한 박막보다 전기 전도 특성이 향상되었음을 관측할 수 있었다.

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Chalcogenide계 열전재료

  • Kim, Il-Ho
    • Electrical & Electronic Materials
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    • v.24 no.7
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    • pp.10-17
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    • 2011
  • 현재 개발 중인 Chalcogenide계 열전재료 중에서, 이방성 재료인 Thallium chalcogenide, Alkalimetal bismuth chalcogenide, Bismuth telluride와 등방성 재료인 Lead telluride, Silver antimony telluride, TAGS, LAST 및 SALT를 소개하였고, 이 재료들에 대한 연구 동향을 살펴보았다. Chalcogenide는 S, Se, Te 및 다른 원소와의 다양한 조합에 의해, 넓은 온도범위에서 열전재료로 응용하기 위한 밴드갭 에너지의 조절이 가능하다. 또한 합성공정에 따른 상변태, 석출 등 구조변화에 따른 열전특성의 변화를 기대할 수 있어 열전재료 개발 초기부터 활발한 연구가 진행되어 왔다. 과거의 전통적인 Chalcogenide계 열전재료뿐만 아니라, Chalcogenide계 열전 신소재에 대해서도 살펴보았다. Chalcogenide는 전자적, 광학적, 열적 성질 등 특성이 독특하고 변화가 무궁무진하여 아주 매력적이기 때문에, 앞으로도 계속 열전재료로서 각광받는 물질군으로 판단된다. 그림 11에 현재까지 ZT의 최댓값이 1이 넘는다고 보고된 열전재료의 성능지수를 요약하였다.

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A Study on Phase noise Reduction Technique in Oscillator Using PBG (PBG를 이용한 Oscillator의 Phase Noise Reduction에 관한 연구)

  • Oh Icsu;Seo Chulhun
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea TC
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    • v.42 no.1
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    • pp.99-103
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    • 2005
  • In this paper, a new technique to reduce the phase noise in microwave oscillators is proposed using the resonant characteristics of the Photonic Bandgap(PBG). We applied PBG structure to ground of the microstrip line resonator with the low Q(Quality factor). Therefore, we improved about 10 dBc in contrast to phase noise characteristic of the conventional microstrip line oscillator at 2.4 GHz @ 100 MHz offset. Output power is 7.09 dBm.

Global R&D Trends of GaN Electronic Devices (GaN 전자소자 글로벌 연구개발 동향)

  • Mun, J.K.;Bae, S.B.;Chang, W.J.;Lim, J.W.;Nam, E.S.
    • Electronics and Telecommunications Trends
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    • v.27 no.1
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    • pp.74-85
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    • 2012
  • 차세대 화합물 반도체 플랫폼으로 각광을 받고 있는 GaN 전자소자 글로벌 연구개발 동향에 관하여 기술하고자 한다. GaN 전자소자는 와이드 밴드갭(Eg=3.4eV)과 고온 안정성($700^{\circ}C$) 등 재료적인 특징으로 인하여 고출력 RF 전력증폭기와 고전력용 전력반도체 응용에 큰 장점을 가진다. GaN 전자소자 기술동향에서는 먼저 미국, 유럽, 일본을 중심으로 한 대형 국책 연구프로젝트 분석을 통한 RF 전력증폭기 연구개발 방향을 살펴보고, 후반부에서는 이동통신 기지국, 선박 및 군용 레이더 트랜시버용 고출력 RF 전력증폭기의 응용 분야에 관하여 알아본다. 이러한 총체적인 동향분석을 통하여 차세대 반도체의 신시장 개척과 선진입을 위한 GaN 전자소자의 연구개발 방향과 조기상용화의 중요성을 함께 생각해보고자 한다.

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