• Title/Summary/Keyword: 광학적방법

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광학적 방법에 의한 전열관 레이저용접 감시기술

  • 백성훈;김민석;정진만;김철중
    • Proceedings of the Korean Nuclear Society Conference
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    • 1996.05d
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    • pp.449-454
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    • 1996
  • 원자력발전소 증기발생기 전열관의 레이저 슬리브 용접시, 레이저 전송 및 용접상태의 광학적 감시방법을 개발하였다. 전열관 레이저용접은 용접 중의 레이저 출력, 레이저 전송 광학계의 파손여부, 광학 정렬상태 등을 정확히 감시하며 수행하여야 하지만, 작업공간의 협소함과 방사능 공간이라는 어려움 때문에 적절한 감시방법이 없었다. 본 연구에서는 레이저 빔 전송을 위한 광섬유 광학계를 그대로 이용하여, 용접시 발생되는 radiation과 용접 표면에서 반사되는 Nd:YAG 레이저 빔을 측정하여 레이저 및 광학계 상태를 실시간 감시할 수 있는 기술을 실험적으로 확인하였다. 실험은 Inconel plate를 시편으로 이루어졌으며, 레이저 펄스길이, 레이저 반복률에 따른 감시 조건과 초점확인 기능에 대해서도 논의하였다.

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Stream Cipher System using Opitical Threshold Generator (광 스레쉬홀드 발생기를 이용한 스트림 암호 시스템)

  • 한종욱
    • Journal of the Korea Institute of Information Security & Cryptology
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    • v.7 no.1
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    • pp.15-32
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    • 1997
  • 본 논문에서는 스트림 암호 시스템에서 사용이 되는 LFSR 을 이용한 이진 수열 발생기중 하나인 Threshold 발생기에 대한 광학적 구현 방법을 새로이 제안하였다. 광학적 구현을 위하여 LCD를 이용하므로서 LFSR 및 Mod 덧셈 연산을 위한 각 비트 값을 표현, 2차원 처리가 가능하게 하였다. Thredshold 발생기의 LFSR기능은 Shdow Casting 기법을 이용하여, 또한 XOR 연산 및 내적 계산을 위한 MOD덧셈 연산은 LCD 가 갖고 있는 편광 특성을 이용하여 광학적으로 구현하였다. 특히 본 논문에서는 Mod 2 덧셈 연산을 위한 새로운 광학적 구현 방법인 RSPM 을 제안하므로서 연산 결과 값 측정과 LCD 상의 데이타 값 표현 과정을 제외한 전 부분을 완전한 광학적 방법으로 처리가 가능하게 하였다. 본 논문에서 제안한 광 Threshold 암호 시스템은 기존의 전자적인 H/W 구현 방법에서 문제가 되어오던 Tapping Point의 개수에 대한 한계성을 극복할 수 있는 장점을 지니고 있으며, 또한 2차원 데이타인 영상용 암호화 시스템의 광학적 구현에 그 응용이 가능하다.

플라즈마 방출광 진단을 이용한 플라즈마 진단 및 제어에 관한 연구

  • Choe, Jin-U;Park, Hye-Jin;Lee, Ye-Seul;Jo, Tae-Hun;Hwang, Sang-Hyeok;Kim, U-Jae;Yun, Myeong-Su;Cha, Seong-Deok;Gwon, Gi-Cheong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.215.2-215.2
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    • 2016
  • 플라즈마는 현대 산업에서 다양한 고부가가치 산업 분야에 걸쳐 이용되고 있다. 이러한 플라즈마를 정밀하게 진단하고 제어하는 기술이 공정의 수율을 증대하고 생산성을 높이는데 크게 기여함은 자명하다. 플라즈마를 진단하는 방법은 크게 광학적 진단 방법과, 전기적 진단 방법으로 나눌 수 있는데 광학적 진단 방법은 방전시 발생하는 방출광을 통해 플라즈마의 현재 상태를 예측하는 방법이고, 전기적 진단 방법은 플라즈마 내로 직접 탐침을 접촉하여 전기적 물리량을 측정하는 방법이다. 각각은 정성적, 정량적 진단을 하는 데에 장점이 있다. 공정 모니터링은 주로 광학적 진단 방법에 의해 이루어지는데 전기적 진단 방법은 플라즈마와 직접 접촉하기 때문에 플라즈마에 대한 간섭현상이 발생하므로 부적합하다. 해당 실험에서는 유도 결합형 플라즈마 발생 용기에 아르곤, 산소 혼합 유체를 유입하여 방전하며 광학적 진단 방법을 통해 플라즈마를 관측하며 실험을 진행하였다. 측정 장치는 3채널 광학 진단이 가능한 시스템을 구성하여 공정중 발생하는 방출광의 특정 피크 변화를 공정 변수 변화로 인지하여 질량 유량 제어기를 조작, 피크를 초기상태로 되돌리는 공정 제어가 가능하도록 시스템을 구성하였다. 이를 통해 플라즈마를 이용한 공정 중 공정 변화에 자동으로 대응하는 공정제어 시스템을 시험 하였다.

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Ray-optical determination of the coupling coefficients of waveguide gratings by use of the rigorous coupled wave theory (회절격자구조를 갖는 도파로 소자의 엄밀한 광선광학적 결합계수 계산)

  • 박선택;송석호;오차환;김필수
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.10 no.4
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    • pp.348-353
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    • 1999
  • Ray-optics approach based on the rigorous coupled wave theory, called by the rigorous ray-optics method (RROM), is developed for the calculation of couling coefficients of waveguide grating devices. The coupling coefficients of several grating structures, such as rectangular, sinusoidal, triangle, and trapezoidal shapes, are determined by the RROM, and they are compared with those obtained by conventional methods of the ray-optics method (ROM) and the coupled mode method (CMM). In the case of rectangular gratings, the coupling coefficients is evaluated in detail by various depths and duty-cycles of the grating. We have found that the RROM gives more exact solutions for the coupling coefficients of even arbitrary shapes of diffractive waveguide grating devices than the other conventional methods.

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Design and Deposition of Optica Thin Films (광학 박막의 설계 및 증착)

  • 황보창권
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2000.08a
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    • pp.152-152
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    • 2000
  • Abeles가 특성 행렬을 이용하여 기본 이론을 확립한 이래, 광학 박막의 설계는 개인용 컴퓨터의 출현으로 다양한 방법으로 쉽게 할 수 있으며, 그 응용이 빠르게 증가하고 있다. 또한 이온빔을 이용한 증착 기술의 발전으로 덩어리에 가까운 박막을 증착하고 있으며 박막의 광학적, 기계적 특성을 향상시키고 있다. 최근에는 초고속 다용량 광정보통신, 디스플레이, 레이저, 광센서, 광자기술, 광전자 등의 발전에 따라 고품질의 박막을 제작하기 위한 기술이 발전하고 있으며, 이에 따라 합성 설계 방법과 물질의 기본적 특성을 분석하기 위한 방법도 다양하게 발전되고 있다. (중략)

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Optical methods for Particle Size and Temperature Measurements (입자크기 및 온도측정을 위한 광학적 방법)

  • 김상수;서용재
    • Journal of the KSME
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    • v.33 no.12
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    • pp.1069-1075
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    • 1993
  • 측정기술이 발달함에 따라 실제 연소시스템에서 직접 응용할 수 있고, 시공간적으로 해상도가 높고 유동장과 온도장을 교란하지 않는 방법이 요구되고 있다. 이 글에서는 2장에서 광학적 방 법을 이용한 입자의 크기 측정법을 살펴보고, 3장에서는 광학적 방법을 이용한 온도의 측정법에 대하여 설명하고자 한다.

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Thickness control of multilayer thin film deposition by in-situ ellipsometer (타원편광계를 이용한 스퍼터링으로 증착되는 다층 박막의 실시간 두께 조절)

  • 이재홍;김성화;황보창권
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2002.07a
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    • pp.198-199
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    • 2002
  • 진공 증착장비에서 다층박막으로 구성된 광학필터를 증착할 경우, 증착되는 동안 설계된 최종 광학필터의 성능을 구현하기 위해서는 실시간으로 각각의 층들에 대한 굴절률(n)과 물리적 두께(d)를 제어하거나 또는 광학적 두께(nd)를 제어해야 한다. 광학적 두께를 제어하는 대표적인 예로 광모니터링 방법이 있는데, 증착되는 기판에 직접 빛을 입사시켜 기판에서 반사된 빛이나 투과된 빛의 세기를 측정하여 증착과정을 제어하는 방법이다. (중략)

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주기적으로 극성이 반전된 ZnO 구조의 형성 및 응용

  • Park, Jin-Seop;Hong, Sun-Gu;Jang, Ji-Ho;Ha, Jun-Seok;Yao, Takafumi
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2011.05a
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    • pp.24-24
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    • 2011
  • ZnO 직접 천이형의 와이드밴드갭 화합물 반도체로써 높은 엑시톤 결합 에너지를 가짐으로 해서 광전자나 광학디바이스로의 넓은 응용범위를 갖고 있다. 최근들어 ZnO의 비선형 광학 특성이 보고 됨으로써 새로운 광학 재료로서의 연구도 기대되고 있다. 본연구에서는 새로운 주기적 반전 구조를 제안함으로 해서 극성을 가지는 화합물 반도체의 비선형 광학 디바이스로의 응용 범위를 넓히고자 한다. ZnO는 Wurtzite 구조를 가짐으로 해서 성장 방향으로 Zn-극성 및 O-극성을 가지게 된다. 이런 자연 발생적인 극성에 의해 물리적, 화학적, 광학적 특성들이 바뀌게 됨으로, 극성의 제어는 재료의 특성을 극대화 시키기 위해 아주 중요한 항목이 되어 있습니다. 본 연구에서는 손쉽고 재현성이 확보되는 방법으로써, CrN 와 Cr2O 3의 완충층을 제안하여 ZnO 극성의 제어를 이루었고, 제안된 극성 제어 방식을 이용하여 주기적으로 Zn-극성과 O-극성이 배열된 구조(PPI 구조)를 형성 하였다. 패터닝과 재성장 방법을 통해서 다양한 구조와 사이즈의 1D, 2D PPI ZnO를 제작하는데 성공하였다. 주기적인 반전구조의 제작을 확인하기 위해 PRM(piezo response miscosocpy)이라는 방법을 통하여 주기적 극성 선택성을 확인하였으며, TEM과 PL 분석법을 통하여 구조적 광학적 특성을 분석하였다. 새롭게 제안된 극성 제어 방식을 이용하여 제작된 PPI 구조를 이용하여 비선형 광학소자로의 응용성을 확인하였다. 본발표에서는 PPI ZnO 구조의 형성방법, 분석 및 응용에 대한 제안과 결과가 논의될 것이다.

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Characteristics Of TiO$_2$ Optical Thin Films With Ag Content by RF Magnetron Co-sputtering Method (RF magnetron co-sputtering으로 제작한 TiO$_2$ 광학 박막의 Ag 함량에 따른 특성)

  • 김상철;김의정;한성홍
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2003.07a
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    • pp.282-283
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    • 2003
  • TiO$_2$ 박막은 높은 굴절률과 유전 상수를 가지며, 가시광선과 근적외선 영역에서 우수한 투과성을 나타낸다. 따라서, 전기적, 광학적 특성이 우수한 광학코팅에 응용되고 있다. 또한 화학적으로 안정하고 비교적 큰 에너지 밴드 갭을 지닌 반도체 물질로서 유전체 다층 박막을 제작하는데 있어서 중요한 물질로 사용되고 있다. TiO$_2$ 박막을 제작하기 위한 물리적인 방법으로는 sputtering, anodic 또는 thermal, e-beam evaporation 등이 이용되고 있으며, sol-gel법, CVD 등과 같은 화학적인 방법도 이용되고 있다. (중략)

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Active Control of Optimization Process in Lens Design by Using Lagrange's Undetermined Multipliers (광학설계의 최적화과정에서 Lagrange 부정승수를 이용한 능동적 제어)

  • 조용주;이종웅
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2000.08a
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    • pp.40-41
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    • 2000
  • 광학설계의 최적화에서는 최소자승법과 감쇠최소자승법이 주로 사용되고 있다. 최소자승법은 error의 제곱의 합을 최소화하는 방법으로, 이 방법은 최적점 부근에서의 불안정성이 발생하는 문제점이 있다. 감쇠최소자자승법은 최소자승법에 적절한 감쇠항을 부가함으로써 최적점 부근에서의 불안정성을 줄여주고 있다. 본 연구에서는 광학설계의 제한조건을 Lagrange 부정승수$^{(1)}$ 를 사용하여 감쇠최소자승법의 정규방정식에 결합하여 제한조건을 유지하면서 merit function을 줄이는 방법에 대하여 연구하였다. 이 방법에서는 제한조건이 merit function의 error 함수보다 우선적으로 보정되며, 이를 이용하여 매 iteration 마다 merit function에서 절대값이 큰 error를 감쇠최소자승법의 정규방정식에서 제거하고 이 보정조건을 제한조건에 추가함으로서 다른 error항 보다 우선적으로 보정되도록 하였다. 이 때 이 error를 한번에 보정하는 경우에는 merit function의 진동이 심하고 광학계가 사용불가능한 형태로 변화하는 경우가 많아 적절한 target ratio를 설정하여 반복과정을 통하여 점진적으로 보정되도록 하였으며, 이를 통하여 최적화의 안정성을 개선할 수 있었다. (중략)

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