• Title/Summary/Keyword: 공정시간

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A Study on the Surface Hardening in Low Alloy Steels using Plasma Nitriding (플라즈마 질화를 이용한 저합금강의 표면강화 연구)

  • 김동원;정진묵;이원종
    • Korean Journal of Crystallography
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    • v.10 no.1
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    • pp.13-19
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    • 1999
  • 저합금강인 SCM415강에 대한 플라즈마 질화의 변수에 따른 질화특성을 관찰하여 최적공정을 확립한 후 기존의 질화법인 염욕질화와 가스질화 되어진 시편과 피로특성을 비교하였다. 가스조정비는 질소대 수소의 비가 3:1일 때 가장 높은 표면강도를 가지며, 온도는 높아질수록 표면강도는 낮아지고 유효경화깊이는 깊어지는 것을 알 수 있었다. 또한 질화시간이 증가될수록 표면경도는 낮아지고 유효경화깊이는 깊어졌다. 본 플라즈마 질화장비에서의 최적공정조건은 공정온도 500℃, 공정시간 4시간, 질소와 수소의 비가 3:1으로 관찰되었고, 이 때 표면경도는 1181 Hv, 화합물층의 깊이 17 ㎛, 유효경화깊이 450 ㎛로 측정되었다. 가스질화 되어진 시편의 표면경도는 945 Hv, 유효경화깊이 250 ㎛였고, 염욕질화 되어진 시편의 경우는 각 846 Hv, 300㎛으로 관찰되었다. 또한 플라즈마 질화공정을 거친 질화강과 가스질화, 염욕질화 되어진 질화강의 피로특성을 평가한 결과 플라즈마 질화강이 가스질화, 염욕질화 되어진 질화강에 비하여 1.5∼2배의 우수한 피로특성을 나타내었다.

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Process Optimization of an Automated System Using Critical Path Method (Critical Path 기법을 이용한 자동화 시스템의 공정 최적화 사례 연구)

  • Lee, Seung-Yeon;Gang, Gil-Sun;Jang, Jong-Tae;Yu, Jun
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2003.11b
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    • pp.219-222
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    • 2003
  • 본 논문에서는 주어진 자동화 시스템에 대하여 Critical Path 기법을 적용한 최적화 연구를 수행하였다. 탄약 운반 자동화 시스템에 대하여 공정순서와 시간개념이 들어간 Timed Petri-Net을 이용한 이산사건 공정모델을 구축하였으며, 이를 기초로 초기조건 및 제약조건을 고려하여 제악탐색기법을 이용하여 Critical Path를 찾고 여유 공정을 산출항으로써 공정 시간 최적화를 수행하였다.

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직선운동을 하는 직립진자의 동적거동에 대한 이론적 모델링

  • Kim, Hyeong-Beom;Jang, Seung-Ho;Heo, Yu
    • Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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    • 1995.04a
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    • pp.74-74
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    • 1995
  • 생산공정의 합리화를 위한 자동화는 성력화와 공정효율의 극대화 및 제품 품질의 개선 효과를 가져오는 반면 생산유연성의 감소에 따른 다품종 소량생산에는 부적합한 경우가 많다. 특히 공정수가 많은 설비산업에서 다양한 품조의 생산이 요구되는 생산체제는 각각의 품종에 맞는 가공을 위하여 공정하인이 복잡해지고, 이에 따라 중간제품의 이동이 많아지며 실제 공정처리를 위한 시간 보다는 적제 및 이동을 위한 시간이 많이 소요되는 문제가 발생한다. (중략)

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Effects of Annealing Process on the Crystallinity and Tensile Strength of PTFE (PTFE의 결정화도와 인장 강도에 미치는 풀림(annealing) 공정의 영향)

  • Kim, Jung-Teag;Kim, Eun-Bong;Kim, Si-Young;Ju, Chang-Sik
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.48 no.1
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    • pp.53-57
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    • 2010
  • In this work, we made experimental studies on the annealing process of PTFE(polytetrafluoroethylene) at $290{\sim}350^{\circ}C$ and examined the effects on crystallinity and tensile strength of PTFE. The experiments were performed at air atmosphere and the processes progressed up to 8 hours. From measuring tensile strength and SEM(scanning electron microscopy) observation, we could know PTFE was anisotropic material due to the band structure. Crystallinity of raw and annealed PTFE was measured by DSC(differential scanning calorimetry). As a result, crystallinity of annealed PTFE decreased and tensile strength increased. Also, we could verify the relation between crystallinity and tensile strength of annealed PTFE was linear. Raw PTFE, however, dropped out from the linear relation. Finally, PTFE annealed at $350^{\circ}C$ for 6 hours showed the smallest crystallinity and the largest tensile strength.

The study about accelerating Photoresist strip under plasma (플라즈마 약액 활성화 방법을 이용한 Photoresist strip 가속화 연구)

  • Kim, Soo-In;Lee, Chang-Woo
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.17 no.2
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    • pp.113-116
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    • 2008
  • As the integration in semiconductor display develops, semiconductor process becomes multilayer. In order to form several layer patterns, etching process which uses photoresistor (PR) must be performed in multilayer process. Repeated etching processes which take long time and PR residue cause mortal problems in semiconductor. To overcome such problems, we studied about the solution which eliminates PR effectively by using normal dry and wet etching method using plasma activated PR strip solvent in liquid condition. At first, we simulate the device which activates the plasma and make sure whether gas flow in device is uniform or not. Under activated plasma, etching effect is elevated. This improvement reduces etching time as well as display production time of semiconductor process. Generally, increasing etching process increases environmental hazards. Reducing etching process can save the etchant and protect environment as well.

The Investigation of Microwave irradiation on Solution-process amorphous Si-In-Zn-O TFT

  • Hwang, Se-Yeon;Kim, Do-Hun;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.205-205
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    • 2015
  • 최근, 비정질 산화물 반도체를 이용한 TFT는 투명성, 유연성, 저비용, 저온공정이 가능하기 때문에 차세대 flat-panel 디스플레이의 back-plane TFT로써 다양한 방면에서 연구되고 있다. 산화물 반도체 In-Zn-O-시스템에서는 Gallium (Ga)을 suppressor로 사용한 a-In-Ga-Zn-O (a-IGZO) 뿐만 아니라, Magnesium (Mg), Hafnium (Hf), Tin (Sn), Zirconium (Zr) 등의 다양한 물질이 연구되었다. 그 중 Silicon (Si)은 Ga, Hf, Sn, Zr, Mg과 같은 suppressor에 비해 구하기 쉬우며 가격적인 측면에서도 저렴하다는 장점이 있다. solution 공정으로 제작한 산화물 반도체 TFT는 진공 시스템을 사용한 공정보다 공정시간이 짧고, 저비용, 대면적화가 가능하다는 장점이 있다. 하지만, 투명하고 유연한 device를 제작하기 위해서는 저온 공정과 low thermal budget은 필수적이다. 이러한 측면에서 MWI (Microwave Irradiation)는 저온공정이 가능하며, 짧은 공정 시간에도 불구하고 IZO 시스템의 산화물 반도체의 전기적 특성 향상을 기대할 수 있는 효율 적인 열처리 방법이다. 본 연구에서는 In-Zn-O 시스템의 TFT에서 silicon (Si)를 Suppressor로 사용한 a-Si-In-Zn-O (SIZO) TFT를 제작하여 두 가지 열처리 방법을 사용하여 TFT의 전기적 특성을 확인하였다. 첫 번째 방법은 Box Furnace를 사용하여 N2 분위기에서 $600^{\circ}C$의 온도로 30분간 열처리 하였으며, 두 번째는 MWI를 사용하여 1800 W 출력 (약 $100^{\circ}C$)에 2분간 열처리 하였다. MWI 열처리는 Box Furnace 열처리에 비해 저온 공정 및 짧은 시간에도 불구하고 향상된 전기적 특성을 확인 할 수 있었다.

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Design of Disturbance Observer-Based Robust Controller for a Integrating Process System with Time-Delay (시간 지연을 갖는 적분 공정 시스템에 대한 외란 관측기 기반 강인 제어기 설계)

  • Jeong, Goo-Jong;Son, Young-Ik
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2008.10b
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    • pp.81-82
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    • 2008
  • 제어대상 시스템에 시간지연과 외란이 동시에 존재하는 경우, 스미스 예측기와 외란 관측기를 함께 사용하면 시간지연과 외란으로 인한 시스템의 성능저하를 완화할 수 있다. 또한 유동적인 시간지연에 대비하여 시간지연을 갖는 2차 시스템 모델링 기법으로 설계된 PID 제어기를 이용하면 시간지연에 대해 강인한 제어 시스템을 얻을 수 있다. 한편, 이전에 사용된 2차 시스템 모델링 기법의 적용범위가 한정되어 있어 이 방법은 적분 공정을 포함하는 시스템의 제어 문제에는 적용되지 못하였다. 본 논문에서는 적분공정을 포함하는 시스템에 적용될 수 있는 새로운 2차 시스템 모델링 기법의 PID 제어기를 통해 외란과 시간지연에 강인한 제어기 설계 기법을 제안한다. 모의실험을 통해 이전의 방법과 그 성능을 비교한다.

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Incompatible Batch Scheduling with Setup Time (공정 교체 시간을 고려한 배치작업의 일정관리)

  • 김주일;이영훈
    • Proceedings of the Korean Operations and Management Science Society Conference
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    • 2000.04a
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    • pp.103-106
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    • 2000
  • 본 논문은 작업이 공정시간 등의 특성으로 인해 Family 로 구분되어지고 동일한 Family 내의 작업끼리만 배치로 구성할 수 있는 제조환경에서의 스케줄링에 관한 연구이다. 이때 배치의 최대크기는 정해져 있어 그 이하의 수로 구성된 작업들로 하나의 배치를 구성할 수 있다. 동일 Family 내의 작업은 작업시간이 동일하고 배치로 구성된 작업이 진행될 때 수에 관계없이 하나의 작업에 소요되는 시간과 동일한 시간이 소요된다. 또한 다른 Family 와의 작업이 이어질 때는 교제시간이 발생한다. 목적함수는 전체지연 시간을 최소화하는 것이며 납기는 동일한 Family 에 있는 작업일지라도 각 작업별로 주어진다. 이 목적함수의 최적해를 구할 수 있는 동적계획법을 제시하고 이를 응용한 발견적 기법을 개발, 적용하여 각각 성능비교를 실시하였다.

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Development of the Vacuum Drying Process for the PWR Spent Nuclear Fuel Dry Storage (경수로 사용후핵연료 건식저장을 위한 진공건조공정 개발)

  • Baeg, Chang-Yeal;Cho, Chun-Hyung
    • Journal of Nuclear Fuel Cycle and Waste Technology(JNFCWT)
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    • v.14 no.4
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    • pp.435-443
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    • 2016
  • This paper describes the development of a dry operation process for PWR spent nuclear fuel, which is currently stored in the domestic NPP's storage pool, using a dual purpose metal cask. Domestic NNPs have had experience with wet type transportation of PWR spent nuclear fuel between neighboring NPPs since the early 1990s, but no experience with dry type operation. For this reason, we developed a specific operation process and also confirmed the safety of the major cask components and its spent nuclear fuel during the dual purpose metal cask operation process. We also describe the short term operation process that was established to be completed within 21 hours and propose the allowable working time for each step (15 hours for wet process, 3 hours for drain process and 3 hours for vacuum drying process).

Influence of Mixing Procedure on Properties of Rubber Compounds Filled with Both Silica and Carbon Black (배합 공정이 실리카와 카본블랙으로 보강된 고무 배합물의 특성에 미치는 영향)

  • Joo, Chang-Whan;Kim, Dong-Chul;Choi, Sung-Seen
    • Elastomers and Composites
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    • v.37 no.1
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    • pp.14-20
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    • 2002
  • Silica-filled rubber compound needs longer mixing time compared to carbon black-filled one since it has poor dispersion or the filler. Influence of the mixing procedure on the properties of natural rubber compound filled with both silica and carbon black was studied. The discharge temperature of the master batch (MB) mixing was $150^{\circ}C$. The mixing time was longer when silica and carbon black were loaded separately than when loaded simultaneously. The mixing time was longer when silica was loaded first than when carbon black is loaded first. The compounds prepared by one MB step (conventional mixing) were compared with the compounds prepared by two MB steps (two-step mixing). Scorch times of the two-step mixing compounds were longer than those by the conventional mixing ones. Bound rubber contents of the formers were lower than those of the tatters. The two-step mixing vulcanizates had longer elongation at break, higher tensile strength, and better fatigue life.