• Title/Summary/Keyword: 반도체-디스플레이장비

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산업/의료기 X선 영상시스템용 센서 개발

  • 설용태;이의용;남형진;조남인;차경환
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2005.09a
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    • pp.170-174
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    • 2005
  • 본 연구는 산업용과 의료용에 사용되는 비파괴 검사용 X 선 영상시스템에 이용되는 X 선을 직접 감지하는 방식의 센서를 실리콘 반도체 재료를 사용하여 개발하는데 목적이 있다. 이를 위해서 실리콘 반도체를 기본 물질로 하는 X-선 센서를 제작하고, 광범위한 영역에서 응용이 가능한 비파괴 시험용으로 제품화하기 위해 센서 어레이와 주변회로 및 구동회로 시스템과의 연관기술을 검토한다.

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공초점 주사 현미경에서 고속, 고품질 3차원 영상복원을 위한 최적조건

  • Kim, Tae-Hun;Kim, Tae-Jung;Gwon, Dae-Gap
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.10a
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    • pp.5-9
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    • 2006
  • 공초점 주사 현미경(Confocal Scanning Microscope, CSM)은 Bio-cell 및 특정 형태를 가지는 object의 고분해능 3차원 영상복원이 가능하여 3차원 측정장비로 주로 사용된다. 특히 LCD 패널 및 반도체 웨이퍼의 불량 검사 장비로의 활용이 가능하여 3차원 영상으로부터 불량 여부와 원인을 알아낼 수 있다. 하지만 생산 공정에서 불량 검사를 하기 위해서는 고속, 고품질의 성능이 요구된다. 따라서 이 논문에서는 공초점 주사 현미경을 이용하여 고분해능으로 고속, 고품질의 3차원 영상복원을 할 때 어떠한 조건이 요구되는지 알아보고 시뮬레이션 하도록 하겠다.

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Design of Chemical Supply System for New Generation Semiconductor Wet Station (차세대 반도체 세정 장비용 약액 공급 시스템 연구)

  • 홍광진;백승원;조현찬;김광선;김두용;조중근
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2004.05a
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    • pp.123-128
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    • 2004
  • Semiconductor Wet Station has a very important place in semiconductor process. It is important that to discharge chemical with fit concentration and temperature using chemical supply system for clean process. The chemical supply system which is used currently is not only difficult to make a fit mixing rate of chemical which is need in clean process, but also difficult to make fit concentration and temperature. Moreover, it has high stability but it is inefficient spatially because its volume is great. We propose In-line System to improve system with implement analysis of fluid and thermal transfer on chemical supply system and understand problem of system.

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PDP 구동 원리에 관한 트리즈 기법적 고찰

  • Kim, Won-Sik
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2007.06a
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    • pp.267-270
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    • 2007
  • 21세기에 들어서면서 박막 대형 TV의 발전은 눈부시다. 최초로 박막 대형 TV의 길을 열어 준 디스플레이는 Plasma Display Panel (PDP)이다. PDP TV는 1920 년대 초에 개발되었으나 당시의 Cathode Ray Tube (CRT) TV에 밀려 사장되었다가 그 이후 지속적인 연구를 통해 약점을 극복하여 2000 년대에 들어서면서 대형화와 박막화에 성공하면서 CRT를 넘어서기 시작하여 대형 TV 분야에서는 가장 많이 팔리는 디스플레이로 알려져 있다. 이 논문에서는 PDP 기술이 시장화에 성공할 수 있는 계기가 된 패널 구동 기술 발전에 대해 TRIZ으로 고찰을 다루고자 한다.

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${\cdot}$병렬 회로의 백색 LED 조명램프 금속배선용 포토마스크 설계 및 제작

  • 송상옥;송민규;김태화;김영권;김근주
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2005.05a
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    • pp.84-88
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    • 2005
  • 본 연구에서는 백색광원용 조명램프에 필요한 고밀도로 집적된 LED 어레이를 제작하기 위하여 반도체제조 공정에 필요한 포토마스크를 AutoCAD 상에서 설계하였으며 레이저 리소그래피 장비를 이용하여 포토마스크를 제작하였다. 웨이퍼상에 LED칩을 개별적으로 제작한 후 이들을 직렬 및 병렬로 금속배선하여 연결하였다. 특히 AutoCAD로 각 공정의 포토마스크 패턴을 설계 작업한 후 DWG 파일을 DXF 파일로 변환하여 레이저빔으로 스캔닝하였다. 이를 소다라임 유리판 위에 크롬을 증착한 후 각 패턴에 맞추어 식각 함으로써 포토마스크를 제작하였다. 또한 2인치 InGaN/GaN 다중 양자우물구조의 광소자용 에피박막이 증착된 사파이어 웨이퍼에 포토마스크를 활용하여 반도체 제조공정을 수행하였으며, 금속배선된 백색LED램프를 제작하였다.

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국내 및 국외 진공 산업 개발 동향에 대한 연구

  • Gang, Min-Jeong;Yu, Jae-Gyeong;Gang, Sang-Baek
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.87-87
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    • 2011
  • 최근 진공기술의 발전으로 진공환경에 대한 산업 응용분야가 다양화되고 있다. 진공 기술은 우주공학, 생명공학, 재료공학 및 전자공학 분야에 핵심 기반기술이 되었으며, 특히 반도체 공정이나 디스플레이 공정의 진공 기술 발전은 매우 빠르게 발전되어 이를 위한 지속적인 연구개발이 요구되고 있다. 우리나라는 세계 제일의 반도체 및 디스플레이 생산국이라는 위치와는 달리 반도체를 생산하기 위한 장비의 국산화율은 16% 미만이다. 특히 전공정장비의 국산화율만 고려한다면 8% 미만에 불과한 실정이다. 이에 정부에서는 진공장비의 핵심부품 국산화에 대한 R&D 사업에 자금을 적극적으로 투자하고 있으나, 반도체 산업을 주력산업으로 표방하고 있는 국내 산업의 기초기반 핵심기술을 외국에 의존함으로써 외화낭비는 물론 첨단산업의 발전을 저해하는 요소로 작용하고 있는 실정이다. 이에 반도체 산업뿐만 아니라 전반적인 기반기술에 해당하는 진공장비 등 국산화 개발은 국가적인 차원에서 매우 중요하다고 할 수 있다. 본 연구에서는 국내 진공 산업체 기술 및 발전 현황과 선진 공업국의 진공 관련 업체의 기술 수준 등을 비교 분석하여 가이드라인을 제시 하고자 한다. 또한, 현재 (유)우성진공에서 정부지원 과제로 수행중인 대유량 터보형 드라이펌프 및 크라이오 펌프 개발 현황 등 국산화 기술개발에 대한 연구 수행 과정을 소개하고자 한다.

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웨이브릿 시계열 신경망을 이용한 플라즈마 장비 센서 정보 모델링

  • Kim, Yu-Seok;Kim, Byeong-Hwan;Han, Jeong-Hun;Seo, Seung-Hun;Son, Jong-Won
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.10a
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    • pp.72-76
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    • 2006
  • 본 연구에서는 웨이브릿과 신경망을 결합하여 플라즈마 고장을 감시하기 위한 시계열 모델을 개발하였다. 본 기법은 플라즈마 증착장비에 의해 수집된 18 개의 센서정보에 적용하여 평가하였다. 이산치 웨이브릿(Discrete Wavelet Transformation)은 장비에서 수집된 센서정보의 전 처리를 위해 이용되었다. 시계열 모델의 성능은 과거와 미래정보의 함수로 평가하였다. 수집된 18 개의 센서정보에 대한 모델성능 비교를 위해 표준화된 성능평가지표가 적용되었다. 평가결과, 본 기법에 의해 개발된 시계열 모델은 대략 4% 정도의 예측에러를 보였다.

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산업용 플라즈마 장비의 웨이브릿 감시

  • Kim, Su-Yeon;Kim, Byeong-Hwan;Son, Jong-Won;Han, Jeong-Hun;Seo, Seung-Hun
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.10a
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    • pp.86-89
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    • 2006
  • 본 연구에서는 웨이브릿 기법을 응용한 플라즈마 장비를 감시하는 기법을 보고한다. 소자제조업체에서 가동중인 플라즈마 증착장비에서 센서정보를 수집하였으며, 이를 이산치 웨이브릿을 이용하여 변환 시킨 후, 민감도 측정을 위해 고안된 메트릭 (Metric)을 적용하였다. 총 18개의 센서정보에 대하여 민감도를 계산하였으며, 민감도는 $21{\sim}300%$ 범위에서 증진하였다. 특이 센서패턴을 제외하고는 Raw 데이터에 비해 75% 이상의 민감도를 향상시켰으며, 이는 본 기법이 플라즈마 센서정보의 고장에 대한 민감도를 증진하는데 효과적임을 보여 준다.

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신경망과 전문가 시스템을 결합한 플라즈마 장비 센서정보 융합

  • Park, Min-Geun;Kim, Byeong-Hwan;Son, Jong-Won;Han, Jeong-Hun;Seo, Seung-Hun
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.10a
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    • pp.96-100
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    • 2006
  • 본 연구에서는 플라즈마 상태를 조기에 예측하는 기법을 개발하였다. 본 기법은 신경망 시계열 모델, CUSUM 제어 차트, 그리고 Dempster Schafer 전문가 시스템을 결합하여 개발하였다. 시계열 모델은 과거와 미래정보의 조합을 통해 그 예측성능을 최적화하였다. 본 기법은 소자제조업체에서 가동중인 PECVD 장비에서 수집된 센서정보에 적용하여 평가하였으며, 플라즈마의 정상과 고장 상태를 조기에 정확히 예측할 수 있었다. 소자제조업체에서 본 기법을 적용할 때, 장비 생산성과 소자수율의 증진에 기여할 수 있다.

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유기물처리된 박막의 XPS를 이용한 탄소함량에 대한 연구

  • O, De-Re-Sa;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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    • 2006.10a
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    • pp.18-21
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    • 2006
  • 유기 반도체로서 트랜지스터에 사용되기 위해서 유기절연막은 $SiO_2$ 표면을 유기물로 처리하여 $SiO_2$ 박막 표면의 화학적 특성을 변화시키고 절연특성을 개선 함으로서 단위 소자의 특성을 개선시키고 있다. 그래서 $SiO_2$ 표면 위에 OTS를 처리하여 누설전류를 측정하였다. OTS처리함량에 따라서 누설전류가 흐르는 경향성은 다르게 나타났으며, 0.2% 처리된 박막에서 누설전류는 가장 적게 나타났다.

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