• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.245-245
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• 2004

최근 급속히 성장하는 제약산업 분야에서 신약개발, 약물 투여, 유전자 분석에 필요한 비용과 시간을 줄이기 위하여 랩온어칩(Lab-on-a-chip) 기술이 부상하고 있다. 이러한 랩온어칩에서는 원하는 소량의 시료를 정밀하게 이송시켜 혼합, 반응, 분리, 검출 등이 하나의 칩 위에서 일련의 과정으로 수행 가능하게 하여 고속, 고효율, 저비용의 자동화를 시킬 수 있는 장점이 있다. 즉, 이는 하나의 칩 위에 분석에 필요한 여러 가지 장치들을 마이크로 머시닝 기술로 초소형 집적화 시킨 마이크로 프로세서이다.(중략)

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2003.10a
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• pp.54-54
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• 2003

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2003.06a
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• pp.608-611
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• 2003

In this paper, laser direct micromaching is developed to fabricate micro patterns using UV laser ( λ$_3$= 355 nm). Experimentally, laser beam paths mainly influences the surface shape quality. Thus. we proposed laser beam path generator by extracting shape data in a blueprint worked through CAD modeler and using genetic algorithm that considers the characteristics of laser beam. The results show that various shapes of micro patterns could be manufactured using proposed method in this paper.

• 기계와재료
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• v.11 no.4 s.42
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• pp.80-96
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• 1999

• Electrical & Electronic Materials
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• v.14 no.6
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• pp.1-6
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• 2001

• The Optical Journal
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• v.14 no.4 s.80
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• pp.69-70
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• 2002

• The Optical Journal
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• v.12 no.1 s.65
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• pp.61-65
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• 2000

레이저 분야에서 각 제품군별로 국내 생산환경과 동향을 분석하고, 세계 시장 동향과 주력 아이템을 조사한 자료를 싣는다. 지난 호의 다이오드 여기 고체레이저 발진기, Lamp pumped 고출력 Nd:YAG 레이저 발생장치에 이어서 이번 호에는, 레이저 마이크로 머시닝, 암치료를 위한 레이저기기에 대해 다룬다. 한국광학기기협회가 주관하여 진행한 '레이저 발진기 및 응용시스템 기술개발에 관한 연구'의 기초 조사 자료 가운데 간추렸다. 이 자료는 조사처를 게

• The Optical Journal
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• v.11 no.6 s.64
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• pp.39-43
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• 1999

레이져 분야에서 각 제품군별로 국내 생산환경과 동향을 분석하고, 세계 시장 동향과 주력 아이템을 조사한 자료를 2회로 나누어 싣는다. 다이오드 여기 고체레이저 발진기, Lamp pumped 고출력 Nd:YAG 레이저 발생장치를 이번 호에 레이저 마이크로 머시닝, 암치료를 위한 레이저기기, 레이저마킹기를 다음 호에 다룬다. 한국광학기기협회가 주관하여 진행한 '레이저 발진기 및 응용시스템 기술개발에 관한 연구'의 기초 조사 자료 가운데 간추렸다. 이 자료는

• Laser Solutions
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• v.14 no.1
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• pp.25-29
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• 2011

Micromachining of photosensitive glass by UV exposure, heat treatment, and etching processes is reported. Like photoresist, the photosensitive glass is also classified into positive and negative types by development characteristics. For the positive type, the exposed area is crystallized and etched away during the etching process in HF solution, whereas the unexposed area is crystallized and etched away for the negative type. The crystallized area of the photosensitive glass has an etch rate approximately 30~100 times faster than that of the amorphous area so that it becomes possible to fabricate microstructures in the glass. Based on the unique properties of glass such as high optical transparency, electrical insulation, and chemical/thermal stability, the glass micromachining technique introduced in this work could be widely applied to various devices in the fields of electronics, bio engineering, nanoelectonics and so on.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 1997.08a
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• pp.96-96
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• 1997