• Title/Summary/Keyword: 금속화 공정

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Pressure-Dependent Yield Model for Metallic Powder Mixtures and Their Densification Behavior During Die Compaction as Analyzed by the Finite Element Method (금속분말 혼합체의 압력의존 항복모델과 유한요소법을 이용한 금형압분 공정 시 고형화 해석)

  • Yoon, Seung Chae;Kim, Taek-Soo;Kang, Seung Koo;Kim, Hyoung Seop
    • Korean Journal of Metals and Materials
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    • v.47 no.9
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    • pp.567-572
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    • 2009
  • The densification behaviors of mixtures of copper and steel powders during cold die compaction were investigated. We proposed the pressure-dependent yield function based on the rule of the mixtures of each yield function of a critical relative density type. The constitutive equations were implemented into a finite element program (DEFORM2D) to analyze the densification and deformation behavior of powder mixtures, and the simulated results are in good agreement with the experimental results in reference studies.

DC 스퍼터로 증착한 금속박막의 실시간 전기저항 측정과 유착두께에 관한 연구

  • Gwon, Na-Hyeon;Kim, Hoe-Bong;Hwang, Bin;Kim, Dong-Yong;Jo, Yeong-Rae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.174-174
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    • 2011
  • 최근 전자산업의 발전은 형상 면에서 경박 단소화로 급속하게 진행되고 있으며, 전자소자 내부에서의 배선재료로 사용되고 있는 알루미늄(Al) 박막의 두께 역시 얇아지고 있다. 두께가 20nm 이하로 작은 극박막 범위에서 박막의 두께 증가에 따라 전기가 잘 흐르기 시작하는 박막의 최소두께로 정의 되는 유착두께를 실시간으로 측정하는 방법을 구현하고 임의의 금속박막과 기판의 조합에 있어서 각각의 재료에 대한 유착두께를 제공함으로써 향후 미세전자소자의 제작시 배선 재료의 선택에 대한 기초자료를 축적할 수 있다. 또한 금속박막의 증착공정 직전에 기판을 표면처리 하여 기판을 활성화시킬 때 표면처리가 박막의 유착두께에 미치는 영향에 대해 박막의 미세구조 변화 관점에서 연구함으로써 여러 가지 금속박막에 대한 유착두께를 줄일 수 있는 방법을 도출할 수 있다. 본 연구에서는 유리 기판 위에 사진 식각 공정으로 패턴을 형성하였다. 패턴이 형성된 유리 기판은 Sputter에 연결된 4 point probe에 구리 도선으로 연결한 후 DC 마그네트론 스퍼터법으로 Al과 Sn을 증착하면서 실시간으로 시간에 따른 전기저항을 측정을 하였다. 이때 Sputter 내부 진공도는 $4.6{\times}10^{-2}torr$까지 낮춰준 후 Al을 증착 할 때 진공도는 $1.1{\times}10^{-2}torr$로 맞춰주고 Ar 가스를 20 sccm 넣어준다. 이때 Al 박막의 유착 두께는 29.6 nm 이고 Sn 박막의 유착두께는 20.48 nm 이다. 유착 두께를 정의함으로써 전자소자의 크기를 최소화 할 수 있으며 실시간 전기저항 측정을 통한 금속박막의 전기전도 특성과 미세구조에 대한 기초 자료를 제공함으로써 신기술 발전에 공헌할 것이다.

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플라즈마 공정용 산화막 코팅부품의 신뢰성평가에 관한 연구

  • Song, Je-Beom;Lee, Ga-Rim;Sin, Jae-Su;Lee, Chang-Hui;Sin, Yong-Hyeon;Kim, Jin-Tae;Gang, Sang-U;Yun, Ju-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.151-151
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    • 2013
  • 최근 반도체 및 디스플레이 산업에서의 플라즈마 공정의 중요성은 점점 증대되고 있다. 특히, 반도체/LCD 제조공정에서의 Dry Etch공정은 디스플레이용 유리 위에 형성된 산화막, 금속입자, 박막, 및 Polymer와 같은 불순물들을 플라즈마를 이용하여 제거하는 공정이다. 플라즈마 공정을 진행하는 동안 몇 가지 문제점들이 이슈가 되고 있다. Etch공정에서는 활성 부식가스를 많이 사용하고 장시간 플라즈마에 노출되기 때문에, 진공부품들은 플라즈마에 의해서 물리적인 이온충격(Ion Bombardment)과 화학적인 Radical 반응에 의한 부식이 진행된다. 부식영향에 의해 챔버를 구성하고 있는 부품에서 균열이 발생하거나 오염입자들이 떨어져 나오게 된다. 발생한 오염입자들은 산업용 플라즈마 공정에서 매우 심각한 문제가 되고 있다. 본 연구에서는 산화막의 부식 저항특성을 측정할 수 있는 평가방법에 대하여 고찰하였고, 표준화된 데이터로 비교분석할 수 있도록 평가기준과 규정화된 피막평가방법을 연구하였다. 또한, 산화막의 특성에 따른 플라즈마 상태, 오염입자 발생 등 플라즈마 공정을 진단하여 부품재료의 수명을 예측하고, 신뢰성 있는 평가방법에 관한 연구를 하였다.

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ECAP공정에서 금형의 단면형상이 공정에 미치는 영향

  • 노일주;채수원;권숙인;김명호;황선근
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 2004.05a
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    • pp.81-81
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    • 2004
  • 등통로각압축(ECAP, Equal Channel Angular Pressing)공정은 다결정의 재료 덩어리를 두 채널(channel)이 일정하게 교차하는 형태의 금형에 통과시켜 단면적과 단면 형상의 큰 변화 없이 압출하는 성형법으로 다른 공정에 비해 상대적으로 낮은 압력으로 재료에 소성변형을 발생시켜 입자를 미세화 시킬 수 있으며, 기존의 분말야금에 의한 방법에 비해 상용재료를 포함한 광범위한 금속 및 합금에 적용이 용이한 점과 재료 내부에 기포가 거의 잔류하지 않는 점등의 장점을 가지고 있다.(중략)

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대형 복합재 연소관 Boss용 Al 합금 국산화 개발

  • 손영일;임성택;은일상;장창범
    • Proceedings of the Korean Society of Propulsion Engineers Conference
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    • 1995.05a
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    • pp.127-138
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    • 1995
  • 대형 복합재 연소관 금속 보스용 고강도 알루미늄 합금 7175-T74를 개발하기 위하여, 고순도 7175 합금을 이용하여 링롤 단조법으로 대형링을 제조하였으며, 열처리와 가공 조건을 정밀제어한 특수공정을 적용하여 기존의 재료와 재질 특성을 비교 분석하였다. 분석결과 특수공정의 7175S-T74는 기존의 7175-T74 및 7075-T73에 비해 2차상 입자의 분률이 작고, 동일한 SCC특성(38% IACS) 수준에서 강도와 파괴인성이 동시에 증가한 이상적인 강도-인성-SCC 조합특성을 가졌다. 이는 특수공정에서의 고온열처리에 의한 2차상 입자의 재고용과 그에 따른 석출량 증가 때문이며, 결국 7175 합금, 링롤단조 그리고 T74 특수공정을 조합 적용하면 구조적 신뢰성과 경제성 면에서 유리한 보스용 대형링을 개발할 수 있다.

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반도체 및 평판 디스플레이 산업에서의 진공 챔버 건식 세정을 위한 원격 플라즈마 생성 장치

  • Lee, Han-Yong;Son, Jeong-Hun;Jang, Bo-Eun;Im, Eun-Seok;Sin, Yeong-Sik;Mun, Hong-Gwon
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2017.07a
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    • pp.501-505
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    • 2017
  • 반도체에 대한 수요가 늘어남에 따라 반도체 칩 생산을 위한 웨이퍼 공정 및 평판 디스플레이 제조 공정에서 수백~수십 나노 단위 크기의 트랜지스터, 커패시터 등의 회로소자 제조를 요구하고 있다. 이에 따라 반도체 공정의 미세화가 10nm 이하까지 다다랐고 이로 인해 수율과 신뢰성 측면에서 파티클, 금속입자, 잔류이온 등 진공챔버 내부의 오염원 제거 중요성이 점점 증가하고 있다. 이러한 오염원 제거를 위해서 과거에는 진공 챔버를 개방하여 액상물질로 주기적인 세정을 하였으나 2000년대 초반부터 생산성 향상을 위해 진공 상태에서 건식 세정하는 원격 플라즈마 발생장치(Remote Plasma Generator, RPG)를 개발하여 공정에 적용 해 왔다. 건식 세정을 위해서 화학적 반응성이 높은 고밀도의 라디칼이 필요하고 이를 위해 플라즈마를 이용하여 라디칼을 생성한다. RPG는 안테나 형태의 기존 유도 결합 플라즈마 (Inductively Coupled Plasma, ICP) 방식에 자성코어(Ferrite Core)를 추가함으로써 고밀도 플라즈마 생성이 가능하다. 본 세션에서는 이러한 건식세정과 관련된 플라즈마 기술 소개, 플라즈마 발생장치의 종류 및 효과적인 건식 세정을 위한 원격 플라즈마 발생장치를 소개하고자 한다.

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Optimization of reactive nano-foil by the magnetron sputtering and industrial application (마그네트론 스퍼터링을 이용한 반응성 나노 포일의 제조 공정 최적화 및 산업적 응용)

  • Jo, Yong-Gi;Lee, Won-Beom;Yu, Se-Hun;Choe, Yun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2015.05a
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    • pp.29-29
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    • 2015
  • Al과 Ni이 나노 두께로 적층되어 있는 나노 포일은 외부의 촉발에 의해 원자수준의 상호 확산을 통해 합금화 된다. AlNi 합금이 되서 $-{\Delta}H$의 변화로 인하여, 외부에 열을 공급하게 되어 최대 엔탈피의 변화 일어날 수 있는 Al과 Ni의 혼합비율을 조사하였다. 나노 포일의 제조 공정은 마그네트론 스퍼터링을 이용하였으며, 나노 박막의 두께 및 적층 공정에 대한 공정 최적화를 하였다. 제조된 나노 포일은 금속-세라믹의 상온접합을 실시하여 산업적 응용에 대한 가능성을 고찰하고자 하였다.

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박막의 성장 및 특성과 공정변수와의 상관성 도출

  • Jeong, Jae-In;Yang, Ji-Hun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.264-264
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    • 2010
  • 물리증착이나 화학증착으로 제조되는 박막은 공정 조건에 따라 다양한 성장 양태를 보인다. 박막의 성장은 초기에 Seed가 형성되어 그 Seed를 바탕으로 성장하는 것으로 알려져 있으며 기판온도, 이온충돌, 박막의 두께 등에 따라 성장양태나 성장방위 등이 달라진다. 최근 나노에 대한 관심이 높아지면서 진공증착으로 제조한 박막에서도 조직의 나노화에 대한 관심이 높아지고 있으며 특히, Pore-free, Defect-free 박막의 형성을 통해 특성을 향상시키고자 하는 연구도 증가하고 있다. 본 연구에서는 Al과 Cu 같은 금속의 박막을 제조함에 있어서 공정변수가 박막의 조직이나 배향성 등에 미치는 영향을 조사하였다. 특히, 이러한 조직변화와 박막의 특성과의 상관성을 도출하고자 하였다. Al 박막에서는 이온빔의 효과와 함께 공정중에 산소 가스를 주입하거나 플라즈마 처리를 통해 성장조직의 변화를 유도하였고, Cu 박막에서는 고속 증착 조건이 피막의 조직에 미치는 영향을 조사하였다. 한편, TiN 박막의 형성에 미치는 이온빔의 효과를 조사하여 이온빔 조건과 TiN 박막의 형성과의 관계를 규명하였고 이로부터 Normalized Energy가 TiN 박막의 색상에 미치는 영향을 도출하여 Normalized Energy가 Fundamental Parameter가 될 수 있음을 확인하였다.

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Residual Metal Evolution with Pattern Density in Cobalt Nickel Composite Silicide Process (코발트 니켈 복합 실리사이드 공정에서 하부 형상에 따른 잔류 금속의 형상 변화)

  • Song, Oh-Sung;Kim, Sang-Yeop
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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    • v.6 no.3
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    • pp.273-277
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    • 2005
  • We prepared $0.25\~l.5um$ poly silicon gate array test group with $SiO_2$ spacers in order to employ NiCo composite salicide process from 15nm Ni/15nm Co/poly structure. We investigate the residual metal shape evolution by varying the rapid thermal silicide anneal temperature from $700^{\circ}C\;to\;1100^{\circ}C$. We observed the residual metals agglomerated into maze type and line type on $SiO_2$ field and silicide gate, respectively as temperature increased. We propose that lower silicide temperature would be favorable in newly proposed NiCo salicide in order to lessen the agglomeration causing the leakage and scum formation.

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Production and Application of Nanoparticles by the Chemical Vapor Condensation Process (화학기상 응축법에 의한 나노분말의 제조 및 응용)

  • Kim Jin-Chun;Ha Gook-Hyun;Choi Chul-Jin;Kim Byoung-Kee
    • Journal of Powder Materials
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    • v.12 no.4 s.51
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    • pp.239-248
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    • 2005
  • 1990년도 초반에 개발되어 나노분말의 제조 공정으로 집중적으로 연구되어온 화학기상응축공정은 고강도용 나노분말 소재이외에 기능성 자성재료로의 응용에 주로 이용되어 왔다. 최근에는 이러한 응용이외에 나노분말의 표면을 다양한 이종 소재로 응용하고자하는 나노캡슐(혹은 core/shell)화 제조 공정으로 진보되어 다양한 합금 시스템으로 발전하게 되었다. 특히 최근 Particles 2005, Surface Modification in Particle Technology 학회에서는 나노금속 혹은 세라믹 분말에 PMMA, PE등 polymer의 유기화합물의 코팅하여, DNA나 RNA를 부착하거나 추출해내는 나노캡슐화 공정 연구가 매우 활발하게 진행됨을 보여주고 있으며, 이들 나노 캡슐의 개발은 약물전달계(Drug delivery system), 온열치료용 및 MRI 조영제 등의 바이오재료로의 응용가능성이 크게 기대되어 이에 대한 연구들이 활발하게 진행될 것으로 예상된다.