Characterization of $SiO_xC_y$ films deposited by PECVD using BMDSO and Oxygen
(HMDSO와 산소를 이용한 PECVD 증착 $SiO_xC_y$ 필름의 특성연구)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- v.10 no.2
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- pp.182-188
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- 2001