• 제목/요약/키워드: 극자외선

검색결과 65건 처리시간 0.035초

극자외선 노광공정용 Mo/Si 다층 박막 미러의 구조 분석 (Structural Characterization of Mo-Si Multilayer Mirror for Extreme Ultraviolet Lithography)

  • 허성민;김형준;이승윤;윤종승;강인용;정용재;안진호
    • 한국마이크로전자및패키징학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국마이크로전자및패키징학회 2001년도 추계 기술심포지움
    • /
    • pp.213-216
    • /
    • 2001
  • 극자외선영역의 빛에대한 Mo/Si 반사형 다층 박막 미러를 스퍼터링 시스템으로 증착하여, 특성을 평가한 결과 3mTorr의 낮은 공정 압력에서 최적의 구조인자를 가진 다층 박막을 증착할 수 있었다. TEM, low angle XRD peak, 반사도 그래프로부터 다층 박막의 구조인자를 분석하였으며, 특히 low angle XRD peak로부터 다층박막의 d-spacing, 층간 두께 uniformity에 대한 정보 및 광학적 정보를 간접적으로 분석할 수 있었다. 최대 반사도는 12.7nm 파장에서 약 53%였으며, low angle XRD에서 추출한 d-spacing 값이 TEM 이미지에서 측정한 값보다 더 정확한 값을 얻을 수 있었다.

  • PDF

모든 3차 수차와 5차 구면수차를 제거하여 얻은 극자외선 리소그라피용 5-반사광학계 (Five Mirror System Derived From the Numerical Solutions of all Zero 3rd Order Aberrations and Zero 5th Order Spherical Aberration for DUV Optical Lithography)

  • 이동희
    • 한국광학회지
    • /
    • 제4권4호
    • /
    • pp.373-380
    • /
    • 1993
  • 축소배율(M=+1/5)을 갖는 극자외선(deep ultra-violet) 리소그라피용 5-반사광학계를 설계하였다. 먼저 모든 3차 수차와 5차 구면수차를 영으로 하는 수치적인 해를 구면에 대해서 구하였다. 다음 비교적 크게 나타나는 잔류 수차(구면수차, 코마)의 제거를 위하여 마지막 두 반사경에 대하여 비구면화를 optimization방법에 의해 이행하였다. 이렇게 하여 얻은 광학계는 광원을 KrF 엑시머 레이저(파장 $0.248{\mu}m$)로 하는 nearly incoherent illumination(${\sigma}$=1)인 경우, NA는 0.45, 분해능은 50% MTF 기준치에서 depth of focus $1.0{\mu}m$에 대해 약 500 cycles/mm의 성능을 갖는 시스템이 되었다.

  • PDF

길게 분출된 가스 표적을 이용한 밝은 저발산 고차 조화파 발생 (Generation of bright low-divergence high-order harmonics in a long gas jet)

  • 이동근;최일우;김형택;홍경한;남창희
    • 한국광학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국광학회 2002년도 하계학술발표회
    • /
    • pp.112-113
    • /
    • 2002
  • 최근에 극초단 고출력 레이저가 개발됨에 따라 이에 의한 강한 비선형 현상중의 하나인 고차 조화파(high-order harmonics)의 발생이 가능하게 되었다. 조사 레이저와 원자 간의 결맞는 과정에 의해서 생성된 고차 조화파는 레이저와 같은 좋은 결맞음과 펨토초 이하의 아주 짧은 펄스폭을 가질 수 있기 때문에 플라즈마 진단, 극자외선 광원을 이용한 비선형 광학, 아토초 영역의 물리적 현상을 관측하는데 아주 유용한 광원이 될 것으로 여겨져 오고 있다. (중략)

  • PDF

극 자외선 리소그래피용 감쇠형 위상 변위 마스크를 위한 ITO 박막의 광학 상수 결정

  • 강희영;김미경;황보창권
    • 한국광학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국광학회 2008년도 동계학술발표회 논문집
    • /
    • pp.279-280
    • /
    • 2008
  • 극자외선 영역(${\lambda}$=13.5 nm)에서 기하학적 그림자 효과를 줄이기 위해 ITO 박막을 RF 스퍼터링을 사용하여 증착하였다. 이를 러더퍼드 후방산란 분석법과 X-선 반사율 분석법을 이용하여 극 자외선 영역에서 ITO 박막의 광학상수를 결정하였다.

  • PDF