• Journal of Korean Ophthalmic Optics Society
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• v.20 no.4
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• pp.455-462
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• 2015

Purpose: To develop more accurate wet measuring system combining the wet cell, automatic lensmeter and the related software for hydrophilic contact lenses and to verify the accuracy of those measuring holder system already available in the market. Methods: Refractive power measurement were done in both a conventional method which has been commonly used in optical shops and a new method which is recently developed in korea. Hydrophilic contact lens of korean brand was chosen as a test material and was tested by water content ratio and by spherical refractive power. Results: When spherical power of -3.00 D contact lens is measured in the newly developed wet cell measurement holder with automatic lensmeter, it reads -3.01 D at water content ratio of 38%. -3.00 D at 45% and -2.98 D at 58%. The same experiment with the Poster soft contact lens wet cell measurement holder maintaining other conditions same resulted in -3.60 D at the water content ratio of 38%, -3.06 D at 45% and -2.46 D at 58%. Conclusions: At the higher water content, the refractive power values measured by both of the wet cell measuring holders are shown lower, and additionally, the new method using the wet cell holder and new software program in a automatic lensmeter showed more accurate readings than conventional Poster soft contact lens wet cell measuring system.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.8 no.6
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• pp.445-449
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• 1997

The complex refractive indices of $Ge_2Se_2Te_5$ which show reversible phase change between the crystalline phase and an amorphous one depending upon the annealing process have been determined in the spectral range of 0.7-4.5 eV. The $Ge_2Se_2Te_5$ films were DC sputter deposited on the crystalline silicon substrate. The spectro-ellipsometry data of a thick film were analyzed following the modelling procedure where the quantum mechanical dispersion relation were used for the complex refractive indices of both the cryastalline phase $Ge_2Se_2Te_5$ and and amorphous phase $Ge_2Se_2Te_5$, respectively. On the other hand, with the surface micro-roughness layer whose effective thickness was determined from AFM analysis, the spectro-ellipsometry data were numerically inverted to yield the complex refractive index of $Ge_2Se_2Te_5$ at each wavelength. With these set of complex refractive indices, the reflectance spectra were calculated and those spectra obtained from the numerical inversion showed better agreement with the experimental reflection spectra for both the cryastalline phase and an amorphous phase. Finally, the thin $Ge_2Se_2Te_5$ film which has the optimum thickness of 26 nm as the medium for optical recording was also analyzed and the quantitative result of the film thickness and the surface microroughness has been reported.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.02a
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• pp.316-316
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• 2013

실리콘(Si)은 이미지 센서, 포토검출기, 태양전지등 반도체 광전소자 분야에서 널리 사용되고 있는 대표적인 물질이다. 이러한 소자들은 광추출 또는 광흡수 효율을 향상시키는 것이 매우 중요하다. 그러나 Si의 높은 굴절율은 표면에서 30% 이상의 반사율을 발생시켜 소자의 성능을 저하시킨다. 따라서, 표면에서의 광학적 손실을 줄이기 위한 효과적인 무반사 코팅이 필요하다. 최근, 우수한 내구성과 광대역 파장 및 다방향성에서 무반사 특성을 보이는 서브파장 주기를 갖는 나노격자(subwavelength grating, SWG) 구조의 형성 및 제작에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 이러한 구조는 경사 굴절율 분포를 가지는 유효 매질을 형성시킴으로써 Fresnel 반사율을 감소시킬 수 있어 반도체 소자 표면에서의 광손실을 줄일 수 있다. 그러나, SWG나노구조는 식각에 의한 표면 결함(defects)들이 발생하게 된다. 이러한 결함은 표면에서의 재결합 손실을 발생시켜 소자의 성능을 크게 저하시킨다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 표면 보호막 및 무반사 코팅 층을 목적으로 하는 산화막을 표면에 형성시키기도 한다. 따라서 본 실험에서는 레이저간섭리소그라피 및 건식 식각을 이용하여 Si 기판에 SWG 나노구조를 형성하였고, 제작된 샘플 표면 위에 실리콘 산화막(SiOx)을 furnace를 이용하여 형성시켰다. 제작된 샘플들의 표면 및 식각 profile은 scanning electron microscope를 사용하여 관찰하였으며, UV-vis-NIR spectrophotometer 를 사용하여 빛의 입사각에 따른 반사율을 측정하였고, 표면 접촉각 측정 장비를 이용하여 표면 wettability를 조사하였다.

• Journal of Korean Ophthalmic Optics Society
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• v.5 no.2
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• pp.151-155
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• 2000

We calculated a refractive index of the lens surface by measuring a spectral reflectance for a tinted time on manufacturing of the color lens. The longer a tinted time, the larger a reflectance and reflective index. The refractive index increased for a time up to the colorant's saturation state on the lens surface. The refractive index's change curve of blue color lens for a time depended on the Boltzmann growth curve. then we obtained the parameter's values of $n_{min}=1.482$, $n_{max}=1.497$, $t_c=11.53$ and $d_0=2.287$.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2014.02a
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• pp.312.2-312.2
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• 2014

실리콘은 광센서, 태양전지, 발광다이오드 등 광소자 응용 분야에서 널리 사용되고 있는 물질이다. 그러나 실리콘의 높은 굴절율(n~3.5)은 표면에서 약 30% 이상의 Fresnel 반사를 발생시켜 소자의 효율을 감소시키는 원인이 된다. 따라서, 반사손실을 줄이기 위해서는 실리콘 표면에 효율적인 무반사 코팅을 필요로 한다. 기존의 단일 혹은 다중 박막을 이용한 무반사 코팅 기술은 물질간 열팽창계수의 불일치, 접착력 문제, 박막 두께 조절 및 적합한 굴절율을 갖는 물질 선택 어려움 등의 단점을 지니고 있다. 최근, 이러한 무반사 코팅 기술의 대안으로 곤충 눈 구조를 모방한 나노크기의 서브파장 격자구조 (subwavelength gratings, SWGs)에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다. 이러한 SWGs 구조는 공기와 반도체 표면 사이에 점진적, 선형적으로 변화하는 유효굴절율을 갖기 때문에, 광대역 파장영역뿐만 아니라 다양한 각도에서 입사하는 빛에 대해서도 효과적으로 Fresnel 표면 반사를 낮출 수 있다. 본 연구에서는 실리콘 기판 표면 위에 효율적인 무반사 특성을 갖는 계층적 SWGs 나노구조를 제작하기 위해, 레이저간섭리소그라피 및 열적응집금속 입자를 이용한 식각 마스크 패터닝 방법과 유도결합플라즈마 식각 공정을 이용하였다. 제작된 무반사 실리콘 SWGs 나노구조의 표면 및 식각 프로파일은 전자주사현미경으로 관찰하였고, 표면 접촉각 측정 장비를 이용하여 샘플 표면의 젖음성을 확인하였다. 제작된 샘플의 광학적 특성을 조사하기 위해 UV-vis-NIR 스펙트로미터와 엘립소미터 측정 시스템들을 이용하였다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 1998.08a
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• pp.130-131
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• 1998

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 1998.08a
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• pp.160-161
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• 1998

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2000.08a
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• pp.110-111
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• 2000

여기 파워는 고체 레이저 매질 내부에 열을 발생시킨다. 매질 내부에서 발생한 열은 매질 표면을 따라 냉각이 진행되어 매질 내부에서는 불균일한 온도분포가 발생하게 된다. 레이저 매질의 굴절율은 온도에 따라 변하기 때문에 열복굴절 현상과 열렌즈 현상이 일어나 레이저 출력의 손실, 빔질의 저하를 유발하고 열적 스트레스는 매질의 손상 및 모드 동기된 극초단 펄스가 넓어지는 등의 문제를 초래한다. 선형 편광 광선을 이용하는 고체 레이저에서 열복굴절에 의해 레이저 출력이 약 30 %까지 감소하므로 레이저 공진기를 구성하는데 있어서 정량적인 열영향의 해석이 필요하다. 열복굴절에 의해 발생한 손실량은 다음과 같이 표현할 수 있다. (중략)

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2011.05a
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• pp.62.2-62.2
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• 2011

산업화 이후, 석탄 석유를 중심으로 한 화석연료가 이산화탄소를 대량으로 배출하며 지구 온난화를 야기함에 따라, 기존의 화석연료를 대체할 청정하고 무한 재생 가능한 대체에너지로 가장 큰 기대를 받고 있는 것은 태양에너지이며, 이에 보조를 맞춰 태양광발전에 대한 연구개발이 국내외적으로 활발히 진행되고 있는 실정이다. 태양 전지는 빛 에너지를 직접 전기 에너지로 바꿔주는 소자로, 셀의 효율을 높이기 위해서는 최대한 많은 빛을 흡수시킬 수 있는 것이 중요하다. 빛의 반사를 줄이는 방법에는 texturing과 antireflecting coating이 있다. Antireflecting coating은 반도체와 공기의 중간 굴절율을 갖는 박막을 증착하여 측면 반사를 감소시킴으로서 빛의 손실을 감소시키는 역할을 한다. 과거에 반사방지막으로 가장 많이 사용되었던 물질은 SiO로써 굴절률은 1.8~1.9로서 최소의 반사율은 1% 미만이지만, 가시광선영역에서의 흡수에 의한 손실이 생기므로, SiNx가 대체 물질로 제안되었다. SiNx의 경우 굴절률이 약 1.5로서 Si에 쉽게 형성시킬 수 있고, texturing된 Si 표면에 적합하며 반사율을 10%에서 2%로 줄일 수 있는 장점을 가지고 있다. 따라서 본 연구에서는 high power, high frequency PECVD 방법으로 $SiH_4$와 $NH_3$ gas의 비율, $N_2$ carrier gas 등 공정 변수를 변화시켜 증착한 SiNx 박막의 결정학적 특성을 X-ray diffraction 분석과 XPS (X-ray photoelectron spectroscopy)를 통해 화학적 결합을 확인하였고, 이를 FT-IR (Fourier Transform-Infrared spectroscopy)를 통해 관찰한 결과와 연관시켜 분석하였다. 굴절율의 경우 ellipsometer를 이용하여 측정하였으며 위의 측정을 통하여 SiNx박막의 반사 방지막으로써의 가능성을 확인 하였다.

• Journal of the Korean Chemical Society
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• v.54 no.6
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• pp.755-760
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• 2010

This study used 3-vinylanisole and 4-vinylanisole with the cross-linker EGDMA (ethylene glycol dimethacrylate), HEMA (2-hydroxyethyl methacrylate), MMA (methyl methacrylate), NVP (N-vinyl-2-pyrrolidone) and the initiator AIBN (azobisisobutyronitrile) for copolymerization. Measurement of the physical characteristics of the copolymerized material showed that the refractive index is 1.4496 - 1.4894, water content 22.93 - 35.50%, visible transmittance 88.8 - 90.8%. Also, measurements showed that the refractive index increased while the water content decreased as the ratio of 3-vinylanisole and 4-vinylanisole increased. And in cases of copolymer with 3-vinylanisole, 4-vinylanisole (added 15%) the results showed transmittance of 52.8 - 82.2%, 13.2 - 26.2% respectively for UV-A and UV-B showing that they have UV-blocking effects. Based on the results of this study, the produced copolymer can be estimated to be suitable for use as ophthalmic lens material for high refractive index and UV- blocking effects.